• 전자공학회논문지D
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• 제35D권11호
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• pp.70-77
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• 1998

본 논문에서는 nickel/silicon carbide(Ni/SiC) 접합에 의한 Schottky 다이오드를 제작하고, 그 전기적 특성을 조사하였다. Ni/4H-SiC의 경우, 산화막 모서리 단락을 하였을 때 상온에서 973V의 역방향 항복전압이 측정되었으며 이는 모서리 단락되지 않은 Schottky 다이오드의 역방향 항복전압 430V에 비해 매우 높았다. Ni/6H-SiC Schottky 다이오드의 경우, 산화막으로 모서리 단락시켰을 때와 시키지 않았을 때의 역방향 항복전압은 각각, 920V와 160V 였다. 고온에서의 소자 특성도 매우 좋아서 Ni/4H-SiC Schottky 다이오드와 Ni/6H-SiC Schottky 다이오드 모두 300℃까지 전류 특성의 변화가 거의 없었으며 550℃에서도 양호한 정류 특성을 보였다. 상온에서의 Schottky barrier height와 이상인자(ideality factor) 및 specific on-resistance는 Ni/4H-SiC의 경우는 1.55eV, 1.3, 3.6×10/sup -2/Ω·㎠이었으며 Ni/6H-SiC Schottky 다이오드의 경우에 1.24eV, 1.2, 2.6×10/sup -2Ω·㎠/로 나타났다. 실험 결과 Ni/4H-SiC 및 Ni/6H-SiC Schottky 다이오드 모두 고온, 고전압 소자로서 우수한 특성을 나타냄이 입증되었다.

• 한국산업정보학회논문지
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• 제19권2호
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• pp.31-36
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• 2014

본 논문에서는 나노기술을 적용한 압저항형 온 습도복합센서를 개발하여 특성을 평가 분석 하였다. 온도 변화에 대한 출력 감도는 $20{\sim}80^{\circ}C$에 이르는 측정구간에서 약 0.75mV/$1^{\circ}C$의 출력 값을 보였다. 습도 변화에 대한 감도는 약 1.35mV/10%(RH)의 결과를 나타내었다. 이와 같은 결과에 의하여 본 논문에서 개발한 센서는 일반적인 생활 주거 환경에 적용이 가능함을 시사해 준다.

• 한국수산과학회지
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• 제19권2호
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• pp.118-126
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• 1986

1985년 7월에서 10월 사이에 부산연안지역에서 수집한 해수, 낙지, 피조개, 게, 우렁쉥이 등 70종의 시료에서 Vibrio vulnificus의 검출률과 시료에서 분리된 균의 세균학적 특성을 조사한 결과는 다음과 같다. 1. Vibrio vulnificus의 월별 검출률은 수온이 높은 8월에 $19.2\%$로 가장 높았으며 7월에 $7.7\%$ 10월에 $5.5\%$로 수온과 비례하여 나타났으며 7월과 10月 사이의 평균검출률은 $11.4\%$였다. 시료별 검출률은 서식해역의 오염도가 높고 오염된 해수와의 접촉부위가 많은 피조개와 게에서 $20\%$로 가장 높았으며 낙지 해수의 순으로 나타났다. 2. 시료에서 분리된 균과 환자에게 분리된 균의 생화학적인 차이점은 없었으며, 분리된 본균이 다른 Vibrio균과 구별될 수 있는 생화학적 특징은 ONPG 가수분해양성, lactose 분해양성, 식염내성이 $7\%$이하인 점이다. 3. 이균의 최적배양조건은 pH 8.0, 온도 $35^{\circ}C$부근이었으며, 배양온도별 비증식속도와 평균세대시간은 $35^{\circ}C$진탕배양에서 $1.21\;hr^{-1}$, 34min으로 가장 빨랐으며 $35^{\circ}C$ 정치배양, $40^{\circ}C$ 정치배양, $25^{\circ}C$ 진탕배양 $25^{\circ}C$ 정치배양의 순이었다. 4. 이 균은 장내세균분리용배지인 EMB, SS, DC 한천배지에서는 증식하지 못했으며 MC 한천배지상에서의 집낙의 특징은 적색 혹은 무색으로 나타났고 Endo 한천배지상에서는 적색, TCBS 한천배지상에서는 녹색집낙으로 나타났다. 5. 이 균을 $4^{\circ}C$에 냉장하였을 경우 매 16시간마다 약 1 log cycle씩 감소하였으며 $-18^{\circ}C$에 동결하였을 때는 거의 다 사멸하였다.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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• 제50권9호
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• pp.456-465
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• 2001

In this paper, breakdown voltages in $SF_6-N_2$ mixtures were experimentally investigated to understand characteristics of dielectric strength and physical phenomena in nonuniform field disturbed by a needle shape protrusion. The test voltages are the lightning impulse$(\pm1.2/44 \mus)$ and the damped oscillatory impulse$(\pm400 ns / 0.83 MHz)$ voltages which can be occurred by the operation of disconnecting switches in gas-insulated switchgears(GIS). The effects of the polarity and wave shape of the test voltages, and the gas pressure on the V-t characteristics were in detail examined. The V-t characteristic curves were measured in different two ways : (1) one is the method by taking the maximum voltage recorded at or prior to breakdown against the time to breakdown, that is, the Procedures recommended in IEC 60060-1, (2) the other is the method by taking the voltage at the instant of chopping against the time to breakdown. As a result, the V-t characteristics of $SF_6-N_2$ mixtures in nonuniform electric field were significantly affected by the polarity and wave shape of the applied voltages. The positive breakdown voltages resulted in lower breakdown voltages in the time ranges considered, and the V-t curves for the negative oscillatory impulse voltage were extended over the longer time range. For the lightning impulse voltages, the V-t curves obtained by IEC Pub. 60060-1 were nearly same with the V-t curves obtained by the voltage at the instant of chopping against the time to breakdown. It is clear that the actual breakdown voltages were much lower than the maximum voltages appearing at or prior to breakdown because of the displacement current produced as a result of the dV/dt during the oscillatory transient voltage app1ication. The scattering of the negative actual breakdown voltages was much larger than that of the positive.

• 한국재료학회지
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• 제10권12호
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• pp.807-811
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• 2000

MFISFET (Metal-ferroelectric-nsulator-semiconductor-field effect transistor)에의 적용을 위해 CeO$_2$와 SrBi$_2$Ta$_2$O$_{9}$ 박막을 각각 r.f. sputtering 및 pulsed laser ablation법으로 제조하였다. CeO$_2$ 박막은 증착시 스퍼터링개스비 (Ar:O$_2$)에 따른 특성을 고찰하였다. Si(100) 기판 위에 $700^{\circ}C$에서 증착된 CeO$_2$ 박막들은 (200)방향으로 우선방향성을 가지고 성장하였고 $O_2$ 개스량이 증가함에 따라 박막의 우선방향성, 결정립도 및 표면거칠기는 감소하였다. C-V특성에서는 Ar:O$_2$가 1 : 1인 조건에서 제조된 박막이 가장 양호한 특성을 보였다. 제조된 박막들의 누설전류값은 100kV/cm의 전계에서 $10^{-7}$ ~$10^{-8}$ A의 차수를 보였다. CeO$_2$/Si 기판위에 성장된 SBT는 다결정질상의 치밀한 구조를 가지고 성장을 하였다 80$0^{\circ}C$에서 열처리된 SBT박막으로 구성된 MFIS구조의 C-V 특성에서 memory window 폭은 0.9V를 보였으며 5V에서 4$\times$$10^{-7}$ A/$\textrm{cm}^2$의 누설전류밀도를 보였다.

• 한국진공학회지
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• 제10권1호
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• pp.51-56
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• 2001

MFISFET(Metal-ferroelectric-insulator-semiconductor-field effect transistor)에의 적용을 위한 절연체로서 CeO$_2$ 박막을 r.f. magnetron sputtering법에 의해 제조하였다. 스퍼터링시 증착개스는 Ar과 $O_2$를 사용하였으며 산소분압비에 따른 $CeO_2$박막의 결정성 및 전기적 특성에 미치는 영향을 평가하였다. p형-Si(100)기판 위에 $600^{\circ}C$에서 증착된 $CeO_2$ 박막들은(200)방향으로 우선방향성을 가지고 성장하였으며 Ar만으로 증착된 박막의 우선방향성은 증가하였으나 상대적으로 많은 하전입자와 표면 거칠기로 인해 C-V특성에서 큰 이력특성을 보였고 산소분압비가 증가함에 따라 양호한 특성을 보였다. 이것은 이동가능한 이온전하의 감소에 기인한다고 할 수 있다. Ce:O의 비는 모든 박막에서 1:2.22~2.42를 보여 산소과잉의 조성을 나타냈으며 산소분압비에 따라 제조된 박막들의 누설전류값은 100 kV/cm의 전계에서 $10^{-7}$~$10^{-8}$A의 차수를 보였다.

• 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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• 한국반도체및디스플레이장비학회 2007년도 춘계학술대회
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• pp.179-182
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• 2007

Polycrystaline (poly) 3C-SiC thin film on n-type and p-type Si were deposited by APCVD using HMDS, $H_2$, and Ar gas at $1180^{\circ}C$ for 3 hour. And then the schottky diode with Au/poly 3C-Sic/Si(n-type) structure was fabricated. Its threshold voltage ($V_d$), breakdown voltage, thickness of depletion layer, and doping concentration ($N_D$) value were measured as 0.84 V, over 140 V, 61nm, and $2.7{\times}10^{19}\;cm^3$, respectively. The p-n junction diode fabricated by poly 3C-SiC was obtained like characteristics of single 3C-SiC p-n junction diode. Therefore, its poly 3C-SiC thin films are suitable MEMS applications in conjuction with Si fabrication technology.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2001년도 하계학술대회 논문집
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• pp.415-418
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• 2001

The I-V characteristics and its stability of ZPCCL-based ceramic varistors doped with La$_2$O$_3$in the range of 0.0~4.0 mol% were investigated. The density of ceramics was increased in the range of 4.7~5.8 g/cm$^3$ with increasing La$_2$O$_3$content. As La$_2$O$_3$content is increased, the varistor voltage was decreased in the range of 503.49-9.42 V/mm up to 2.0 mol%, whereas increasing La$_2$O$_3$content further caused it to increase. The ZPCCL-based varistors were characterized by nonlinearity, in which the nonlinear exponent is in the range of 3.05~82.43 and leakage current is in the range of 0.24-100.22 $\mu$A. Among ZPCCL-based varistors, 0.5 mol% added-varistors exhibited an excellent nonlinearity, in which the nonlinear exponent is 82.43 and the leakage current is 0.24 $\mu$A. Furthermore, they exhibited a high stability, in which the variation rate of the varistor voltage and the nonlinear exponent was -1.11% and -6.72%, respectively, under DC stress, such as (0.80 V$_{1mA}$9$0^{\circ}C$/12h)+(0.85 V$_{1mA}$115$^{\circ}C$//12h) +(0.90 V$_{1mA}$12$0^{\circ}C$//12h)+(0.95 V$_{1mA}$1$25^{\circ}C$//12h)+(0.95 V$_{1mA}$15$0^{\circ}C$//12h). Consequently, it was estimated that ZPCCL-based ceramics will be applied to development of Pr$_{6}$O$_{11}$ based ZnO varistors having a high performance.e.rformance.e.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집
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• pp.350-353
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• 2002

High voltage SiC Schottky barrier diodes with field plate structure have been fabricated and characterized. N-type 4H-SiC wafer with an epilayer of ∼10$\^$15/㎤ doping level was used as a starting material. Various Schottky metals such as Ni, Pt, Ta, Ti were sputtered and thermally-evaporated on the low-doped epilayer. Ohmic contact was formed at the backside of the SiC wafer by annealing at 950$^{\circ}C$ for 90 sec in argon using rapid thermal annealer. Field oxide of 550${\AA}$ in thickness was formed by a wet oxidation process at l150$^{\circ}C$ for 3h and subsequently heat-treated at l150$^{\circ}C$ for 30 min in argon for improving oxide quality. The turn-on voltages of the Ni/4H-SiC Schottky diode was 1.6V which was much higher than those of Pt(1.0V), Ta(0.7V) and Ti(0.7). The voltage drop was measured at the current density of 100A/$\textrm{cm}^2$ showing 2.1V for Ni Schottky diode, 1.45V for Pt 1.35V, for Ta, and 1.25V for Ti, respectively. The maximum reverse breakdown voltage was measured 1100V in the file plated Schottky diodes with 101an thick epilayer.

• 한국에너지공학회:학술대회논문집
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• 한국에너지공학회 2003년도 추계 학술발표회 논문집
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• pp.131-135
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• 2003