• Title/Summary/Keyword: Boltzmann plot

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저온 대기압 아크젯의 플라즈마 발생부 물질에 따른 플라즈마 온도 변화 연구

  • Jeong, Hui-Su;Choe, Won-Ho
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.339-339
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    • 2011
  • 진공 플라즈마와 달리 개방된 공간에서 방전되는 대기압 플라즈마는 진공상태에서 수행되는 에칭, 증착 등의 복잡한 플라즈마 공정을 경제적이고 신속하게 수행할 수 있어, 최근 들어 연구가 활발히 진행 중이다. 이와 관련하여 He, Ar, $N_2$, $O_2$, Air 등의 여러 종류의 기체를 50 kHz 고전압에서 방전하여 대기 중에서 저온 플라즈마 공정이 가능한 아크젯 타입의 플라즈마 소스를 개발하였다. 개발된 플라즈마 소스에서는 입력전압, 기체유량, 노즐의 구조와 크기 등의 여러 운전변수에 따라 플라즈마의 방전특성이 변화되었다. 특히 본 연구에서는 아크젯의 플라즈마 발생부의 물질성분(SUS, Aluminum, Cupper)에 따른 플라즈마의 기체온도 및 전자여기 온도의 변화를 광방출분광법(OES)를 이용한 Synthetic spectrum method와 Boltzmann plot method을 통해 살펴보았다. 전압-전류 특성곡선, 시간분해 이미지 촬영법, 기체온도 측정법 등을 이용하여 발생된 플라즈마의 물리적인 특성을 분석하였다. 특히 물질의 성분에 따라 발생되는 플라즈마의 기체 및 전자여기 온도가 이차 전자 방출계수 및 물질의 전도도와의 상관관계가 있는지 연구가 진행 중이다.

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Emission spectroscopic diagnostics of argon arc Plasma in Plasma focus device for advanced lithography light source (차세대 리소그래피 빛샘 발생을 위한 플라스마 집속장치의 아르곤 아크 플라스마의 방출 스펙트럼 진단)

  • Hong, Y.J.;Moon, M.W.;Lee, S.B.;Oh, P.Y.;Song, K.B.;Hong, B.H.;Seo, Y.H.;Yi, W.J.;Shin, H.M.;Choi, E.H.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.15 no.6
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    • pp.581-586
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    • 2006
  • We have generated the argon plasma in the diode chamber based on the established coaxial electrode type and investigated the emitted visible light for emission spectroscopy. We applied various voltages $2\sim3.5kV$ to the device by 0.5kV, and obtained the emission spectrum data for the focused plasma in the diode chamber on the argon pressure of 330 mTorr. The Ar I and Ar II emission line are observed. The electron temperature and ion density have been measured by the Boltzmann plot and Saha equation from assumption of local thermodynamic equilibrium (LTE) The Ar I and Ar II ion densities have been calculated to be $\sim10^{15}/cc\;and\;~10^{13}/cc$, respectively, from Saha equation.

Interdiffusion in Pd/Cu Multilayered Film and Its Thermal Stability (Pd/Cu 다층박막의 상호확산 및 열안전성)

  • 전인준;이영백;홍재화
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.3 no.1
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    • pp.51-58
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    • 1994
  • 확산 현상은 박막성장 과정 및 박막의 기계, 전기, 자기적 성질 이해에 중요한 역할을 한다. 열 처리에 의한 상호확산 때문에 생긴 Pd/Cu 다층박막의 조성변화를 AES depth-profiling 방법을 이용해 서 조사하였다. 열처리전 시료에서의 각형의 초기 조성분포가 여러온도에서의 열처리에 의해 정현파 모 양의조성분포로 변화되었다. 조성의존성을 고려하지 않은 상호확산 계수를 정현파 분포의 진폭으로부터 구하였으며, 1.66 eV의 값을 갖는 활성화에너지는 Arrhenius plot으로부터 산출하였다. 또한 Boltzmann-Matano 방법을 사용해서 15$0^{\circ}C$에서의 조성의존 상호확산계수도 구하였다. 열처리에 의해 조 성균일화가 되는 것으로만 알려졌던 본물질계에서도 상분리가 생성됨을 관찰하였고, 그 열처리 조건은 $180^{\circ}C$에서 150분 보다 짧아야함을 밝혔다.

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대기압 플라즈마 젯의 질소종에 의한 방출광 및 온도변화 연구

  • Park, Sang-Hu;Jeong, Hui-Su;Kim, Seon-Ja;Choe, Won-Ho
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.08a
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    • pp.345-345
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    • 2011
  • 최근 대기압 플라즈마 젯을 이용한 바이오/메디컬의 활발한 응용연구가 진행 중이다. 박테리아 및 세균의 살균은 물론 암세포 세포예정사에 핵심적인 역할을 하는 활성산소종(Reactive Oxygen Species, ROS) 또는 다양한 라디칼들은 대기압 플라즈마의 다양한 변수를 이용하여 조절할 수 있다고 알려져 있다. 수십 kHz의 고전압에서 발생된 마이크로 헬륨 플라즈마 젯에서 질소종의 제어를 통해 같은 부피의 플라즈마 젯에서의 방출광을 살펴보았다. 또한 광섬유센서를 이용하여 플라즈마의 기체온도를 측정하고 Boltzmann plot method를 통해 전자의 여기온도 변화를 관찰하였다. 실험의 결과, 같은 부피의 플라즈마에서 질소종이 증가할 때 기체온도는 큰 변함이 없지만 여기온도가 증가하는 것을 관찰하였다. 시간분해 이미지 촬영으로 질소종의 양에 따른 플라즈마 불릿의 속도 변화를 분석을 하였고, 최종적으로 대기압 플라즈마 젯의 질소종 변화에 따른 대장균의 비활성화 정도를 관찰하였다.

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Recent Advance in High Pressure Induction Plasma Source

  • Sakuta, T.
    • Journal of the Korean institute of surface engineering
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    • v.34 no.5
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    • pp.395-402
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    • 2001
  • An induction thermal plasma system have been newly designed for advanced operation with a pulse modulated mode to control the plasma power in time domain and to create non-equilibrium effects such as fast quenching of the plasma to produce new functional materials in high rate. The system consists of MOSFET power supply with a maximum power of 50 kW with a frequency of 460 kHz, an induction plasma torch with a 10-turns coil of 80 mm diameter and 150 mm length and a vacuum chamber. The pulse modulated plasma was successfully generated at a plasma power of 30 kW and a high pressure of 100 kPa, with taking the on and off time as 10 ms, respectively. Measurements were carried out on the time-dependent spectral lines emitted from Ar species. The dynamic behavior of plasma temperature in a pulse cycle was estimated by the Boltzmann plot and the excitation temperature of Ar atom was found to be changed periodically from around 0.5 to 1.7 eV during the cycle. Two application regions of the induction thermal plasma newly generated were introduced to material processing with high rate synthesis based on non equilibrium effects, and to the finding of new arc quenching gases coming necessary for power circuit breaker, which is friendly with earth circumstance alternative to SF6 gas.

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Temperature Field and Emission Spectrum Measurement of High Energy Density Steam Plasma Jet for Aluminum Powder Ignition (알루미늄 분말 점화용 고밀도 스팀 플라즈마 제트 온도장 및 방출 스펙트럼 측정)

  • Lee, Sanghyup;Lim, Jihwan;Lee, Dohyung;Yoon, Woongsup
    • Journal of the Korean Society of Propulsion Engineers
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    • v.18 no.1
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    • pp.26-32
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    • 2014
  • In this study, DC (Direct current) type steam plasma igniter is developed for effective ignition of high-energy density metal aluminum and gas temperature is measured by emission spectrum of OH radical. Because of the ultra-high gas temperature, the DC plasma jet is measured by Boltzmann plot method which is the non-contact optical technique and spectrum comparison-analysis. And both methods were applied to experiment after accurate verification. As a result, we could identify that plasma jet temperature is 2900 K ~ 5800 K in the 30 mm range from the nozzle tip.

저주파 및 고주파 구동 대기압 플라즈마 젯의 특성 비교

  • Gwon, Yang-Won;Baek, Eun-Jeong;Eom, In-Seop;Jo, Hye-Min;Kim, Seon-Ja;Jeong, Tae-Hun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.194.2-194.2
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    • 2016
  • 저주파 (수십 kHz)와 고주파 (13.56 MHz)로 구동되는 대기압 플라즈마 젯을 발생시키고, 인가전압 (혹은 인가전력)과 기체 유량에 따른 대기압 플라즈마의 특성을 비교하였다. 고주파에서 발생된 플라즈마는 저주파의 경우보다 안정적이었으며, 인가전압 (혹은 인가전력)이 증가함에 따라 플라즈마 기체온도는 상승하였고, 고주파 젯의 기체온도는 저주파 젯 보다 높았으나 330 K이하인 것을 확인하였다. Optical Emission Spectroscopy (OES)를 이용하여 저주파와 고주파의 광 방출 특성을 측정하였다. 저주파에서는 $N_2{^+}$ (391.4 nm)의 intensity 증가가 두드러지게 나타났지만 고주파 젯에서는 $N_2$, $N_2{^+}$의 intensity는 감소하였으며, OH, NO, $H_{\alpha}$, O와 같은 활성 산소 종 (Reactive Oxygen Species)이 저주파 젯 보다 높게 측정되었다. Boltzmann plot method를 이용한 분석을 통해 저주파와 고주파 영역에서의 플라즈마 전자 여기 온도를 측정하였다. 또한 자외선 흡수분광법을 이용하여 플라즈마-액체 계면에서의 OH이 입자밀도를 측정하여 OES방법으로 측정한 OH 밀도와 비교하였다. 그리고 화학적 측정법 (terephtalic acid solution)을 이용하여 액체 내의 OH의 농도를 측정하였다.

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Measurement of Radiation Intensity of the High-Pressure and Large-Current Arc (고압 대전류 아크의 복사강도 측정)

  • Song, Ki-Dong;Oh, Yeon-Ho;Chong, Jin-Kyo;Cho, Yong-Sung
    • The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers B
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    • v.55 no.11
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    • pp.555-563
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    • 2006
  • This paper presents the measured radiation intensity of high-pressure and large-current arc with the current. In order to measure the radiation intensity of large-current arc, a model circuit breaker was specially designed and manufactured and the method using an astronomical telescope was utilized after various measuring methods were investigated. A trigger system was designed and fabricated to coincide the time of desired current with the exposure time of 1ms of the spectroscope. A high-speed camera was used to investigate the shape and behavior of the arc and the captured results have been used to calculate the radiation energy. The calculated arc temperature with Boltzmann plot method using the measured radiation intensity have $18,000{\sim}27,000K$ to the current $4kA{\sim}15kA$. And also, using the calculated arc temperature and the captured arc shape the radiation energy of the current $5kA{\sim}15kA$ were calculated with $8{\times}10^5{\sim}4.0{\times}10^6W/m$ respectively.

Measurement of EUV (Extreme Ultraviolet) and electron temperature in a hypocycloidal pinch device for EUV lithography

  • Lee, Sung-Hee;Hong, Young-June;Choi, Eun-Ha
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.08a
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    • pp.108-108
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    • 2010
  • We have generated Ne-Xe plasma in dense plasma focus device with hypocycloidal pinch for extreme ultraviolet (EUV) lithography and investigated an electron temperature. We have applied an input voltage 4.5 kV to the capacitor bank of 1.53 uF and the diode chamber has been filled with Ne-Xe(30%) gas in accordance with pressure. If we assumed that the focused plasma regions satisfy the local thermodynamic equilibrium (LTE) conditions, the electron temperature of the hypocycloidal pinch plasma focus could be obtained by the optical emission spectroscopy (OES). The electron temperature has been measured by Boltzmann plot. The light intensity is proportion to the Bolzman factor. We have been measured the electron temperature by observation of relative Ne-Xe intensity. The EUV emission signal whose wavelength is about 6~16 nm has been detected by using a photo-detector (AXUV-100 Zr/C, IRD) and the line intensity has been detected by using a HR4000CG Composite-grating Spectrometer.

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Measurement of a temperature and components of arc plasma with a spectroscopic method (분광법을 이용한 아크 플라즈마의 온도 및 성분 측정)

  • Jeong, Young-Woo;Lee, Sang-Youb;Park, Hong-Tae;Oh, Il-Sung
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2003.07c
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    • pp.1840-1842
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    • 2003
  • This paper describes an experiment of detecting a temperature and components of arc plasma of electrical circuit breaker with a spectroscopic system. The system includes an optical fiber, a monochromator which has three gratings from low to high resolution and ICCD of which time resolution is 50 ns. This system enables measuring a temperature and components of arc plasma of a circuit breaker which is generated and extinguished in a few ms. We use a Planck's law and Boltzmann Plot method for calculating a temperature of arc plasma. A Xenon lamp is used for calibrating the system and this is very important for calculating a temperature of arc plasma. In this study, Arc plasma of Ag and Cu contact was investigated and these represent the contact of low voltage and extra-ultra high voltage circuit breaker, respectively. 8 $kA_{rms}$ test current was applied with a capacitor bank.

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