Improvement of Thermal Stability of In-situ Grown CoSi$_2$ Layer on Poly-Si Using Reactive Chemical Vapor Deposition
(반응성 화학기상증착법에 의해 다결정실리콘 위에 직접성장된 $CoSi_2$ 층의 열적안정성의 개선)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.11 no.8
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- pp.641-646
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- 2001