Pulsed DC 조건에서 반도체 배선의 electromigration 시뮬레이션 : 주파수, duty factor, 온도효과 (Simulation of electromigration behavior on ULSI′s interconnect under pulsed DC stress : frequency, duty factor, temperature effect)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집
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- pp.40-42
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- 2002