• 제목/요약/키워드: CFC 대체물질

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GC/FID를 이용한 Trifluoroacetic acid의 분석 (Analysis of Trifluoroacetic acid by GC/FID)

  • 노경록;홍영민;김만구
    • 한국대기환경학회:학술대회논문집
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    • 한국대기환경학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.331-332
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    • 2001
  • CFCs는 가정 제품과 공업적 과정에서 발포제와 냉매제로 오랜 기간 사용되었다. 1974년, CFCs는 Molina와 Rowland에 의해 성층권 오존의 고갈 요인으로 인식되었고, 최근에는 지구 온난화의 기여물질로써 관련되어 지고 있다. CFCs의 세계적인 생산은 Montreal 의정서와 그 개정안에 의해 점차 폐지되었고, 대체 물질로 HCFCs와 HFCs가 과도하게 사용되고 있다. 수소의 존재는 대체 물질의 대류권 산화를 가능하게 했고, 대체로 성층권에 영향을 미치지 않는다. (중략)

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CFC 113과 대체세정제의 세정성능 비교 (Comparison of Cleaning Performance of CFC 113 and the Alternatives)

  • 노경호;최대기;이윤용
    • 분석과학
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    • 제6권5호
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    • pp.521-530
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    • 1993
  • 몬트리올의정서에 의하여 오존층 파괴물질로 규정된 전자산업의 필수불가결한 세정제인 CFC 113(1,1,2-trichloro 1,2,2,-trifluoroethane)의 사용이 앞으로 규제가 됨에 따라서 대체세정제의 개발이 활발히 진행되고 있다. 따라서 현재 시판중인 세정제의 종류는 상당히 많다. 이 중에서 Axarel 32(DuPont), Cleanthru 750H(KAO Chemical), EC-Ultra(Petroferm)를 선정하여 CFC 113과 세정성능을 비교하였다. CFC 113과 대체세정제의 세정성능 검사방법은 기본적은 물성측정, 재질호환성에 대한 실험, 증발속도의 측정, 오염물질의 제거효율에 관한 실험으로 구성되어 있다. CFC 113과 대체세정제들의 기본적인 물성들은 서로 상이하였다. 대체세정제는 비점이 높고 표면장력과 점도가 CFC 113보다 큰 값을 가지고 있다. 전자산업에서의 로진계 flux를 오염물질로 하고 각기의 세정제와의 용해도를 비교한 결과 비극성 유기물질은 abietic acid에 대한 용해도는 서로 유사하였으나 대체세정제의 경우 극성 유기물질에 대한 용해도는 CFC 113에 비해서 월등히 좋았다. 또한 비점이 낮은 CFC 113의 건조성은 대체세정제와는 비교할 수 없을 정도로 우수하였고 특히 대체세정제 중에서 EC-Ultra는 건조성이 매우 낮았다. CFC 113과 대체세정제에서의 PCB의 구성 재질인 FR4와 Cu-coated FR4에 대한 재질호환성은 거의 비슷하였다. Abietic acid의 제거효율에 관한 실험에서는 초음파 세정에 의해서 우수한 세정효과를 보여 주었으며 침적에 의해 세정에서는 건조성이 좋은 세정제가 유리하지만 초음파 세정에 의해서 대체세정제간의 제거효율의 차이는 거의 없었다. CFC 113의 대체세정제로서 로진계 flux를 제거하는 대체세정제간의 세정성능은 큰 차이는 없으나 최종 세정제로 선정하기 위해서는 세정장치의 적용, 환경문제 및 경제성의 고려가 병행되어야 한다.

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CFC 대체물질을 이용한 GaAs의 레이저 유도 에칭 (Laser-induced etching of GaAs with CFC alternatives)

  • 박세기;이천;김무성
    • E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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    • 제9권3호
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    • pp.240-245
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    • 1996
  • Non-ozone layer destructive Chlorofluorocarbon(CFC) altematives(CHCIF$_{2}$ and $C_{2}$H$_{2}$F$_{4}$) have been initially used for laser-induced thenrmochemical etching of GaAs. High etching rate up to 188.mu.m/sec and an aspect ratio of 2.7 have been achieved by a single scan of laser beam, respectively. The etching rate at constant ambient gas pressure was found to saturate for beam power. The chemical compositions of the reaction products deposited on the etched groove were measured by Auger electron microscopy(AES). Etched profile, depth and width were observed by scanning electron microscope(SEM).

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GC/ECD를 이용한 Trifluoroacetic acid의 분석 (Analysis of Trifluoroacetic acid by GC/ECD)

  • 노경록;홍영민;이보경;김만구
    • 한국대기환경학회:학술대회논문집
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    • 한국대기환경학회 2002년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.247-248
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    • 2002
  • CFCs는 가정제품과 공업의 생산과정에서 발포제와 냉매제로 오랜 기간 사용되었다. 1974년, CFCs는 Molina와 Rowland에 의해서 성층권 오존의 고갈 요인으로 인식하게 되었고, 최근에는 지구 온난화의 기여물질로써 사회적 관심이 증가하였다. CFCs의 세계적인 생산은 Montreal 의정서와 그 개정안으로 인해 점차 감소하면서 사용이 폐지되었고, 대체 물질로 HCFCS와 HFCs가 사용되고 있다. 대류권에서 HCFCs와 HFCs는 hydroxyl radicals에 의해 산화되고, 최종 분해산물로 무기산, 염, HF, $CO_2$, HC와 Trifluoroacetic acid(TFA)가 생성된다. (중략)

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