• 제목/요약/키워드: CL정보

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WebCL 기반 애플리케이션의 성능 평가를 위한 프로파일러 설계 및 구현 (Profiler Design for Evaluating Performance of WebCL Applications)

  • 김철원;조현중
    • 정보처리학회논문지:컴퓨터 및 통신 시스템
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    • 제4권8호
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    • pp.239-244
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    • 2015
  • 자바스크립트 상에서 높은 연산량을 처리하기 위해 제안된 WebCL은 불특정 클라이언트 환경에서 실행되므로 개별 클라이언트에서 애플리케이션의 성능 평가 작업이 중요하다. 현재 다양한 프로파일러들이 서비스 되고 있지만 WebCL을 위한 프로파일러는 아직 개발되어있지 않다. 본 논문에서는 웹 이기종 병렬컴퓨팅 언어인 WebCL 기반으로 구현된 애플리케이션의 성능 평가 및 GPU 상태 정보를 모니터링 하기 위한 프로파일러를 설계 및 구현하여 소개한다. 본 프로파일러를 통하여 사용자는 WebCL 기반 애플리케이션의 수행시간 및 메모리 읽기/쓰기 시간을 알 수 있고, GPU 디바이스의 소비 전력, 현재 온도, 클락 속도 등 현재 상태를 실시간 모니터링할 수 있다.

한글 Common Lisp에서 한글 함수 기능

  • 이창열;오승준;임영환
    • 한국정보과학회 언어공학연구회:학술대회논문집(한글 및 한국어 정보처리)
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    • 한국정보과학회언어공학연구회 1990년도 제2회 한글 및 한국어정보처리 학술대회
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    • pp.172-179
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    • 1990
  • 본 논문에서는 한글(한국어) ascii 코드와 4가지 한글 표현 원리에 만들어지는 한글음절을 정의한다. Common Lisp(CL)의 확장된 버전으로 한글이 사용 가능한 한글 CL(HCL)의 소개하고 CL에 추가되는 새로운 한글 함수에 대하여 설명한다. HCL의 모든 함수는 한글을 다루는 방법에 따라 4가지 타입으로 나뉘어진다. 1) 타입 0 - 한글을 입출력 값으로 취하지 않는 전형적인 CL 함수, 2) 타입 1 - 원래 CL 함수정의의 변경없이 입력으로 한글을 받아들이는 함수, 3) 타입 2 - 한글을 사용하기 위하여 함수의 정의를 확장해야하는 CL 함수, 4) 타입 3 - 한글 처리를 하기 위하여 새로 설계한 새로운 함수. 위의 타입에 의해 분류되는 각 함수에 대한 정의를 제안하고 한글 편집기에 대하여 소개한다.

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WebCL을 지원하기 위한 개발도구에 관한 연구 (A Study on Development Tools for WebCL)

  • 윤석진;김도형;이재호
    • 한국정보처리학회:학술대회논문집
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    • 한국정보처리학회 2015년도 추계학술발표대회
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    • pp.1662-1663
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    • 2015
  • 1989년 웹 기술이 등장한 이래 지속적인 발전을 거듭하여 현재 HTML5 까지 정의되었다. 웹 기술만을 사용하여 네이티브 응용을 대체하여 개발하려는 경향이 생겨났으며 이에 실행 속도를 높이기 위하여 GPGPU를 활용하는 방법이 모색되어왔다. WebCL은 자바스크립트에서 OpenCL을 활용하기 위한 표준이며 크로노스 그룹에서 최근 표준화 되었다. 고속화 웹 응용을 개발하기 위해서는 C 기반의 커널코드를 작성해야 하며 개발시에 이를 지원하기 위한 도구가 필요하다. 본 연구에서는 커널 코드 작성을 위한 C 편집기를 기존의 도구에 통합시키고 개발 시점에서 온라인 컴파일을 통하여 사전 검증할 수 있게 지원하려고 한다. 또한 웹 응용을 타켓 디바이스에서 실행시켜 볼 수 있는 웹 응용 실행 관리를 지원한다. 향후 WebCL 개발을 지원하는 도구의 등장으로 웹 고속화 응용이 많이 등장할 것으로 기대된다.

OpenCL을 이용한 이미지 처리 프로그램의 자동 최적화 방법 (Automatic Optimization Methods for Image Processing Programs Using OpenCL)

  • 신재호;조강원;이일구;이재진
    • 정보과학회 컴퓨팅의 실제 논문지
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    • 제23권3호
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    • pp.188-193
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    • 2017
  • 영상 장비가 발전하고 고화질 이미지의 사용량이 많아짐에 따라 이를 병렬화하여 빠르게 처리하는 방법이 많이 연구되고 있다. 본 논문은 OpenCL을 사용한 이미지 처리 프로그램이 하드웨어에 관계없이 최적의 성능을 내도록 하는 방법을 제시한다. OpenCL은 계산 디바이스의 아키텍처에 따라 적절한 병렬화 방법과 워크그룹 크기를 개발자가 실험을 통해 찾아야 한다. 하지만 이는 시간적, 자원적 한계가 있다. 본 논문에서는 대상 하드웨어에 최적화된 병렬화 방법과 워크그룹 크기를 프로파일링을 통해 자동으로 선택하는 방법을 제안한다. 또한 OpenCL을 사용한 이미지 처리는 입력 이미지의 크기에 따라 순차코드 보다 성능이 좋을 수도 있고 안좋을 수도 있다. 본 논문에서는 OpenCL코드의 성능이 순차코드 성능보다 좋아지는 시점의 이미지 크기를 자동으로 검색하여 OpenCL을 사용할지 기존의 순차코드를 사용할지 결정하는 이미지 크기 threshold를 설정하는 방법을 제시한다. 이를 통해 이미지 처리 프로그램이 임의의 하드웨어에서 이미지 크기에 상관없이 항상 최적의 성능을 보이는 것을 확인했다.

Microstructural study of polycrystalline films prepared by Ni vapor induced crystallization

  • Ahn, Kyung-Min;Lee, Kye-Ung;Ahn, Byung-Tae
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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    • pp.715-717
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    • 2006
  • $NiCl_2$ vapor was introduced into conventional furnace to conduct vapor-induced crystallization (VIC) process. We made the metal chloride atmosphere by sublimating the $NiCl_2$ compound. The $NiCl_2$ atmosphere enhanced the crystallization of amorphous silicon thin films. As the result, polycrystalline Si film with large grain size and low metal contamination has been obtained.

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OpenCL을 이용한 깊이영상기반 집적영상 생성 기법 (Generating Integral Images based on Depth image using OpenCL)

  • 정지성;박찬;김종오;김도형;권순옥;권기철;리강;김남;류관희
    • 한국콘텐츠학회:학술대회논문집
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    • 한국콘텐츠학회 2012년도 춘계 종합학술대회 논문집
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    • pp.53-54
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    • 2012
  • 본 논문에서는 Depth Camera를 통해 생성되는 깊이영상과 컬러영상을 통해 깊이정보와 영상정보를 추출하고, 추출된 깊이정보와 영상정보를 이용하여 집적영상을 OpenCL을 이용하여 실시간으로 생성하는 기법을 소개한다.

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Effect of Cu concentration on the luminescence of ZnS:Cu,Cl blue-green phosphor

  • Cho, Tai-Yeon;Lee, Hak-Soo;Han, Sang-Do;Gwak, Ji-Hye;Shin, Dong-Hyuk;Han, Chi-Hwan
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
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    • pp.1537-1538
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    • 2007
  • ZnS:Cu,Cl phosphor was synthesized by solid-liquid state reaction with two firing steps. Each stage of the process was carefully monitored so that the final product was comparable to commercially-available phosphor. The effect of $Cu^{2+}-doping$ concentration has been investigated on the luminescence characteristics of ZnS:Cu,Cl blue-green phosphors for inorganic electroluminescent device.

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XeCl 엑시머레이저 펌핑 쌍공진기형 색소레이저의 출력 특성 (Output Characteristics of 2-wavelength Resonator Dye Laser Pumped by XeCl Excimer Laser)

  • 이용우
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2003년도 추계종합학술대회
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    • pp.434-438
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    • 2003
  • XeCl 엑시머 레이저로 펌핑되는 쌍공진기형 색소레이저와 2단 증폭시스템을 개발하여 원격계측 시스템에 적합한 두 개의 파장을 동시 또는 순차적으로 출력하였다. 개발된 쌍공진기는 1200 g/mm의 회절격자를 갖는 grazing-incidence 방법에서 제 1차 및 제 2차 회절차수를 이용하여 구성되었다. 출력특성은 스펙트럼 선폭이 10 pm이하이고, 펌프 에너지에 대하 전체효율은 6% 이상이다. 또한, 파장가변 영역은 제 1차 및 제 2차의 회절차수에 대해 각각 434-470 nm, 436-468 nm 이며, 2단의 증폭기의 증폭이득은 37dB, 추출효율은 9%이다. 개발된 레이저 증폭시스템에서 Coumarine-450의 색소로 발진하고, 이의 출력 6 mJ을 원격계측시스템에 적용하여 수원상공의 NO$_2$의 가스농도분포를 측정하였다. 이 결과 개발된 색소레이저 시스템은 원격계측 시스템의 광원으로 매우 적합함을 확인하였다.

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Morphology and Photoluminescence Characteristics of Halophosphate Phosphor Particles by Spray Pyrolysis and Flame Spray Pyrolysis

  • Sohn, Jong-Rak;Kang, Yun-Chan;Park, Hee-Dong;Yoon, Soon-Gil
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.803-806
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    • 2002
  • Flame spray pyrolysis was applied to improve the photoluminescence characteristics of blue-emitting $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ phosphor particles with high brightness for the application to LED phosphor. $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ prepared from conventional spray pyrolysis had poor PL intensity than that of commercial products under long-wavelength ultraviolet(UV). $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ phosphor particles prepared by flame spray pyrolysis had PL intensity as same as that of commercial products under long-wavelength UV. Hollow morphology and porous structure of the particles prepared by the flame spray pyrolysis disappeared after posttreatment. Even though the $Sr_5(PO_4)_3Cl:Eu^{2+}$ phosphor particles prepared by the flame spray pyrolysis had irregular shape, the particles had dense structure and clear surface property.

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Dry etching of ZnO thin film using a $CF_4$ mixed by Ar

  • Kim, Do-Young;Kim, Hyung-Jun
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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    • pp.1504-1507
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    • 2009
  • In this paper, the etching behavior of ZnO in $CF_4$ plasma mixed Ar was investigated. Previously, the etch rate in $CF_4$/Ar plasma was reported that it is slower than that in Cl containing plasma. But, plasma included Cl atom can produce the by-product such as $ZnCl_2$. In order to solve this film contamination, no Cl containing etching gas is required. We controlled the etching parameter such as source power, substrate bias power, and $CF_4$/Ar gas ratio to acquire the fast etch rate using a ICP etcher. We accomplished the etching rate of 144.85 nm/min with the substrate bias power of 200W. As the energetic fluorine atoms were bonded with Zinc atoms, the fluoride zinc crystal ($ZnF_2$) was observed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).

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