• 전기학회논문지
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• 제59권9호
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• pp.1652-1657
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• 2010

This paper analyzes optimal stirrer parameter to improve field uniformity in a mode-stirred reverberation chamber. Stirrer parameter is varied about stirrer height and stirrer angle. Also we analyze quality factor, number of excited modes and stirrer efficiency that affect field uniformity. The results show good performance as higher as stirrer height. Isotropic field distribution is formed at $45^{\circ}$ stirrer angle. When stirrer angle varies, scattering characteristic of incident wave are changed. So electric field distribution in a mode-stirred reverberation chamber is also changed. Therefore, it affect field uniformity. The results expect to help that designs stirrer for get better field uniformity. Immunity test performed designed mode-stirred reverberation chamber for semiconductor that categorized by technology. Test result shows that good recurrence compared wave-guide immunity test.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제20권3호
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• pp.83-86
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• 2021

In this paper, electric fields in electromagnetic reverberation chambers, which are used as a substitute facility for EM-free anechoic chambers, are analyzed. This paper focused on the 4-5 GHz band, which is expected to adversely affect equipment. To analyze the field uniformity inside the electromagnetic reverberation chamber, electric field strengths are sampled and finite-difference time-domain method was used for numerical analysis. Moreover, Quadratic residue diffuser was used to improve the characteristics of the electromagnetic reverberation chamber and the uniformity of the internal field strength. Standard deviation, tolerance characteristics, and partiality characteristics were compared while varying the aiming point of transmission antenna.

• 한국전자파학회논문지
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• 제28권12호
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• pp.1003-1006
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• 2017

본 논문에서는 실드 박스를 이용하여 다수의 휴대 단말기의 무선 성능을 시험할 경우, 발생하는 실드 박스 내 전기장 불균일 현상을 시뮬레이션을 통해 분석하였고, 전기장 균일도를 개선하기 위해서 두 가지 방법을 제시하였다. 제시한 방법들이 단말기 사이의 전기장 균일도를 크게 개선할 수 있음을 확인하였다.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제16권11호
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• pp.1041-1046
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• 2003

In order to improve the surface uniformity and the conduction properties of the fabricated YBCO thick films, a system that applies alternating field vertically to the EPD field has been developed for the first time and applied to the electrophoretic deposition process. The applied alternating electric field, so called Shaky Alternating Assisted Field, caused a force to be exerted on each YBCO particle and resulted in a shaking of the particle in the direction of applied electric field, accomplishing a uniform particle orientation. The usual commercial electrical power was used for the vertically applied alternating voltage and the induced electric field was 25-120 V/cm at 60Hz. The thick film fabricated by the method developed in this paper showed better surface uniformity without crack and porosity and improved film characteristics such as critical temperature (Tc,zero = 90 K) and critical current density (2354 A/$\textrm{cm}^2$), Therefore, it is expected that the shaky-aligned electrophoretic deposition method can be used to fabricate superconductor films through a simpler process and at less expense.

• 전기학회논문지
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• 제60권4호
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• pp.753-758
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• 2011

Magnetic field and Electric field of High Temperature Superconducting magnet are very important to analysis of superconducting magnet. The maximum perpendicular magnetic field was applied to the outermost pancake windings. The critical current of all the magnet windings is limited by the critical current of the outermost pancake windings. The E-J relation was used to determine the critical current, and an evolution s trategy was adopted for the optimization of gap length between each pancake windins. The results of calculations show that the critical current and the central magnetic field and uniformity increased by 82.6% and 31.6% and 50.8%, respectively, for a magnet consisting of ten pancake windings. This paper did an analysis the cause of increase the critical current and central magnetic field and uniformity in no gap and optimal gap model.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.1
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• pp.111-114
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• 2003

In order to improve the surface uniformity and the conduction properties of the fabricated YBCO thick films, a system that applies alternating field vertically to the EPD field has been developed for the first time and applied to the electrophoretic deposition process. The applied alternating electric field caused a force to be exerted on each YBCO particle and resulted in a shaking of the particle in the direction of applied electric field, accomplishing a uniform particle orientation. The usual commercial electrical power was used for the vertically applied alternating voltage and the induced electric field was 25-120 V/cm at 60Hz. The thick film fabricated by the method developed in this paper showed better surface uniformity without crack and porosity and improved film characteristics such as critical temperature ($T_{c,zero}$ : 90 K) and critical current density ($2354\;A/cm^2$). Therefore, it is expected that the shaky-aligned electrophoretic deposition method can be used to fabricate superconductor films through a simpler process and at less expense.

• 한국전자파학회논문지
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• 제18권5호
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• pp.496-502
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• 2007

본 논문에서는 마이크로파 가열 시스템에서 가열을 위한 반응기로 사용되는 다중 모드 공동기 내부의 전계 분포를 균일하게 형성시키기 위한 슬롯 도파관 급전기를 설계, 제작하였다. 기존의 급전기 경우에는 다중 모드 공동기 내부의 전계를 균일하게 해주기 위해 모드 스터러나 턴테이블과 같은 추가적인 부품을 공동기 내부에 설치해 사용하였다. 제안된 슬롯 도파관 급전기는 자체적으로 균일한 방사를 갖도록 구형 도파관의 넓은 면에 4개의 슬롯이 있고 양쪽의 개구면이 단락된 구조를 특징으로 한다. 제안된 급전기가 장착된 다중 모드 공동기 내부의 전계 분포는 CST사의 MWS(Microwave Studio)를 이용하여 시뮬레이션 하였고, 기존의 급전기를 장착한 경우보다 더 균일한 전계 분포 특성을 보임을 확인하였다. 제작된 급전기는 사용 주파수 2.45 GHz에서 -20 dB 이하의 반사 손실을 보였다. 우리 제안의 타당성을 검증하기 위해, 공동기 내에 물 시료들을 배치해 일정시간 가열시켜 가열 전후의 온도 변화를 관찰하였다. 온도 변화는 공동기에 기존 급전기를 장착한 경우, 중앙과 가장 자리에 있는 시료들 사이에 약 $3.5^{\circ}C$, 제안된 급전기를 장착한 경우에는 약 $0.7^{\circ}C$의 차이를 보였다. 이를 통해, 제안된 급전기가 기존의 급전기보다 다중 모드 공동기 내의 전계 분포 균일성 향상에 기여함을 확인하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2004년도 제27회 학술발표회 초록집
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• pp.84-84
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• 2004

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 1998년도 추계종합학술대회 논문집
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• pp.573-576
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• 1998

In this paper, we analyzed electric field density and plasma condition to ICP reactor geometry structure, to generate plasma, to maintain plasma uniformity of large area LCD panel in ICP reactor also, we simulated electric field density for all kind existence current (antena and plasma current) in ICP reactor to analyze plasma antena structure

• 대한전자공학회논문지TC
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• 제45권8호
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• pp.121-127
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• 2008

본 논문은 원통형 확산기를 사용한 전자파 잔향실내의 전기장 분포에 관하여 다루었다. $1{\sim}3$ GHz 주파수 대역의 QRD(Quadratic Residue Diffuser)와 원통형 확산기(Cylindrical Diffuser)를 설계 후 각각의 전기장 분포 특성을 비교하였다. 전기장 분포 특성 및 전기장 균일도를 조사하기 위해 FDTD(Finite-Difference Time-Domain) 수치 해석 방법을 사용하였으며, 2 GHz에서 수치해석 결과 원통형 확산기를 사용하였을 경우 기존의 QRD를 사용한 경우에 비하여 표준편차와 공차는 각각 0.11 dB, 0.43 dB 개선되었고, 전기장 세기는 QRD의 36.6 dBmV/m보다 높은 43.2 dBmV/m로 나타났으며, 편파 특성면에서도 QRD보다 개선되었음을 확인 할 수 있었다. 따라서 원통형 확산기를 사용한 전자파 잔향실이 소형 전자기기의 전자파 장해 및 복사 내성 측정을 위한 대용시험 시설로 사용될 수 있음을 확인하였다.