A new electrode structure is proposed in this paper which can increase the discharge efficiency of plasma display panels and also decrease the panel capacitance by decreasing the electrode area effectively. Even with the decreased electrode area, the proposed structure could suppress the requirement for increasing the voltage and improve efficiency by limiting the discharge current.
Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
/
1999.11a
/
pp.46-52
/
1999
Laser diagnostics have been extensively used to understand plasma behaiviour under different discharge conditions. Measurements were performance for (i) electric field, (ii) electron temperature and density, and (iii) reaction products due to chemical reactions by electron impacts. The knowledge thus gained has been extensively used to realize novel plasma performances, such as epitaxial thin film depositions using plasma sputtering, performance improvements of discharge-pumped excimer laser, and developments of environmental equipment.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
/
2015.11a
/
pp.183-183
/
2015
Arc in plasma processing chamber results in high current discharge marks and particles on wafers, but it is hard to identify or observe it during the proc ess. In this paper, we report the observations of plasma arc s during various plasma proc esses through a non-invasive optic al plasma monitoring system (OPMS) devised for the in-situ detec tion of abnormal discharge.
Correlation between coil configurations and the discharge characteristics such as plasma density and the electron temperature in a newly designed magnetized inductively coupled plasma (M-ICP) etcher were investigated. Radial and axial magnetic flux density distributions as well as the magnetic flux density on the center of the substrate holder were controllable by placing multiple circular coils around the etcher. The plasma density increased up to 60.7% by arranging coils (or optimizing magnetic flux density distributions inside the etcher) properly although the magnetic flux density on the center of the substrate holder was fixed at 7 Gauss.
Plasma actuator makes parallel flow on the wall surface by the interaction between plasma and neutral air particles. Dielectric barrier discharge (DBD) plasma actuator is widely studied as one type of plasma actuators, which consists of one electrode exposed to the environmental gas and the other encapsulated by a dielectric material. This paper is experimentally focused on the performance of DBD plasma actuator mounted on a flat plate, which depends on kinds of the electrode materials, their thicknesses and the supplied voltage including its frequency. We measured the velocity magnitudes of the induced flow by a stagnation probe as a performance parameter of the plasma actuators. The velocity profiles of the flow induced by the plasma actuators are similar in all measurement cases. The magnitude of the induced velocity is strongly influenced by the thickness of the electrodes and the frequency of the input voltage. The performance of DBD plasma actuators is related to the electric properties of the electrode materials such as the ionization energy and the electrical resistivity.
As increasing the use of pesticides both in number and amount to boost crop production, consumer concerns over food quality and safety with respect to residual pesticides are also continuously increasing. However, there is still lacking of information that can effectively help to remove residual pesticides in foods. In recent years, contaminant removal by gas (or) glow discharge plasma (GDP) attracts great interests on environmental scientists because of its high removal efficiency and environmental compatibility. It was shown to be effective for the removal of some organophosphorus pesticides, phenols, benzoic acid, dyes, and nitrobenzene on solid substrate or in aqueous solution. This work mainly focuses on the removal of wide range of residual pesticides from fresh fruits and vegetables. As for preliminary study, the experiments were carried out to investigate whether GDP can be used as an effective tool for degrading target pesticides or not. With this objective, 60 selected pesticides drop wised onto glass slides were exposed to two types of GDP, dielectric barrier discharge plasma (DBDP) and low pressure discharge plasma (LPDP), for 5 min. Then, they were washed with 2 mL MeCN which were collected and used for determination of remaining concentration of pesticides using LC-MS/MS. Among selected pesticides, degradation of 18 pesticides (endosulfan-total was counted as one pesticide) by GDP could not be examined because control treatments, which were left in ambient environment, of those pesticides recovered less than 70% or even did not recover. However, majority of tested pesticides (42) were degraded by both types of GDP with satisfactory recovery (>80%) of control sample. Pesticides degradation ranged from 66.88% to 100% were achieved by both types of plasma except clothianidin which degradation in LPDP was 26.9%. The results clearly indicate that both types of gas discharge plasma are promising tools for degrading wide range of pesticides on glass substrate.
Transactions of the Korean Society of Automotive Engineers
/
v.10
no.6
/
pp.65-71
/
2002
Characteristics of corona discharge of the different types of the plasma reactors which are cone-hole and cone-plate is investigated experimentally. The discharge starts at lower voltage for the cathode corona than the anode corona and spark occurs at higher voltage for the cathode corona. And the cathode corona makes more stable discharge than the anode corona. The effect of the base gas in corona discharge for different O$_2$/N$_2$ concentrations is related with the gas molecular weight. The discharge for the smaller molecular weight gas occurs easier than for the high molecular weight gas. The discharge current decreases with the increase of oxygen concentration and it increases more sharply for anode corona than for cathode corona as discharge voltage increases after corona onset voltage. NO-NO$_2$ conversion increases with the energy density of corona discharge and the addition of O$_2$ in a base N$_2$ gas.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
/
v.48
no.10
/
pp.710-715
/
1999
The purpose of this work is to develop a high-efficiency air cleaning system for air pollutants such as particulate and gaseous state in indoor environments. In order to enhance a removal efficiency of gaseous state pollutants, we suggested that pulsed discharge plasma be combined with $TiO_2$ photocatalyst (photocatalytic plasma air cleaning unit). We investigated experimentally the basic characteristics of photocatalytic plasma air cleaning unit and measured air pollutants removal efficiency. The wavelength of light radiated from pulsed discharge plasma under the atmospheric condition was 310~380nm. Its energy is enough to excite the $TiO_2$ photocatalyst and it makes a photochemical reaction in the surface of $TiO_2$ photocatalyst. The removal quantity of trimethylamine$((CH_3)_3N)\; was\; 130mg/m^34 which is twice quantity of pulsed discharge plasma without $TiO_2$ phtocatalyst unit. From the result of gas analysis using FT-IR, nitric oxide was not detected and trimethylamine was decomposed to $H_2O\; and \;CO_2$. And trimethylamine removal efficiency was 95%. These experimental results indicate that photocatalytic plasma air cleaning unit is a potential method in removing the pollutants.
Chun, Hui-Gon;Oskomov, Konstantin V.;Sochugov, Nikolay S.;Lee, Jing-Hyuk;You, Yong-Zoo;Cho, Tong-Yul
Journal of the Semiconductor & Display Technology
/
v.2
no.1
/
pp.1-5
/
2003
Plasma generator based on non-self-sustained low-pressure arc discharge has been examined as a tool for deposition of highly-adhesive hydrogenated amorphous diamond-like carbon(DLC) films. Since the discharge is stable in wide range of gas pressures and currents, this plasma source makes possible to realize both plasma-immersion ion implantation(PIII) and plasma-immersion ion deposition(PIID) in a unified vacuum cycle. The plasma parameters were measured as functions of discharge current. Discharge and substrate bias voltage parameters have been determined for the PIII and PIID modes. For PIID it has been demonstrated that hard and well-adherent DLC coating are produced at 200-500 eV energies per deposited carbon atom. The growth rates of DLC films in this case are about 200-300 nm/h. It was also shown that short(∼60$\mu\textrm{s}$) high-voltage(> 1kV) substrate bias pulses are the most favorable for achieving high hardness and good adhesion of DLC, as well as for reducing of residual intrinsic stress are.
Yu, Gwang Jun;Kim, Young Sun;Lee, Dong Yoon;Park, Jae Jun;Lee, Se Hee;Park, Il Han
Journal of Electrical Engineering and Technology
/
v.9
no.1
/
pp.307-312
/
2014
We present a full finite element analysis for plasma discharge in etching process of semiconductor circuit. The charge transport equations of hydrodynamic diffusion-drift model and the electric field equation were numerically solved in a fully coupled system by using a standard finite element procedure for transient analysis. The proposed method was applied to a real plasma reactor in order to characterize the plasma sheath that is closely related to the yield of the etching process. Throughout the plasma discharge analysis, the base electrode of reactor was tested and modified for improving the uniformity around the wafer edge. The experiment and numerical results were examined along with SEM data of etching quality. The feasibility and usefulness of the proposed method was shown by both numerical and experimental results.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.