• 월간 기계설비
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• no.11 s.184
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• pp.57-71
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• 2005

SHOP DWG의 현주소 어디까지 왔는가? 설계에서 제조에 이르는 전 과정을 컴퓨터로 제어하고 관리하는 기술. 캐드(CAD)와 캠(CAM)은 각각 computer-aided design,computer-aided manufacturing의 약칭으로 컴퓨터보조설계와 컴퓨터보조생산을 뜻한다. CAD는 설계도면을 한 장씩 수작업으로 제도하지 않고 설계 데이터베이스의 정보를 CRT(cathode ray tube)에서 화상을 보고 합성하면서 설계하므로 작업을 최적화 할 수 있다. CAD로 설계된 설계도의 내용은 CAM을 통해 NC(수치제어)공작기계에 정확한 작업동작을 지시하게 되며, 작업관리∙가공∙조립∙검사 등의 제조과정을 컴퓨터로 관리하여 작업속도와 제품의 정밀성을 높이게 된다. 최근에는 건축현장의 2D system이 보편화되어 있지만 건축현장의 핵심이라고 할 수 있는 기계설비의 기계실, 또는 조립화 공법 등에는 3차원 CAD∙CAM시스템이 개발되어 입체형상을 화면에 3차원으로 재현할 수 있고, 대상물의 표면적∙부피∙무게∙강도 등의 물리적 성질도 자동 계산하여 최적상태에서 현장의 시공에 적용할 수 있게 되었다. 1960년대 초 미국에서 자동차 모델∙엔진, 항공기 부품 등 의 설계에 수작업의 한계를 느껴 개발되었으며, 한국에서는 70년대 중반에 도입되어 운용되고 있다. 이에 따라 프로그램 회사들은 다양한 방법 등을 SHOP DWG에 적용하여 판매경쟁이 치열하다. (주)우진아이엔에스는 급속한 산업경제의 변화와 무한경쟁시대에 보다 나은 기술개발 투자에도 노력을 기울여, 2000년 11월 용인공장, 생산라인을 천안으로 이전, 확장 하여 배관 및 닥트의 CAD-CAM SYSTEM, P.F.P공법, 기계실3D, 블럭화배관, 닥트자동화 시스템, 설계, 용접공정을 공장화시켰으며, 신 개발품인 S.C.D(SEMI-CON DUCT)를 신설하여 모든 건축물에 맞는 필수적인 제품을 생산함으로써 선택의 폭을 넓히고, 현장 시공능력 효율을 높이고 있다. 이번 호에서는 (주)우진아이엔에스가 95년 설계팀을 발족하여 제로시스템의 3D공법을 공장 및 현장의 SHOP DWG에 적용해왔고 최근에는“서초 프로젝트A”현장에 SHOP DWG의 최대 결집체인 3D활용의 조립화 공법을 적용하여 초고층 오피스텔현장을 시공한 사례를 게재한다. 우진아이엔에스는 30여년의 기술 축척을 바탕으로 최고의 기술력과 풍부한 경험을 통해 아셈무역센타, 타워팰리스1차, 3차 및 목동트라팰리스, 분당트리폴리스, 수원삼성전자 R4, 등 국내굴지의 초고층빌딩 시공을 근거로 초고층의 기본설계를 이해하고 SHOP DWG을 통해서 기계설비공사의 향후 나아갈 지표를 제시하고 있다.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SP
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• v.37 no.6
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• pp.9-16
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• 2000

The perception of flicker on the computer display devices depends upon the temporal waveform of the phosphor decay characteristic, the frame rate, and the display size. The lowest frequency at which flicker is not perceived is called the critical fusion frequency or critical frequency. Critical fusion frequency is evaluated by the display illuminance and the modulation (m) defined as the ratio of the amplitude of first harmonic frequency to the DC of the waveform. In this paper, we analyze the relationship bet ween the critical fusion frequency, relating to the decay characteristic of the phosphors and luminance on the monitor, and the frame frequency. Also under considering the viewing angle, we presented the frame frequency that is less sensitive to the full size of the display device.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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• v.9 no.4
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• pp.878-885
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• 2008

The FPDs(Flat Panel Displays) such as LCD(Liquid Crystal Display) and PDP(Plasma Display Panel) and OLED(Organic Light Emitting Diode), recently, have been substituted for CRT(Cathode Ray Tube) displays because they have a convex surface, small volume, light weight and lower electric power consumption. The productivity of FPDs is greatly dependent on the area of thin glass panel with 0.6 - 0.8mm thickness because FPDs are manufactured by cutting a large-scaled thin glass panel with patterns to the required product dimensions. So FPD's industries are trying to increase the area of thin glass panel. For example, the thin glass panel size of the 8th generation is 2,200mm in width, 2,600mm in length and 0.7mm in thickness. The air flows both in the thin glass panel and in the porous PE-plate surface were modeled and analyzed, from which a working condition was estimated. The thin glass panel on the porous PE-plate surface with self-lubricating characteristics was investigated and compared with that on the square duct floating bar surface with many holes of 1mm diameter when the thin glass panel contacts the floating bar surface due to malfunction of electric power supply.

• Applied Chemistry for Engineering
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• v.7 no.2
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• pp.379-386
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• 1996

Photosensitive compound, 1-methyl-4-[2-(4-diethylacetylphenyl)ethenyl] pridinium methosulfate(SbQ-A salt), was synthesized from dimethyl sulfate, terephthalaldehyde mono-(diethylacetal) and 4-picoline. SbQ-A salts were reacted with poly(vinyl alcohol)s, (PVA) in aqueous solution with phosphoric acid as catalyst to give photosensitive PVA-SbQ with different SbQ content and molecular weight. Relative photosensitivity of PVA-SbQ was determined by gray scale(GS) method. The rotative sensitivity of PVA-SbQ increased with increasing amount of bound SbQ in the case of high molecular weight(MW=77,000-79,000g/mol) as substrate and decreased with decreasing molecular weight of PVA with about constant(1.3mol%) amount of bound SbQ. The most sensitive polymer was obtained when SbQ group content in PVA-SbQ reached about 2.63mol% in the case of high molecular weight(77,000-79,000g/mol) PVA. This sample showed 90 times greater sensitivity than dichromated PVA as reference photosensitive system. PVA-SbQ photosensitive polymer synthesized was applied to the photolithographic screening process of phosphor on the panel of cathode ray tube(CRT). Phosphor slurry was made with PVA-SbQ, phosphor, a small amount of surfactant and other additives using water as medium. The slurry was coated onto panel, dried by heater, exposed to UV light and then developed by distilled water. When a small amount of cationic surfactant such as cetyltrimethylammonium chloride was used in the slurry formulation, the sharpness of phosphor pattern was equal to or better than that of dichromated PVA photosensitive polymer system used currently.