• 제목/요약/키워드: Chelating agent

검색결과 201건 처리시간 0.024초

킬레이트제를 활용한 VRFB용 고순도 오산화바나듐 제조 연구 (Study on the Manufacture of High-purity Vanadium Pentoxide for VRFB Using Chelating Agents)

  • 김선경;권숙철;김희서;서용재;유정현;장한권;전호석;박인수
    • 자원리싸이클링
    • /
    • 제31권2호
    • /
    • pp.20-32
    • /
    • 2022
  • 본 연구에서는 VRFB용 고순도 오산화바나듐을 제조하기 위한 불순물 분리 정제 공정에서 킬레이트제(EDTA)의 영향을 조사하였다. 저순도 바나듐 원료를 이용하여 제조된 바나듐 용액으로부터 NH4VO3 을 침전 회수하여 제조된 최종 V2O5 분말의 순도는 99.7%로 분석되었지만 NH4VO3 침전 회수 공정에서 킬레이트제를 첨가한 경우 최종 V2O5 분말 순도가 99.9% 이상으로 향상되었다. 이러한 결과는 첨가된 킬레이트제가 불순물 이온과 반응하여 complex를 형성하고 불순물 이온이 안정화되기 때문에 침전 회수 공정에서 바나듐에 대한 선택성이 향상된 것으로 판단된다. 하지만 제조된 V2O5 분말내에는 불순물 규격 대비 K, Mn, Fe, Na 및 Al 함유량이 높아 추가적인 불순물 정제 연구가 필요하였다. 고순도 V2O5 분말을 새롭게 개발된 직접 전해공정에 적용하여 바나듐 전해액을 제조하였고 이의 특성을 상용 전해액과 비교 분석하였다. 제조된 바나듐 전해액의 순도는 불순물 K, Ca, Na, Al, Mg 및 Si 성분의 높은 함량으로 인하여 상용 전해액의 순도 99.98%보다 낮은 99.97%로 분석되었다. 따라서 고순도 V2O5 분말 및 전해액 제조 공정의 불순물 분리 정제에 대한 추가적인 최적화 연구가 수행된다면 상용화가 가능한 공정이 개발될 것으로 기대된다.

잠재적 화재.폭발 위험 지역 작업용 녹전환형 중방식 코팅제의 특성에 관한 연구 (A Study on the Properties of the Heavy Duty Rust-Converting Agent used in the Potential Hazard Areas of Fire & Explosion)

  • 강영구
    • 한국안전학회지
    • /
    • 제13권3호
    • /
    • pp.102-111
    • /
    • 1998
  • This study was concerned with the development of a heavy duty rust-converting agent, the function of which is to form metal complex coatings, containing vinyl halide-acrylic terpolymer emulsion, defoamer, emulsifying agent, glass flakes, chelating agent such as gallotannic acid, gallic acid, and pyrogallic acid, and other additives. The resulted emulsion products(Sample No.1~No.5) were characterized through test either in the forms of emulsions, which include Viscosity, Penetration rate, Acidity and Film drying rate test, or in the forms of coated layer on rusty steel substrates by FT-IR, which include hardness, gloss, salt spray, adhesion and flame retardant test. The test results are as follows ; Penetration rate(0.1~0.4 mm/min), Solid content(70%), Acidity (pH 1.8~2.0), Specific gravity(1.30~1.35), Film drying rate(108min, RH 40% ; 150min, RH 80%), Gloss(83~92, incident angle $60^{\circ}$; 88~97, incident angle $85^{\circ}$), Pencil hardness(4H~5H), Adhesion (100/100), Salt spray test(>720Hr), LOI(%) value(38%), Vertical burning test(UL 94-v-l). According to the various performance of specimens show above, the evaluation of the availability of this heavy duty rust-converting agent can be concluded that all the samples(No.1~No.5) are capable of being used in the field of chemical plant and in the hazard areas of fire and explosion potential. It was observed that the properties of sample No.2, especially gloss and hardness, were much better than that of the other samples.

  • PDF

Multiform Oxide Optical Materials via the Versatile Pechini-type Sol-Gel Process

  • Lin, J.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
    • /
    • pp.1247-1250
    • /
    • 2008
  • This presentation highlights work from the authors' laboratories on the various kinds of oxide optical materials, mainly luminescence and pigment materials with different forms (powder, core-shell structures, thin film and patterning) prepared by the Pechini-type sol-gel (PSG) process. The PSG process which uses the common metal salts (nitrates, acetates, chlorides etc) as precursors and citric acid (CA) as chelating ligands of metal ions and polyhydroxy alcohol (such as ethylene glycol or poly ethylene glycol) as cross-linking agent to form a polymeric resin on molecular level, allowing the preparation of many forms of luminescent materials.

  • PDF

반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과 (Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process)

  • 이승호;이상호;권태영;박진구;배소익;김인정;이건호
    • 한국재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국재료학회 2005년도 춘계학술발표대회 및 제8회 신소재 심포지엄 논문개요집
    • /
    • pp.56-56
    • /
    • 2005
  • PDF

Characterization of TiO2 Synthesized in Acidic Conditions at Low Temperature by Sol-gel Method

  • Nguyen, Thanh Binh;Hwang, Moon-Jin;Lee, Seon-Sam;Choe, Dong-Eon;Ryu, Kwang-Sun
    • 한국분말재료학회지
    • /
    • 제17권5호
    • /
    • pp.409-414
    • /
    • 2010
  • Titanium dioxide ($TiO_2$), which is one of the most basic materials in our daily life, plays a key role for environment purification. We synthesized $TiO_2$ nanoparticles by the hydrolysis reactions of titanium tetraisopropoxide using $HNO_3$ as a peptizing agent or $CH_3COOH$ as a chelating agent in the sol-gel method. The powder consisted of a rod shape or a spherical shape according to the concentration and kind of acid. The physical properties of $TiO_2$ nanoparticles were investigated with X-ray diffraction, SEM, BET analysis, and UV-Vis spectrophotometer.

착체중합법을 이용한 ZnO 나노분말의 저온합성 (Low temperature synthesis of ZnO nanopowders by the polymerized complex method)

  • 권용재;김경훈;임창성;심광보
    • 한국결정성장학회지
    • /
    • 제12권5호
    • /
    • pp.229-233
    • /
    • 2002
  • 유기화학적 방법인 착체중합법을 이용하여 나노사이즈의 ZnO 분말을 저온에서 합성하였다. 고분자 전구체는 Zn nitrate hexahydrate를 사용하였고, chelating agent로서 citric acid를 reaction medium으로서 ethylene glycol을 혼합하여 제조하였다. 고분자 전구체를 300~$700^{\circ}C$의 온도범위에서 3시간 동안 하소하였으며, 열분해와 결정화 과정을 TG-DTA, FI-IR과 XRD 등을 이용하여 분석하였다. 결정화 온도에 따른 입자의 형상이나 크기를 SEM, TEM의 분석 및 Scherrer's equation을 이용한 계산을 통하여 관찰 및 비교를 하였다. ZnO의 결정화는 $300^{\circ}C$부터 시작되었고, $400^{\circ}C$에서 완전히 합성되었음을 알 수 있었다. 400~$700^{\circ}C$에서 하소된 ZnO 입자들은 대부분 둥근 형태로 균일하게 분포되었으며, $400^{\circ}C$에서 하소된 분말의 평균입도는 약 30~40nm를 보였다. 일반적으로 온도의 상승에 따라 입경이 증가되는 일반적인 경향이 관찰되었다.

Nickel Ferrite 함유 Poly(organosiloxane) Rubber Nanocomposite의 제조와 특성 (Preparation and Properties of Poly(organosiloxane) Rubber Nanocomposite Containing Ultrafine Nickel Ferrite Powder)

  • 강두환;이권수
    • 폴리머
    • /
    • 제29권2호
    • /
    • pp.156-160
    • /
    • 2005
  • Octamethylcyclotetrasiloxane$(D_4)$과 1,3,5-trimethyl-1,3,5-triphenylcyclotrisiloxane$(D_3^{Me,Ph)$을 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane(MVS)과 평형중합시켜 실리콘의 Si원자에 dimethyl 및 methylphenyl기가 도입된 $\alpha,\omega-vinyl$ poly(dimethyl-methylphenyl) siloxane prepolymer(VPMPS)를 제조하였으며, 또한 $D_4$와 1,3,5-trimethylcyclotrisiloxane$(D_3^:Me,H})$을 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane(MS)와 평형중합시켜 Si원자에 dimethyl 및 methylhydrogen기가 도입된 $\alpha,\omega-hydrogen$ poly (dimethyl-methyl) siloxane prepolymer(HPDMS)를 제조하였다. Poly(acrylic acid)(PAA)을 chelating agent로 하여 nickel(II) nitrate와 iron(III) nitrate를 솔-젤 방법으로 PAA 금속염을 제조하고 이틀을 소결시켜 nickel ferrite 나노 입자를 제조하였다. 제조한 nickel ferrite는 XRD 패턴으로 확인하고 입자의 크기를 TEM으로 측정하였다 1,3-Divinyltetramethyldisilazane(VMS)으로 표면처리한 나노 실리카, nickel ferrite, VPMPS, HPDMS 및 촉매를 고속 교반기에 가하고 $130^{\circ}C$에서 컴파운딩하여 poly(organosiloxane) rubber nanocomposites를 제조하였다. Nickel ferrite 함유한 nanocomposite, POX-30과 POX-50을 각각 제조하였으며 이들의 기계적 및 열전도 특성 그리고 체적 저항을 측정하였다.

용액에서 Zn(II)이온과 tetraaza 거대고리 리간드의 착물 (Complex of zinc(II) with tetraaza macrocyclic ligands in solution)

  • 고광오
    • 한국산학기술학회논문지
    • /
    • 제7권4호
    • /
    • pp.733-737
    • /
    • 2006
  • 본 논문은 수용액에서 Zn 이온이 tetraaza 거대고리 리간드의 일종인 1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane(cyclam) 리간드와 결합하여 착물(배위화합물)을 형성할 때, 리간드의 배위상태와 착물의 구조를 Raman 스펙트럼, 전기전도도법을 통하여 알아보았다. Raman 스펙트럼에 의해, Zn이온의 trans 배위자리에 $H_{2}O$ 분자와 $Cl^{-}$이온이 경쟁하고 있음을 알았다. 전기전도도법에 의하면, $ZnCl_{2}$ 수용액에 1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane(cyclam) 리간드를 가하면 2:1 전해질에서 1:1 전해질로 바뀐다. 즉, Zn이온의 trans 배위자리에 $H_{2}O$ 분자와 $Cl^{-}$이온이 경쟁하고 있음을 확인하였다. 또한, macrocyclic polyamine의 일종인 1,4,8,11-tetraazacyclotetradecane(cyclam) 리간드의 중금속 친화력 효과를 통해, 유해 중금속을 몸에서 배출시킬 수 있는 chelating agent로 사용될 수 있는 가능성을 보여 주었다.

  • PDF

유기물 제거를 위한 Post Cu CMP 세정 용액 개발

  • 권태영;;;박진구
    • 한국재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국재료학회 2011년도 춘계학술발표대회
    • /
    • pp.32.2-32.2
    • /
    • 2011
  • 반도체 생산공정에서 CMP (Chemical-mechanical planarization) 공정은 우수한 전기전도성 재료인 Cu의 사용과 다층구조의 소자를 형성하기 위해서 도입되었으며, 최근 소자의 집적도가 증가함에 따라 CMP 공정 비중은 점점 높아지고 있다. Cu CMP 공정에서 연마제인 슬러리는 금속 표면과의 물리적 화학적 반응을 동시에 사용하여 표면을 연마하게 되며, 연마특성을 향상시키기 위해 산화제, 부식방지제, 분산제 및 다양한 계면활성제가 첨가된다. 하지만 슬러리는 Cu 표면을 평탄화하는 동시에 오염입자, 유기오염물, 스크레치, 표면부식 등을 발생시키며 결과적으로 소자의 결함을 야기시킨다. 특히 부식방지제로 사용되는 BTA (Benzotriazole)은 Cu CMP 공정 중 Cu-BTA 형태로 표면에 흡착되어 오염원으로 작용하며 입자오염을 증가시시고 건조공정에서 물반점 등의 표면 결함을 발생시킨다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 Cu 표면에서 식각과 부식반응을 최소화하며, 오염입자 제거 및 유기오염물을 효과적으로 제거하기 위한 Post-CMP 세정 공정과 세정액 개발이 요구된다. 본 연구에서는 오염입자 및 유기물 제거와 동시에 표면 거칠기와 부식현상을 제어할 수 있는 post Cu CMP 세정액을 개발 평가하였다. 오염입자 및 유기오염물을 제거하기 위해서 염기성 용액인 TMAH 사용하였으며, Cu 이온을 용해할 수 있는 Chelating agent와 표면 부식을 억제하는 부식 방지제를 사용하여 세정액을 합성하였다. 접촉각 측정과 FESEM(field Emission Scanning Electron Microscope) 분석을 통하여 CMP 공정에서 발생하는 유기오염물과 오염입자의 흡착과 제거를 확인하였으며 Cu 웨이퍼 세정 전후의 표면 거칠기의 변화와 식각량을 AFM(Atomic Force Microscope)과 4-point probe를 사용하여 각각 평가하였다. 또한 세정액 내에서의 연마입자의 zeta-potential을 측정 및 조절하여 세정력을 향상시켰다. 개발된 세정액과 Cu 표면에서의 화학반응 및 부식방지력은 potentiostat를 이용한 전기화학 분석법을 통해서 chelating agent와 부식방지제의 농도를 최적화 시켰다. 개발된 세정액을 적용함으로써 Cu-BTA 형태의 유기오염물과 오염입자들이 효과적으로 제거됨을 확인하였다.

  • PDF