RF스퍼터 공정압력의 변화에 따른 $TiO_2$ 박막의 특성
(The Characteristics of $TiO_2$ thin films on Working pressure of RF sputter)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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- pp.218-219
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- 2009