• 제목/요약/키워드: Cell Spacing

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Screen printed c - Si solar cell의 전면 전극 Finger width 및 spacing 최적화에 대한 연구

  • 김상섭;최재우;이준신
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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    • pp.391-391
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    • 2011
  • Crystalline silicon solar cell을 양산에 적용하기 위해 전면 전극의 패턴을 형성하는 방법으로 Ag paste를 이용한 screen printing이 가장 일반적으로 사용된다. 전면 전극의 패턴 형성 시, Finger의 width와 spacing은 Fill factor, JSC, VOC 등 태양전지의 중요 parameter들과 관련되어, 효율에 영향을 미치기 때문에, printing 시 Finger width와 spacing을 최적화하여 최대한의 효율을 내는 조건을 찾는 것이 바람직하다. 본 연구에서는 Finger width를 $30{\mu}m{\sim}100{\mu}m$, spacing을 $1.8{\mu}m{\sim}2.8{\mu}m$ 까지 가변하여 c-Si solar cell을 제작하였으며, 제작된 cell의 LIV를 측정을 통하여, 최적의 효율을 내는 조건을 찾고자 하였다. 그 결과 Finger width $30{\mu}m$, Finger spacing $1.8{\mu}m$의 조건에서 17.12%로 최고의 효율을 나타내었다.

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토마토 육묘시 공간처리 및 배지부피가 묘소질 및 과실의 수량 품질에 미치는 영향 (Effects of Spacing and Plug Cell Size on Seedling Quality and Yield and Qualities of Tomatoes)

  • 김성은;이문행;안범준;김영식
    • 생물환경조절학회지
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    • 제22권3호
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    • pp.256-261
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    • 2013
  • 본 실험은 토마토 플러그묘 생산에서 공간처리와 배지부피처리를 함께하여 두 가지 처리가 유묘의 묘소질 및 수확량에 미치는 영향을 구명하고자 수행하였다. 처리는 공간과 배지의 부피별로 각 2처리, 모두 4가지 처리를 두었다. 배지는 동일하되 배지의 부피에 따라 40공과 50공 플러그 육묘판을 사용했고, 각 육묘판에 공간처리를 한것과 하지 않은 것으로 나누어 처리했다(40S-OK, 40S-NO, 50S-OK, 50S-NO). 전 실험기간 중에 처리외의 환경조건과 급액조건은 모두 동일하게 적용하였다. 광합성 속도와 묘소질 분석 및 수확량과 수확속도 모두에서 통계적 유의성이 있게 공간처리와 배지의 부피처리의 영향을 받았다. 광합성 속도와 묘소질에서는 40S-OK, 50S-OK, 40S-NO, 50S-NO 처리 순으로 좋은 결과를 나타내어 공간처리의 효과가 더 크고, 수확량에서는 40S-OK, 40S-NO, 50S-OK, 50S-NO 처리 순으로 많아서 배지의 부피 처리의 영향이 큰 것으로 판단된다. 따라서 고품질 묘 생산과 초기 수확량을 증대하고, 수확속도를 빠르게 하기 위해서는 육묘기에 적절한 공간확보와 배지의 부피를 크게 하는 것이 효과적인 것으로 사료된다.

선형 격자 형성 방정식을 이용한 직교 격자 형성에 관한 연구 (Orthogonal Grid Generation Using Linear Grid Generating Equations)

  • 이상욱;권장혁;권오준
    • 한국전산유체공학회지
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    • 제5권1호
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    • pp.14-21
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    • 2000
  • A method of two and three dimensional orthogonal grid generation with control of spacing by using the covariant Laplace equation is presented. An important feature of the methodology is its ability to control effectively the grid spacing especially near the boundaries still maintaining good orthogonality in whole field. The method is based on the concept of decomposition of the global transformation into consecutive transformation of an approximate conformal mapping and an auxiliary orthogonal mapping to have linear and uncoupled equations. Control of cell spacing is based on the concept of reference arc length, and orthogonal correction is peformed in the auxiliary domain. It is concluded that the methodology can successfully generate well controlled orthogonal grids around bodies of 2 and 3 dimensional configurations.

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ATM Network에서 트래픽 특성에 의한 셀 쉐이핑 (A Cell Shaping Scheme using Traffic Characteristics in ATM Network)

  • 윤석현
    • 한국컴퓨터정보학회지
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    • 제15권1호
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    • pp.17-23
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    • 2007
  • 본 논문에서 제안한 간격 제어 알고리즘은 리키버켓이나 다중화기의 버퍼를 간격 제어기의 버퍼로 사용하면서 버퍼에 입력된 셀의 시간을 기준으로 방출 시간을 결정하도록 하였다. 위반 셀에 대한 배려를 고려하여 모든 생성된 셀을 간격 제어기에서 표시하거나 폐기하지 않고 네트워크로 진입 시키도록 함으로서 기존의 방식에 비해 데이터의 손실을 고려하였으며, 일단 버퍼에 입력된 셀은 도착 시간 간격보다 일찍 방출될 수 있도록 융통성을 부여하여 버퍼에서 발생하는 지연을 최소화 하도록 하였다. 제안한 간격 제어 방식은 네트워크의 셀 손실을 감소시키며 셀의 밀집 현상을 해소함으로서 대역의 효율을 높이고 수신 버퍼의 재조립 부하를 줄일 수 있다.

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Spacing Method Suitable for Flexible Cholesteric LCDs

  • Yoon, Hyun-Sub;Min, Kwan-Sik;Kwon, Soon-Bum
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
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    • pp.484-487
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    • 2005
  • In order to find out LC cell spacing method suitable for flexible cholesteric LCDs with high mechanical stability, we carried out bending and mechanical shock tests by using various spacing techniques: bead spacer, photo spacer, polymer wall with bead spacer and polymer wall with photo spacer. As a result, it was found that the spacing method using polymer wall incorporated with photo spacer is the best for flexible cholesteric LCDs in terms of mechanical stability. The investigation is discussed in detail.

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Trench Power MOSFET의 최소 on 저항을 위한 cell spacing의 계산 (Calculation of Optimum Cell Spacing for Minimum On-resistance of Trench Power MOSFET)

  • 홍지훈;정상구;최연익
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2002년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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    • pp.13-15
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    • 2002
  • The trench MOSFET structure is characterized by reduced on-resistance due to elimination of $R_{JFET}$ and high packing density. An analytical calculation of Ron as the sum of $R_{ch}$ and $R_{epi}$ has been reported previously for the trench MOSFET structure. However, the accumulation layer resistance may not be neglected for Trench MOSFET especially for a relatively large value of the cell spacing, where a major contribution to Ron comes from Ra as the simulation results in this paper shows.

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결정질 실리콘 태양전지의 전극 종횡비 개선과 전극 간 간격이 효율에 미치는 영향 분석 (The Analysis on the Effect of Improving Aspect Ratio and Electrode Spacing of the Crystalline Silicon Solar Cell)

  • 김민영;박주억;조해성;김대성;변성균;임동건
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제27권4호
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    • pp.209-216
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    • 2014
  • The screen printed technique is one of the electrode forming technologies for crystalline silicon solar cell. It has the advantage that can raise the production efficiency due to simple process. The electrode technology is the core process because the electrode feature is given a substantial factor (for solar cell efficiency). In this paper, we tried to change conditions such as squeegee angle $55{\sim}75^{\circ}$, snap off 0.5~1.75 mm, printing pressure 0.6~0.3 MPa and 1.6~2.0 mm finger spacing. As a result, the screen printing process showed an improved performance with an increased height higher finger height. Optimization of fabrication process has achieved 17.48% efficiency at screen mesh of 1.6 mm finger spacing.

고효율, 저가화 태양전지에 적합한 Ni/Cu 금속 전극 간격에 따른 특성 평가 (Investigation of the Ni/Cu metal grid space for high-effiency, low cost crystlline silicon solar cells)

  • 김민정;이지훈;조경연;이수홍
    • 한국태양에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국태양에너지학회 2009년도 춘계학술발표대회 논문집
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    • pp.225-229
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    • 2009
  • The front metal contact is one of the most important element influences in efficiency in the silicon solar cell. First of all selective of the material and formation method is important in metal contacts. Commercial solar cells with screen-printed contacts formed by using Ag paste process is simple relatively and mass production is easy. But it suffer from a low fill factor and a high shading loss because of high contact resistance. Besides Ag paste too expensive. because of depends income. This paper applied for Ni/Cu metallization replace for paste of screen printing front metal contact. Low cost Ni and Cu metal contacts have been formed by using electroless plating and electroplating techniques to replace the screen-printed Ag contacts. Ni has been proposed as a suitable silicide for the salicidation process and is expected to replace conventional silicides. Copper is a promising material for the electrical contacts in solar cells in terms of conductivity and cost. In experiments Ni/Cu metal contact applied same grid formation of screen-printed solar cell. And it has variation of different grid spacing. It was verified that the wide spacing of grid finger could increase the series resistance also the narrow spacing of grid finger also implies a grid with a higher density of grid fingers. Through different grid spacing found alteration of efficiency.

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