We investigate the influence of the ambient gas during thermal annealing on the photoluminescence (PL) properties of europium-silicate thin films. The films were fabricated on substrates by using a radio-frequency magnetron sputtering method and subsequent rapid thermal annealing (RTA). The mechanism for the formation of the europium silicates during the annealing process was investigated by using X-ray diffraction (XRD) spectroscopy, Auger electron spectroscopy (AES) and transmission electron microscopy (TEM). A series of narrow PL spectra from $Eu^{3+}$ ions was observed from the film annealed in $O_2$ ambient. Broad PL spectra associated with $Eu^{2+}$ ions, with a maximum intensity at 600 nm and a FWHM of 110 nm, were observed from the thin film annealed at $1000^{\circ}C$ in $N_2$ ambient.
A magnetic field annealing is firstly used for nanostructured Sm-Co/Co films, prepared by magnetron sputtering method. The effects of magnetic field annealing on single-layered Sm-Co films are different from those on multi-layered Sm-Co/Co films. A detailed analysis of microstructures and magnetic properties is made by means of HRTEM, Auger electron spectroscopy, XRD and Physical Property Measurement System (PPMS). From magnetic properties and microstructure analysis, it was confirmed that these differences originate from the effects of magnetic field annealing on crystallization behavior of the films. The relationship between magnetic properties and microstructures explains a different demagnetization process of single-layered and multilayered films. For the single-layered Sm-Co films, magnetic-field-annealing makes the main phases change from $CaCu_5/ to Zn_2Th_{17}$ structure, resulting in a decrease of coercivity. The results show that the magnetic-field-annealing is useful to improve the properties of nanostructured Sm-Co(30 nm)/Co(10 nm) films, which ascribe to improving the pinning effectiveness in coercivity mechanism and decreasing the magnetostatic interaction of films. A very high coercivity about 0.7 T was obtained from nanoscaled multi-layered Sm-Co(30 nm)-/Co(10 nm) films.
Copper-Tin (CuSn) thin films were synthsized by rf magnetron co-sputtering method with pure Cu and Sn metal targets with various rf powers and sputtering times. The obtained CuSn thin films were characterized by a surface profiler (alpha step), X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray induced Auger electron spectroscopy (XAES), and contact angle measurement. The deposition rates were calculated by the thickness of CuSn thin films and sputtering times. We observed hexagonal Cu20Sn6 and cubic Cu39Sn11 phases from the films by XRD measurement. From the survey XPS spectra, the Cu and Sn main peaks were observed. Therefore, we could conclude CuSn thin films were successfully fabricated on the substrate in this study. The changes of oxidation states and chemical environment of the films were investigated with high resolution XPS spectra in the regions of Cu 2p, Cu LMM, and Sn 3d. Surface free energy (SFE) and wettability of the CuSn thin films were studied with distilled water (DW) and ethylene glycol (EG) using the contact angle measurement. The total SFE of CuSn thin films decreased as rf power on Cu target increased. The contribution to the total SFE of dispersive SFE was relatively superior to polar SFE.
In this paper, GaN films have been grown on SiO$_2$/Si(100) substrates by RF magnetron sputtering. To obtain high quality GaN films, we used ZnO buffer layer and modified the process conditions. The charateristics of GaN films on RF power, substrate temperature and Ar/N$_2$gas ratio have been investigated by Auger electron spectroscopy and X-ray diffraction analysis. At RF power 150W, substrate temperature 500 $^{\circ}C$ and Ar/N$_2$=1:2 gas ratio, we could grow high quality GaN films. Through the atomic force microscope and photoluminescence analysises, it was observed that the crystallization of GaN films was improved with increasing annealing temperature and the optimal crystallization of GaN films was found at 1100 $^{\circ}C$ annealing temperature.
Chang, S.S;Yoon, S.O;Choi, G.J;Kawakami, Y;Sakai, A
The Korean Journal of Ceramics
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제4권1호
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pp.28-32
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1998
This paper reports on photoluminescence (PL), luminescence decay curves, and compositional analysis of porous silicon(PS) which is aged under air ambient by Fourier transform infrared vibrational spectroscopy (FTIR) and by Auger electron spectroscopy (AES). Porous silicos which has been aged under air ambient yields two PL band structures, i.e. blue/violet PL and red PL. The evolution of a blue/violet band is pronounced, especially for thin PS film which is prepared in dilute HF solution. The blue/violet PL band has been observed initially to increrase rapidly with aging, then saturated with further atmospheric aging. The ambient air aged PS exhibits a fast decay time of sub-nanosecond at room temperature and shows appreciably faster decay time than that at 20K. Atmospheric aging of this thin blue/violet luminescing PS yield non-stoichiometric oxide judging from the vibrational spectra of Si-O and AES analysis.
The adsorption and decomposition of NO on a stepped Pt(111) surface have been studied using thermal desorption spectroscopy and Auger electron spectroscopy. NO adsorbs molecularly in two different states of the terrace and the step, which are distinguishable in thermal desorption spectra. NO dissociates via a bent species at the step sites on the basis of vibrational spectrum data reported previously. The dissociation of NO is an activation process : the activation energy is estimated to be about 2 kcal/mol. Increase in the NO dissociation with adsorption temperature is explained by a process controlled by diffusion of the dissociated atomic nitrogen from the step to the terrace of the surface. In addition to NO and N2, the desorption peak of N2O is observed. We conclude that the formation of N2O is attributed to surface reaction of NO and N adsorbed on the surface.
The selective dry etching of GaAs to Al\ulcornerGa\ulcornerAs using $BCI_3/SF_6$ gas mixture in electron cyclotron resonance(ECR) plasma is investigated. A selectivity of GaAs to AlGaAs of more than 100 and maximum etch rate of GaAs are obtained at a gas ratio $SF_6/BCI_3+SF_6$ of 25%. We verified the formation of $AlF_3$ on $Al_{0.25}Ga_{0.75}As$from the Auger spectra which enhanced the etch selectivity. In order to investigate surface damage of AlGaAs caused by ECR plasma, we performed a low temperature photoluminescence(PL) measurement as a function of RF power. As the RF power. As the RF power increases, the PL intensity decreases monotonically from 50 to 100 Wand then repidly decreases until 250 W. This behavior is due to surface damage by plasma treatment. This dry etching technique using $BCI_3/SF_6$ gas mixture in ECR plasma is suitable for gate recess formation on the GaAs based pseudomorphic high electron mobility transistor(PHEMT)
CuSn thin films were fabricated by rf magnetron co-sputtering method on the Si(100) substrate for evaluation of the antibacterial effect. The co-sputtering process was performed with different rf powers and sputtering times to regulate the thickness of the films and relative atomic ratio of Cu to Sn. The physicochemical properties of the CuSn thin films were characterized by X-ray diffraction (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray induced Auger electron spectroscopy (XAES), Optical microscope (OM), 4-point probe, and antibacterial test. An antibacterial test was conducted with Escherichia coli (E. coli) and Staphylococcus aureus (S. aureus) as changing contact times between CuSn fillms and bacteria suspension. We compared to the crystalline structures of films before sterilization and after sterilization by XRD measurement. The changes of oxidation states of Cu and Sn and the chemical environment of films before and after antibacterial test were investigated with high resolution XPS spectra in the regions of Cu 2p, Cu LMM, and Sn 3d. After antibacterial test, the morphology of the films was checked with an OM images. The electrical properties of the CuSn films such as surface resistance and conductivity were measured by using 4-point probe.
In this study, the optical properties and structural characteristics of gallium nitride (GaN) thin films prepared by radio frequency (RF) magnetron sputtering were investigated. Auger electron and X-ray photoelectron spectra showed that the deposited films consisted mainly of gallium and nitrogen. The presence of oxygen was also observed. The optical bandgap of the GaN films was measured to be approximately 3.31 eV. The value of the refractive index of the GaN films was found to be 2.36 at a wavelength of 633 nm. X-ray diffraction data revealed that the crystalline phase of the deposited GaN films changed from wurtzite to zinc-blende phase upon decreasing the sputtering gas pressure. Along with the phase change, a strong dependence of the microstructure of the GaN films on the sputtering gas pressure was also observed. The microstructure of the GaN films changed from a voided columnar structure having a rough surface to an extremely condensed structure with a very smooth surface morphology as the sputtering gas pressure was reduced. The relationship between the phase and microstructure changes in the GaN films will be discussed.
Electrochemical lithium intercalation into a PECVD (plasma enhanced chemical vapour deposited) carbon film electrode was investigated in 1 M $LiPF_6-EC$ (ethylene carbonate) and DEC (diethyl carbonate) solution during lithium intercalation and deintercalation, by using cyclic voltammetry supplemented with ac-impedance spectroscopy. The size of the graphitic crystallite in the a- and c-axis directions obtained from the carbon film electrode was much smaller than those of the graphite one, indicating less-developed crystalline structure with hydrogen bonded to carbon, from the results of AES (Auger electron spectroscopy), powder XRD (X-ray diffraction) method, and FTIR(Fourier transform infra-red) spectroscopy. It was shown from the cyclic voltammograms and ac-impedance spectra of carbon film electrode that a threshold overpotential was needed to overcome an activation barrier to entrance of lithium into the carbon film electrode, such as the poor crystalline structure of the carbon film electrode showing disordered carbon and the presence of residual hydrogen in its structure. The experimental results were discussed in terms of the effect of host carbon structure on the lithium intercalation capability.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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