• 한국자기학회지
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• 제19권4호
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• pp.147-151
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• 2009

전도성 저항특성이 우수한 비정질 CoFeHfO재료의 자화곡선 및 토오크 측정으로부터 포화자화량 및 일축이방성상수를 도출하였으며, 이들 결과를 Landau-Lifshitz-Gilbert(LLG) 이론에 적용하여 마이크로파대역의 복소투자율 특성을 분석하였다. LLG 분석 결과 CoFeHfO 박막 재료의 감쇠상수(damping factor)는 ${\alpha}$ = 0.014로 매우 작은 값을 보였다. 이는 CoFeHfO 재료 내에 존재하는 다양한 자성상(magnetic phase)들 중 감쇠상수가 현저히 작은 자성상들에 의하여 유발되었음을 자기장의 세기에 따른 FMR(ferromagnetic resonance) 신호의 선폭 분석을 통하여 알 수 있었다.

• Journal of Magnetics
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• 제11권4호
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• pp.167-169
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• 2006

Nanocrystalline CoFeHfO thin films have been fabricated by RF sputtering method. It is shown that the CoFeHfO thin films possess not only high electrical resistivity but also large saturation magnetization and anisotropy field. Among the composition investigated, $Co_{53}FE_{22}Hf_{10}O_{15}$ thin film is observed to exhibit good soft magnetic properties: coercivity ($H_{c}$) of 0.18 Oe; anisotropy fild ($H_{k}$) of 49.92 Oe; saturation magnetization ($4{\Pi}M_{s}$) of 15.5 kG. The frequency response of permeability of the film is excellent. The excellent magnetic properties of this film in addition of an extremely high electrical resistivity (r) of $185\;{\mu}cm$ make it ideal for uses in high-frequency applications of micromagnetic devices. It is the formation of a peculiar microstructure that resulted in the superior properties of this film.

• 한국자기학회지
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• 제16권4호
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• pp.197-200
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• 2006

RF magnetron reactive sputtering법으로 CoFeHfO 박막을 상온에서 제작하여 산소분압에 따른 포화자화, 보자력, 이방성자계를 조사하였다. 최적조건인 산소분압 8%에서 제조한 $Co_{39}Fe_{34}Hf_{9.5}O_{17.5}$ 박막은 포자자속밀도($4{\pi}M_s$) 19kG, 보자력($H_c$) 0.37Oe, 이방성자계($H_k$) 48.62Oe의 우수한 연자성을 나타내었다. CoFeHfO 박막의 전기비저항은 산소분압이 늘어남에 따라 증가하는 경향을 나타내었으며 우수한 연자기적 성질을 가지는 $Co_{39}Fe_{34}Hf_{9.5}O_{17.5}$ 박막의 경우, 300 ${\mu}{\Omega}cm$의 높은 전기비저항과 48.62 Oe의 높은 이방성자계 때문에 $Co_{39}Fe_{34}Hf_{9.5}O_{17.5}$박막이 고주파에서 우수한 연자기 특성을 가지는 것으로 사료된다.