1 |
S. Imai, J. Vac. Sci. Technol. B 26, 2008 (2008).
DOI
|
2 |
A. C. Westerheim, A. H. Labun, J. H. Dubash, J. C. Arnold, and H. H. Sawin, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 853 (1995).
DOI
|
3 |
H. H. Doh, C. K. Yeon, and K. W. Whang, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 664 (1997).
DOI
|
4 |
K. Nojiri and E. Iguchi, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1451 (1995).
DOI
|
5 |
T. Maruyama, T. Narukage, R. Onuki, and N. Fujiwara, J. Vac. Sci. Technol. B 28, 854 (2010).
DOI
|
6 |
S. Hosomi and N. Omori, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 585 (1997).
DOI
|
7 |
H. J. Lee, J. H. Kim, K. W. Whang, and J. H. Joo, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1007 (1996).
DOI
|
8 |
Y. Sung, H. B. Lim, and R. S. Houk, J. Anal. At. Spectrom 17, 565 (2002).
DOI
|
9 |
W. H. Lee, H. W. Cheong, J. W. Kim, and K. W. Whang, Plasma Sources Sci. Technol. 24, 065012 (2015).
DOI
|
10 |
H. W. Cheong, J. Magn. 20, 360 (2015).
DOI
|
11 |
F. F. Chen, Introduction to Plasma Physics and Controlled Fusion, Planum Press, New York and London (1984).
|