$CHF_3/C_2F_6$ 플라즈마에 의한 실리콘 표면 잔류막의 특성
(The Characteristics of Residual Films on Silicon Surface $CHF_3/C_2F_6$ Reactive Ion Etching)
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- 한국진공학회지
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- 제1권1호
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- pp.145-152
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- 1992