Purpose: The purpose of this study was to compare the qualities of the four different processing chemicals (solutions). Materials and Methods: With EP 21 films(Ektaspeed plus film, Kodak Co., USA), nine unexposed and nine exposed films of a step wedge were processed utilizing automatic film processor(XR 24, Durr Co., Germany) for 5 days. During 5 days, the total number of processed films including out-patient' s intraoral films were about 400-500 for each brand. Base plus fog density, film density, contrast of processed films were measured with densitometer(model 07-443 digital densitometer, Victoreen Co., USA). These measurements were analyzed for comparison. Results: The results were as follows, 1. For the base plus fog density. there was significant difference among the four chemicals (p<0.05). The sequence of the base plus fog densities was in ascending order by Kodak, X-dol 90. Agfa and Konica. 2. For the film density. all chemicals showed useful range of photographic densities(0.25-2.5). The sequence of the film densities was in ascending order by Kodak, X-dol 90, Konica and Agfa. But there was no statistically significant difference of film density between X-dol and Kodak (p<0.05). 3. The sequence of the contrasts was in ascending order by Konica, X-dol 90, Kodak and Agfa. But there was no statistically significant difference of contrast between X-dol and Konica (p<0.05). Conclusion: These results indicated that the four processing chemicals had clinically useful film density and contrast. but only Kodak processing chemical had useful base plus fog density.
A high-quality CIGS film with a selenization process needs to be developed for low-cost and large-scale production. In this study, we used $Cu_2In_3$, CuGa and $Cu_2Se$ sputter targets for the deposition of a precursor. The precursor deposited by sputtering was selenized in Se vapor. The precursor layer deposited by the co-sputtering of $Cu_2In_3$, CuGa and $Cu_2Se$ showed a uniform distribution of Cu, In, Ga, and Se throughout the layer with Cu, In, CuIn, CuGa and $Cu_2Se$ phases. After selenization at $550^{\circ}C$ for 30 min, the CIGS film showed a double-layer microstructure with a large-grained top layer and a small-grained bottom layer. In the AES depth profile, In was found to have accumulated near the surface while Cu had accumulated in the middle of the CIGS film. By adding a Cu-In-Ga interlayer between the co-sputtered precursor layer and the Mo film and adding a thin $Cu_2Se$ layer onto the co-sputtered precursor layer, large CIGS grains throughout the film were produced. However, the Cu accumulated in the middle of CIGS film in this case as well. By supplying In, Ga and Se to the CIGS film, a uniform distribution of Cu, In, Ga and Se was achieved in the middle of the CIGS film.
생분해성으로서 가식성인 alginate 필름을 가공하기 위한 기초자료로써 $3\%$$Na_2CO_3$ 추출시간 5시간으로 추출한 alginate로 만든 alginate 필름의 수증기 투과율과 장력성에 영향을 미치는 alginate농도와 가소제의 종류별 첨가량에 관한 조건을 측정한 결과는 다음과 같다. Alginate의 농도가 증가할수록 인장강도는 증가하였으나 수증기 투과율과 신장도는 감소하였다. 반면에 가소제의 첨가량이 증가할수록 수증기 투과율과 신장도는 증가하였으나 인장강도는 감소하였다. 가소제의 종류별에 따른 수증기 투과율은 glycerol, polyethylene glycol 및 sorbitol 첨가 필름 순으로 높게 나타났으며, 인장강도는 polyethylene glycol, sorbitol, glycerol 첨가 필름 순서이었으나 신장도는 그 반대되는 결과였다. 가소제의 종류와 필름의 색은 sorbitol 첨가 필름의 색이 가장 자았고, 황색도는 glycerol 첨가 필름이 가장 높았고, 적색도는 polyethylene glycol 첨가 필름이 가장 높았다. 그리고 전체적인 색의 차이에서는 polyethylene glycol 첨가 필름이 가장 높았다.
질화철(FeN)막을 이용한 FeN/Co/Cu/Co와 FeN/Co/Cu/Co/Cu/Co/FeN 다층막의 자기저항효과를 조사하였다. 질소유량이 0.4 sccm 이상인 조건에서 제작한 FeN막의 결정구조는 $\alpha$-Fe와 $\varepsilon$-Fe$_3$N상의 혼합상이며 침상구조인 $\varepsilon$-Fe$_3$N상에 의해 유도되는 형상자기이방성 때문에 자기저항효과가 관찰된다. 자기저항효과는 FeN막의 질소 유량과 두께에 따라서 달라지며 이는 FeN막의 $\varepsilon$-Fe$_3$N상에 의해 유도되는 형상자기이방성이 자유층과 고착층에 미치는 범위가 질소유량과 두께에 따라 달라지기 때문이다. 자유층인 Co막의 두께가 70 $\AA$인 조건에서 가장 우수한 자기저항비와 자기저항감도를 나타내며 자기저항비는 질소유량이 0.5 sccm이고 두께가 250 $\AA$인 조건에서 제작된 FeN/Co/Cu/Co/Cu/Co/FeN 다층막에서 3.2 %로 최대값을 나타낸다. 이 다층막의 3개의 자성층은 각기 다른 보자력을 갖고 있으므로 자기저항곡선상에 각각의 보자력 차이에 의한 step을 형성하며 MRAM 등으로 응용시 4개의 신호를 동시에 구현할 수 있을 것으로 기대된다.
Transparent conductive films (TCF) with excellent electrical properties and high mechanical flexibility have been widely studied because of their potential for application in optoelectronic devices such as light-emitting diodes, paper displays and organic solar cells. In this paper, we report on low-resistance and high-transparent TCF for flexible device applications. To fabricate a high-resolution roll imprinted TCF, the following steps were performed: the design and manufacture of an electroforming stamp mold, the fabrication of high-resolution roll imprinted on flexible film, the manufacture of Ag-nano paste which was filled into patterned film using a doctor blade process. Also, we was demonstrated with the successful application(ITO free organic photovoltaic) of the developed flexible TCF.
본논문은 FeCoCiB계 아몰퍼스 자성박막의 주파수에 따른 자기 임피던스(MI)효과에 관하여 조사한 것이다. 영자왜를 갖는 아몰퍼스 자성박막은 고주파 스파터링법에 의하여 제작하였으며, 자계중 열처리를 행하였다. 제작된 자성박막에 직접 외부자계를 인가했을 때, 자성박막의 양단간의 전압진폭은 120[MHz]에서 약 76.2%의 변화를 보였으며, 임피던스는 2.1%/Oe의 변화가 나타났다. 따라서, 제작한 자성박막은 센서소자로서의 가능성을 갖고 있음을 확인하였다.
MI(Magneto-Impedance) sensor which is made by thin films has significantly high detecting sensitivity in weak magnetic field. It also has a merit to be able to build in the low power system. Its structure is simple, which makes it easier to prepare a miniature. In this study, its magnetic permeability and anisotropy field($H_{k}$) as a function of a thickness of sputtered amorphous CoZrNb films with zero-magnetostriction and soft magnetic property are investigated. In order to make a uniaxial anisotropy, film was subjected to the post annealing in a static magnetic field with 1KOe intensity at 250, 300, and $320^{\circ}C$ respectively for 2 hours. Magnetic properties of film are measured by using a MH loop tracer. Its magnetic permeability of a film is measured over the frequency range 1 MHz to 750MHz. And, it was examined on the permeability and impedance to design the MI sensor which acts at 50MHz by thickening a CoZrNb film relatively, and fabricated the MI sensor which acts at the 50MHz.
쐐기형 전극 사이에 열처리전 비정질 ($Fe_{1-x}$$Co_{x}$ )$_{89}$$Zr_{ 11}$ (x=0~1.0) 자성막이 증착된 MSAW 소자를 구성하고 외부 인가자기장에 의한 MSAW 속도변화율을 조사하였다. 그 결과 MSAW 속도변화율은 직류 인가자기장, 구동주파수, 자성막의 두께 및 조성에 민감하게 의존하였으며, 특히 구동주파수 및 자성막의 두께가 증가할수록 증가함을 확인하였다. 열처리전 시편에서 나타난 최대 속도변화율은 x=0.8에서 얻어진 0.062%였다.
We have investigated the effects of dopant on the thermoelectric properties that $La_{(1-x)}M_xCoO_3$(M=Sr, Ca;x=0, 0.1) bulk ceramics fabricated by the conventional solid state reaction method. The Seebeck coefficient of $La_{(1-x)}M_xCoO_3$(M=Sr, Ca;x=0, 0.1) bulk ceramics was measured at wide temperature range from 300 K to 673 K. The thermoelectric properties(Seebeck coefficient and electrical resistivity) depend strongly on the kinds of dopants. Sr and Ca dopant decrease the Seebeck coefficient. Density of sintered $La_{0.9}Sr_{0.1}CoO_3$ ceramic at 1523 K was 7.12 $g/cm^2$ and Seebeck coefficient was 35 ${\mu}V/K$ at 663 K. However, the electrical resistivity of the Sr doped sample was low and stable.
The stoichiometric mixture of evaporating materials for the $CaAl_2Se_4$: Co single crystal thin film was prepared from horizontal furnace. Using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the polycrystal $CaAl_2Se_4$, it was found orthorhomic structure whose lattice constant $a_0$, $b_0$ and $c_0$ were 6.4818, $11.1310{\AA}$ and $11.2443{\AA}$, respectively. To obtain the $CaAl_2Se_4$: Co single crystal thin film, $CaAl_2Se_4$: Co mixed crystal was deposited on throughly etched Si (100) by the HWE (Hot Wall Epitaxy) system. The source and substrate temperature were $600^{\circ}C$ and $440^{\circ}C$ respectively. The crystalline structure of $CaAl_2Se_4$: Co single crystal thin film was investigated by the double crystal X-ray diffraction (DCXD). Hall effect on this sample was measured by the method of Van der Pauw and studied on carrier density and mobility depending on temperature. From Hall data, the mobility was likely to be decreased by impurity scattering in the temperature range 30 K to 100 K and by lattice scattering in the temperature range 100 K to 293 K. The temperature dependence of the energy band gap of the $CaAl_2Se_4$: Co obtained from the absorption spectra was well described by the Varshni's relation, $E_g(T)=3.8239eV-(4.9823{\times}10^{-3}eV/K)T_2/(T+559K)$. The open-circuit voltage, short current density, fill factor, and conversion efficiency of $p-Si/p-CaAl_2Se_4$: Co heterojunction solar cells under $80mW/cm^2$ illumination were found to be 0.42 V, $25.3mA/cm^2$, 0.75 and 9.96%, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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