산화제 첨가에 따른 $WO_3$ 박막의 CMP 특성
(Characteristic of Addition Oxidizer on the $WO_3$ Thin Film CMP)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2004년도 하계학술대회 논문집 Vol.5 No.1
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- pp.313-316
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- 2004