W/O 에멀젼법하에 homogenizer를 사용하여 ${\alpha}$-알루미나 분체 제조 시 O : W 부피비, 교반속도, 계면활성제 사용량과 조성 및 종류 등의 변화에 의하여 분체의 입자형상, 응집성, 평균입경과 입도분포 등의 변화를 분석하였다. 계면활성제는 비이온 계면활성제가 사용되었고 단일 및 혼합계면활성제로는 SP80 및 [SP80 & TW80]을 사용하였고 보조계면활성제로는 n-부탄올을 사용하였다. SP80을 사용하였을 경우, 분체의 입자형상은 구형에 근접하였고 평균입경은 주어진 O : W 부피비 변화 및 16000 rpm 이상의 교반속도에서 큰 차이를 보이지 않았다. [SP80 & TW80]을 사용하였을 경우, 구형에 가까운 분체의 입자간 응집 및 합체현상은 $HLB_m$ = 5일 때 낮았고 평균입경은 단일계면활성제를 사용하였을 때 비하여 다소 감소하였다. $HLB_m$ = 5인 [SP80 & TW80]와 함께 0.1 vol% n-부탄올을 사용하였을 경우, 입자간 응집성이 상대적으로 낮고 나노크기의 입도를 갖는 분체 분율을 증가시킬 수 있었다.
이 연구의 주목적은 영광-나주지역에 분포하는 송림-대보화강암류를 지질시대, 광물조성, 화학성분과 조직에 따라 각섬석-흑운모화강섬록암, 흑운모화강암, 반상화강암과 복운모화강암의 네가지 암상으로 구분하였다. 이들 화강암류는 동원마그마로부터 분화된 일련의 분화산물로 이루어진 화성암 복합체이며, 페름기말에서 트라이아스기 사이에 옥천습곡대와 영남육괴 사이에서 지괴들의 충돌운동으로 유발된 응력장하에서 형성되었고, 그리고 이 변형대의 형성기에 전후하여 정치된 화강암류가 대보운동을 받아 엽리상화강암류와 비변형화강암류를 형성하였다. 이들 영광-나주지역에 분포하는 화강암질암류의 구성광물 성분은 사장석, 흑운모. 백운모와 각섬석으로 구성되어있다. 사장석은 오리고클레스($An_{19.3-27.7}$)와 안데신($An_{28.4-31}$)성분에 해당하며 누대구조의 성분변화도 좁은영역에 치우치면 이는 느린 결정작용과 이들 결정들의 성장이 최종고결작용 이전에 일어났음을 보여준다. 흑운모의 Mg 함량은 산소의 압력과 분화도의 증가에 따른다(프로고파이트에서 시데로피라이트로 변함). $Al^{iv}$/$Al^{total}$ 관계는 전체 알루미나양에 따라 증가한다. 백운모는 일차기원이며 높은 $TiO_2$함량을 보이는 세라도나이트이다. 각섬석은 회각섬석류에 속하며 지질압력계로 계산한 화강암질암의 고결심도는 11.3-17.2 Km이다.
Herein, we report on the co-firing of a low-K wiring substrate and a middle-K functional substrate in LTCC. Firstly, we researched the sintering behavior and dielectric properties of the low-k wiring substrate comprised by alumina and glass frit with ${\varepsilon}_r$, of $\sim7$ and the middle-k functional substrate comprised by $Ba_{5}Nb_{4}O_{15}$ and glass frit with ${\varepsilon}_r$, of $20\sim30$. The warpage and delamination between the hetero layers of the low-K and the middle-K composition were also studied. In particular, physical matching of the hetero layers could be possible by adjusting of the sintering properties of the composition. We observed that an introduction of the glass frit to the low- and middle-K substrate gives rise to a minimization of an effect given by separation of the hetero layers, and modification of the fraction of the glass frit accompanied by a variation of the composition could control the sintering behavior and its beginning temperature. In the case of co-firing of the L03 as the low-K wiring substrate composition and the M03 as the middle-K functional substrate composition at $875^{\circ}C$, we could fabricate a desirable structure of hetero layers without any kinds of structural defects such as separation, warpage, delamination, pore trap, etc. We suppose that the co-firing techniques described in this study would provide a helpful method to fabricate a LTCC multi-functional for the next generation.
In this study, monolithic liquid phase sintered SiC (LPS-SiC) was made by the hot pressing method with nano-SiC powder, whose particle size is 30 nm and less on the average. Alumina ($Al_{2}O_{3}$), yttria ($Y_{2}O_{3}$), and silica ($S_{i}O_{2}$) were used for sintering additives. To investigate the effects of $S_{i}O_{2}$, the $Al_{2}O_{3}/Y_{2}O_{3}$ composition was fixed and the ratio of $S_{i}O_{2}$ was changed, with seven different ratios tested. And to investigate the effects of the sintering temperature, the sintering temperature was changed, with $1760^{\circ}C,\;1780_{\circ}C$, and $1800_{\circ}C$ being used with a $S_{i}O_{2}$ ratio of 3 wt%. The materials were sintered for 1 hour at $1760^{\circ}C,\;1780^{\circ}C$ and $1800^{\circ}C$ under a pressure of 20 MPa. The effects on sintering from the sintering system used, as well as from the composition of the sintering additives, were investigated by density measurements. Mechanical properties, such as flexural strength, were investigated to ensure the optimum conditions for a matrix of SiCf/SiC composites. Sintered densityand the flexural strength of fabricated LPS-SiC increased with an increase in sintering temperature. Particularly, the relative density of a sintered body at $1800^{\circ}C$ with a non-content of $S_{i}O_{2}$, a specimen of AYSO-1800, was 95%. Also, flexural strength was about 750MPa.
치과용 재료를 포함한 생체재료로 각광을 받고 있는 알루미나-유리복합체에 사용되는 유리침투재의 적정 조성은 열팽창계수가 중요 인자로, 적합한 열팽창계수를 가지는 적정 조성 유리 개발을 효율적으로 달성하기 위하여 다구치 실험계획법을 도입하였다. 이러한 방법을 이용하여 유리 침투재의 열팽창에 가장 많은 영향을 미치는 알칼리 산화물과 알칼리 토류 산화물의 영향을 관찰하였다. 치과용 유리침투재의 제성분들을 고려할 때 유리의 열팽창계수에 미치는 영향은 $Na_2$O≫K$_2$O≫MgO≒CaO의 순서로 $Na_2$O의 영향력은 MgO, CaO의 약 8배로 나타났으며 $K_2$O의 영향력은 MgO, CaO의 약 4배로 계산되었다. 또 각 인자간의 교호작용(interaction affects) 중 $K_2$O-CaO의 교호 작용이 가장 유의하게 나타났으며 각 인자와 교호 작용의 수준별 기여율을 계산하여 특성 조성의 열팽창 특성치를 예측하였다.
Self-leveling material(SLM) is one of the floor finishing materials which make flat surface like as water level by itself in a short time. So it is possible to increase construction speed and enhance economical efficiency In this study, author intended to develop SLM for the industrial warehouse and factory loading heavy weight machinery and vehicles. The demanded properties for this type of SLM are above 200mm of flow value and above 300kgf/$cm^2$ of 28-days compressive strength. To possess demended strength and fluidity, SLM have to be composed of many types of binders and chemical additives. So it is difficult to decide suitable mixing proportion of composition materials. In this study, author investigated the weight percentage effect of main composition materials for high-strength self-leveling material, by experimental design such as tables of orthogonal arrays and simplex design, and by statistical analysis such as analysis of variance and analysis of response surface. Variables of experiments were ordinary Portland cement(OPC), alumina cement(AC), anhydrous gypsum(AG), lime stone(LS) and sand, and properties of tests were fluidity of fresh state and strength of hardened state. Results of this study are showed that suitable mix proportions of binders for the high strength self-leveling materials are two groups. One is 78~85.5% OPC, 7.5~9.5% AC, 9~12.5% AG and the other is 72.5~78% OPC, 9~12.5% AC, 13~15% AG.
Dry sliding wear behavior of electro-pressure sintered Fe-Ni and Co-Fe-Ni compacts was investigated. Pin-on-disk wear tests were performed on the sintered Fe-Ni, Co-Fe-Ni disk specimens against alumina $(Al_2O_3)$ and silica $(SiO_2)$ ball counterparts at various loads ranging from 3N to 12N. A constant sliding speed of 0.1m/sec was employed. Wear rate was calculated by dividing the weight loss measured after the test by specific gravity and sliding distance. Worn surfaces and cross sections of them were examined by a scanning electron microscopy, and wear mechanism of the compacts was investigated. Wear characteristics of the compacts were discussed as a function of composition of the compacts. Relationship between the wear rate and mechancial properties of the compact was explored, and effects of the oxide layer that was formed on wearing surface of the compacts on the wear were also studied.
플라즈마 디스플레이는 후막기술을 이용하여 화면의 크기를 늘리는 것이 쉽기 때문에 고선명 TV의 가장 유력한 후보이다. 본 연구에서는 플라즈마 디스플레이용 유전체의 조건을 만족하는 lead borosilicate 유리를 이용한 투명 유전체 재료를 개발하였다. 또한 이 유리를 이용하여 페이스트를 제조하였다. 페이스트는 스크린 프린팅에 적합한 요변성을 나타내었고, 입자 크기가 작아질수록 더욱 강한 요변성을 나타내었다. 열처리 후 후막의 파단면을 전자현미경으로 관찰하였다. 후막의 기공은 서로 다른 크기의 평균입경을 갖는 powder를 사용함으로써 제거 될 수 있었다. 소성된 후막은 좋은 융착 특성을 나타내었다.
Polycrystalline materials suchas yttria and alumina have been applied as a plasma resisting material for the plasma processing chamber. However, polycrystal line material may easily generate particles and the particles are sources of contamination during the plasma enhanced process. Amorphous material can be suitable to prevent particle generation due to absence of grain-boundaries. We manufactured nitrogen-containing $SiO_2-Al_2O_3-Y_2O_3$ based glasses with various contents of silicon and fixed nitrogen content. The thermal properties, mechanical properties and plasma etching rate were evaluated and compared for the different composition samples. The plasma etching behavior was estimated using XPS with depth profiling. From the result, the plasma etching rate highly depends on the silicon content and it may results from very low volatile temperature of SiF4 generated during plasma etching. The silicon concentration at the plasma etched surface was very low besides the concentration of yttrium and aluminum was relatively high than that of silicon due to high volatile temperature of fluorine compounds which consisted with aluminum and yttrium. Therefore, we conclude that the samples having low silicon content should be considered to obtain low plasma etching rate for the plasma resisting material.
본 연구는 다결정 알루미나 소결체와 사파이어웨이퍼(sapphire wafer)의 견고한 접합을 위해 활성금속 Ti가 함유된 Active Filler Metal을 사용하였고, 이를 브레이징한 후 접합 반응층과 Ti 거동 특성에 관한 것이다. 브레이징 (brazing)은 Ar 분위기 종에 $850^{\circ}C$에서 이행하였으며. 이때 다결정 알루미나, 사파이어와 Active Filler Metal 사이의 접합 반응층을 확인하였다. Active Filler Metal 내어| 존재하는 Ti가 접할 반응층의 양계면에 집중되는 것을 SEM을 이용하여 확인하였다. 또한 EDS Line Scanning을 실시하여 접합부에서 원소들의 분포를 관찰하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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