한 쌍의 대기압 플라즈마 제트 장치의 전극에 인가하는 교류 전압의 극성에 따라서 발생되는 플라즈마 칼럼의 전위를 고전압 프로브를 사용하여 계측하였다. 고전압이 인가되는 플라즈마 제트 장치에서 발생되는 플라즈마 칼럼은 고전압 인가측의 전위는 높고 플라즈마 칼럼을 따라서 선형적으로 전위가 감소한다. 이러한 플라즈마 칼럼은 단위 길이당 저항이 수 $M{\Omega}/m$에서 수십 $M{\Omega}/m$의 저항체이다. 한 쌍의 플라즈마 제트 장치의 전극에 극성이 다른 전압으로 발생되는 플라즈마 전위의 극성은 인가전압의 극성과 동일하다. 따라서 서로 다른 극성의 전압을 인가한 한 쌍의 플라즈마 제트 장치에서 방출되는 플라즈마의 대기 중의 병합점에서 상호 인력이 작용하며, 병합점의 전위는 수십 V로 낮다. 동일한 극성의 전압을 인가하여 방출되는 한 쌍의 플라즈마 제트는 상호 동일한 극성의 전위에 의하여 상호 척력이 작용하며, 병합점에서의 전위는 수백 V로 높다. 이러한 한 쌍의 플라즈마 제트에서 방출되는 플라즈마를 인체에 조사하는 경우는 전기적인 충격이나 열적인 손상은 플라즈마의 전위와 전류의 곱인 플라즈마 전력의 크기에 비례한다.
Han, Im Sik;Byun, Young-Jin;Lee, Yong Seok;Noh, Sam Kyu;Kang, Sangwoo;Kim, Jong Su;Kim, Jun Oh;Krishna, Sanjay;Ku, Zahyun;Urbas, Augustine;Lee, Sang Jun
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.298-298
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2014
Quantum dot infrared photodetectors (QDIPs) based on Stranski-Krastanov (SK) quantum dots (QDs) have been widely explored for improved device performance using various designs of heterostructures. However, one of the biggest limitations of this approach is the "pancake" shape of the dot, with a base of 20-30 nm and a height of 4-6 nm. This limits the 3D confinement in the quantum dot and reduces the ratio of normal incidence absorption to the off-axis absorption. One of the alternative growth modes to the formation of SK QDs is a sub-monolayer (SML) deposition technique, which can achieve a much higher density, smaller size, better uniformity, and has no wetting layer as compared to the SK growth mode. Due to the advantages of SML-QDs, the SML-QDIP design has attractive features such as increased normal incidence absorption, strong in-plane quantum confinement, and narrow spectral wavelength detection as compared with SK-DWELL. In this study, we report on the improved device performance of InAs/InGaAs SML-QDIP with different composition of $Al_xGa1-_xAs$ barrier. Two SML-QDIPs (x=0.07 for sample A and x=0.20 for sample B) are grown with the 4 stacks 0.3 ML InAs. It is investigated that sample A with a confinement-enhanced (CE) $Al_{0.22}Ga_{0.78}As$ barrier had a single peak at $7.8{\mu}m$ at 77 K. However, sample B with an $Al_{0.20}Ga_{0.80}As$ barrier had three peaks at (${\sim}3.5{\mu}m$, ${\sim}5{\mu}m$, ${\sim}7{\mu}m$) due to various quantum confined transitions. The measured peak responsivities (see Fig) are ~0.45 A/W (sample A, at $7.8{\mu}m$, $V_b=-0.4V$ bias) and ~1.3 A/W (sample B, at $7{\mu}m$, $V_b=-1.5V$ bias). At 77 K, sample A and B had a detectivity of $1.2{\times}10^{11}cm.Hz^{1/2}/W$ ($V_b=-0.4V$ bias) and $5.4{\times}10^{11}cm.Hz^{1/2}/W$ ($V_b=-1.5V$ bias), respectively. It is obvious that the higher $D^*$ of sample B (than sample A) is mainly due to the low dark current and high responsivity.
대형구조물의 진동감소를 위한 슬라이딩 모드 퍼지 제어기(Sliding Mode Fuzzy Control SMFC)에 대하여 연구하였다 본 제어기에 사용된 퍼지 추론기의 규칙은 비선형 제어기법의 하나인 슬라이딩 모드 제어기를 기반으로 하여 구성되었다 그결과 제어기의 퍼지성은 제어시스템을 시스템 계수의 불확실성과 구조물에 작용되는 외부하중의 불확실성에 대하여 강인한 성질은 갖게 하였으며 제어 규칙의 비선형성으로 인하여 제어기는 선형제어기에 비하여 보다 효율적인 되었다 복잡한 수학 해석에 기반한 종래의 제어기법에 비하여 퍼지 이론에 기반한 본 제어기법은 제어기의 설계절차가 매우 편리하다는 장점을 갖게 된다. 제안된 제어기법의 검증을 위하여 미국 토목학회 산하 구조제어위원회(ASCE Committee on Structural Control)에서 주도한 벤치마크 문제에 대하여 적용시켜 보았다 본 연구의 제어결과를 다른 연구자들에 의하여 발표된 {{{{ ETA _mixed _2$\infty$ }}, optimal polynomial control neural networks control 슬라이딩 모드 제어의 벤치마크 결과와 비교하였으며 그 결과 제안된 제어기법이 구조물의 진동을 매우 효율적으로 감소시키며 제어기의 설계절차가 쉽고 편리함을 확일 할 수 있었다.
본 논문은 한중 양국의 FDI 관련 현황과 정책적 강약점을 파악하고 이를 통해 중국자본 유치전략에서 요구되는 기본적 전제조건을 검토함으로써 향후 중국자본 유치에 도움이 되는 정책방향을 모색하는 데에 연구목적을 둔다. 연구결과 도출된 주요 전제조건들을 제시하면 다음과 같다. 첫째, 한중간 경제관계는 상호보완적이고도 협력적인 수준에 크게 미흡한 상태이므로 무조건적 경쟁관계로 발전할 수 있는 위협요인들을 미리 제거하고, 양국간 신뢰관계를 확대해 나가야 한다. 둘째, 적어도 중국의 입장에서 보면 한국은 매력적인 투자처가 되지 못하고 있다. 최근 발효된 한미FTA 등 한국의 FTA 확대 기회를 적극 활용할 필요가 있다. 셋째, 한국을 대신하는 중국의 대체투자처는 항상 존재하고 있으므로, 투자종목이나 투자규모, 투자방식 등 중국자본 유치에 관련된 투자 협상력은 상당 부분 중국측이 가지고 있다는 사실을 간과하지 말아야 할 것이다. 넷째, 한국의 FDI 정책이 기존의 정책적 프레임 속에 갇혀 규칙 파괴자(rule breaker)의 기능을 발휘하지 못한다면 중국자본 유치는 노력에 비해 성과를 기대하기 어려울 것이다. 다섯째, 중국을 과대평가하거나 중국자본의 힘을 맹신하는 상황에서 중국자본 유치 노력을 경주하다가는 외형적 투자 또는 부실투자로 이어져 예기하지 못한 국가적 손실을 초래할 수 있다는 점에 유의해야 한다.
Copper (Cu) had been attractive material due to its superior properties comparing to other metals such as aluminum or tungsten and considered as the best metal which can replace them as an interconnect metal in integrated circuits. CMP (Chemical Mechanical Polishing) technology enabled the production of excellent local and global planarization of microelectronic materials, which allow high resolution of photolithography process. Cu CMP is a complex removal process performed by chemical reaction and mechanical abrasion, which can make defects of its own such as a scratch, particle and dishing. The abrasive particles remain on the Cu surface, and become contaminations to make device yield and performance deteriorate. To remove the particle, buffing cleaning method used in post-CMP cleaning and buffing is the one of the most effective physical cleaning process. AE(Acoustic Emission) sensor was used to detect dynamic friction during the buffing process. When polishing is started, the sensor starts to be loaded and produces an electrical charge that is directly proportional to the applied force. Cleaning efficiency of Cu surface were measured by FE-SEM and AFM during the buffing process. The experimental result showed that particles removed with buffing process, it is possible to detect the particle removal efficiency through obtained signal by the AE sensor.
본 연구에서는 글루코스 산화효소(glucose oxidase, GOx), 고분자인 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine, PEI), 카본나노튜브(carbon nanotube, CNT)와 벤조퀴논(benzoquinone, BQ)을 이용하여 글루코스 바이오연료전지를 위한 바이오 촉매를 합성하였다. 이를 위해, 지지체인 PEI/CNT 복합체에 BQ를 정전기적 인력을 통해 물리적으로 포집한 뒤, GOx를 담지시켜 합성하였다. 이는 기존에 전자 매개체로서 전해질에 풀어서 사용했던 BQ를 전해질이 아닌 촉매 내에 포집하여 촉매를 구성하였다는 개선점이 크며, 그 결과, BQ가 포집되지 않은 촉매 대비, 1.9배 상승한 $34.16{\mu}A/cm^2$의 최대전류밀도를 얻음을 통해 촉매활성이 개선되었음을 증명하였고, 바이오연료전지의 산화극 촉매로 이용 시, BQ가 포집되지 않은 촉매를 이용한 바이오연료전지에 비해 1.2배 상승한 $0.91mW/cm^2$의 최대출력밀도를 얻었다. 이를 통해 바이오연료전지의 산화극을 위한 촉매로서 GOx와 함께 담지된 매개체 BQ를 포함한 촉매 제조 가능성을 확인하였다.
유럽연합에서 회사법 통일의 노력은 리스본조약 이전부터 회사법과 관련한 규칙과 지침을 설정했다는 점에서 중요한 의미를 지닌다. 유럽연합 회사법의 법규범은 자체의 규칙을 통해 유럽주식회사라는 개념을 설정하였으며, 공개유한책임회사인 유럽주식회사와 더불어, 2008년 이후에는 중소기업을 위한 폐쇄유한책임회사에 대한 입법도 추진하고 있다. 최근 유럽주식회사법을 근거로 설립된 회사의 수가 증가되면서 발전된 형태의 회사법에 대한 논의가 활발히 진행되고 있으며, 이는 우리나라 회사법 분야에서도 흥미로운 주제가 된다. 기존의 유럽회사법에 관한 국내연구는 전반적인 유럽회사규칙 및 지침에 대한 내용을 소개하고 있으나, 근래에 이루어지고 있는 회원국 법률간 하향경쟁과 이를 통한 회원국의 입법에서의 변화, 그리고 유럽에서의 회사법연구에 대한 최근 논의에 대해서 다시 다루어 볼 필요가 있다. 따라서 이글에서는 유럽연합조약을 통한 설립의 자유와 이를 통한 각 회원국의 법률 간 경쟁과 유럽주식회사규칙의 제정 배경에 대해서 살펴보고 현재 유럽주식회사규칙의 내용을 평가한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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