Aram Lee;Minji Kang;Do Young Kim;Hee Yoon Jang;Ji-Won Park;Tae-Wook Kim;Jae-Min Hong;Seoung-Ki Lee
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.37
no.4
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pp.420-426
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2024
This study proposes an innovative methodology for developing flexible printed circuit boards (FPCBs) capable of conforming to three-dimensional shapes, meeting the increasing demand for electronic circuits in diverse and complex product designs. By integrating a traditional flat plate-based fabrication process with a subsequent three-dimensional thermal deformation technique, we have successfully demonstrated an FPCB that maintains stable electrical characteristics despite significant shape deformations. Using a modified polyimide substrate along with Ag flake-based conductive ink, we identified optimized process variables that enable substrate thermal deformation at lower temperatures (~130℃) and enhance the stretchability of the conductive ink (ε ~30%). The application of this novel FPCB in a prototype 3D-shaped sensor device, incorporating photosensors and temperature sensors, illustrates its potential for creating multifunctional, shape-adaptable electronic devices. The sensor can detect external light sources and measure ambient temperature, demonstrating stable operation even after transitioning from a planar to a three-dimensional configuration. This research lays the foundation for next-generation FPCBs that can be seamlessly integrated into various products, ushering in a new era of electronic device design and functionality.
Hwang, Jun Y.;Moon, Y.J.;Lee, S.H.;Kang, K.;Kang, H.;Cho, Y.J.;Moon, S.J.
한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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2011.05a
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pp.114.1-114.1
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2011
Electrical sintering of the front electrode for crystalline silicon solar cells was performed applying a constant DC current to the printed lines. Conducting lines were printed on glass substrate by a drop-on-demand (DOD) inkjet printer and silver nanoparticle ink. Specific resistance and microstructure of sintered silver lines and were measured with varying DC current. To find the relation between temperature increase with changing applied current and specific resistance, temperature elevation was also calculated. Sintering process finished within a few milliseconds. Increasing applied DC current, specific resistance decreased and grain size increased after sintering. Achieved minimum specific resistance is approximately 1.7 times higher than specific resistance of the bulk silver.
Son, Soo-Jung;Cho, Young-Sang;Rha, Jong Joo;Cho, Chul-Jin
Journal of Powder Materials
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v.20
no.2
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pp.120-124
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2013
This study is carried out to develop the new process for the fabrication of ultra-fine electrodes on the flexible substrates using superhydrophobic effect. A facile method was developed to form the ultra-fine trenches on the flexible substrates treated by plasma etching and to print the fine metal electrodes using conductive nano-ink. Various plasma etching conditions were investigated for the hydrophobic surface treatment of flexible polyimide (PI) films. The micro-trench on the hydrophobic PI film fabricated under optimized conditions was obtained by mechanical scratching, which gave the hydrophilic property only to the trench area. Finally, the patterning by selective deposition of ink materials was performed using the conductive silver nano-ink. The interface between the conductive nanoparticles and the flexible substrates were characterized by scanning electron microscope. The increase of the sintering temperature and metal concentration of ink caused the reduction of electrical resistance. The sintering temperature lower than $200^{\circ}C$ resulted in good interfacial bonding between Ag electrode and PI film substrate.
Yu Mi Woo;Dong Gyu Lee;Yun Sik Hwang;Jae Chan Heo;SeongMin Jeong;Yong Jun Cho;Kwi-Il Park;Jung Hwan Park
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.36
no.5
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pp.454-462
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2023
Flash lamp annealing (FLA) of metal nanoparticle (NP) ink has provided powerful strategies to fabricate high-performance electrodes on a flexible substrate because of its rapid processing capability (in milliseconds), low-temperature process, and compatibility with to roll-to-roll process. However, metal NPs [e.g., gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), etc.] have limitations such as difficulty in synthesizing fine metal NPs (diameter less than 10 nm), high price, and degradation during ink storage and FLA processing. In this regard, organometallic ink has been proposed as a material that can replace metal NPs due to their low-cost (usually 1/100 times cheaper than metal nano inks), low-temperature processability, and high material stability. Despite these advantages, the fabrication of flexible electrodes through FLA treatment of organometallic compounds has not been extensively researched. In this paper, we experimentally guide how to determine the optimal conditions for forming electrodes on flexible substrates by considering material parameters, and flashlight processing parameters (energy density, pulse duration, etc) to minimize the difficulties that may arise during the FLA of organometallic ink.
Cheah, Phaik-Leng;Looi, Lai-Meng;Teoh, Kean-Hooi;Mun, Kein-Seong;Nazarina, Abdul Rahman
Asian Pacific Journal of Cancer Prevention
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v.13
no.2
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pp.469-472
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2012
The present study was conducted to assess utility of $p16^{INK4a}$ immunopositivity as a surrogate marker for genomic integration of high-risk human papillomavirus infection (hrHPV). A total of 29 formalin-fixed, paraffin-embedded cervical low-grade squamous intraepithelial lesions (LSILs), 27 high-grade squamous intraepithelial lesions (HSILs) and 53 invasive squamous cell carcinomas (SCCs), histologically-diagnosed between 1st January 2006 to 31st December 2008 at the University of Malaya Medical Centre were stained for $p^{16INK4a}$ (CINtec Histology Kit (REF 9511, mtm laboratories AG, Heidelberg, Germany). Immunopositvity was defined as diffuse staining of the squamous cell cytoplasm and or nucleus (involving > 75% of the intraepithelial lesions or SCCs). Staining of basal and parabasal layers of intraepithelial lesions was pre-requisite. One (3.4%) LSIL, 24 (88.9%) HSIL and 46 (86.8%) SCC were $p^{16INK4a}$ immunopositive. All normal squamous epithelium did not express $p16^{INK4a}$. $p16^{INK4a}$ expression was significantly lower (p<0.05) in LSIL compared with HSIL and SCC with no difference in expression between HSIL and SCC. The increased $p16^{INK4a}$ immunopositivity in HSIL and SCC appears in line with the integrated existence of the hrHPV and may provide more insightful information on risk of malignant transformation of cervical squamous intraepithelial lesions than mere hrHPV detection.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2009.05a
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pp.12.1-12.1
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2009
For the micro conductive line, memory device fabrication process use many expensive processes such as manufactur-ing of photo mask, coating of photo resist, exposure, development, and etching. However, direct printing technology has the merits about simple and cost effective processes because nano-metal particles contained inks are directly injective without mask. And also, this technology has the advantage about fabrication of fine pattern line on various substrates such as FPCB, PCB, glass, polymer and so on. In this work, we have fabricated the fine and thick metal pattern line on flexible PCB substrate for the next generation electronic circuit using Ag nano-particles contained ink. To improve the line tolerance on flexible PCB, metal lines are fabricated by sequential prinitng method. Sequential printing method has vari-ous merits about fine, thick and high resolution pattern lines without bulge.
Kim, Jeong-Hye;Kim, Jun-U;Lee, Gwang-Jun;Jeong, Seung-Jun;Jeong, Jae-Uk;Choe, Byeong-Dae
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.427-427
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2013
잉크젯 프린팅 방법은 전도성 고분자 물질을 잉크 재료로 사용하여 전자 소자의 전극 패턴을 형성할 수 있으며 비접촉, drop-on-demand 공정으로 현재 많은 관심을 받고 있는 연구 분야이다. Ag는 $1.59{\mu}m{\cdot}cm$의 저항을 나타내는 가장 낮은 저항을 가지고 있는 물질 중의 하나이며, Ag 전도성 잉크는 고전도 패턴의 형성을 위해 현재 많이 사용되고 있는 물질이다. 본 연구에서는 a-IGZO 박막을 채널층으로 사용하여 Ag S/D 전극을 잉크젯 프린팅 방법으로 형성하여 산화물 트랜지스터를 제작하였다. a-IGZO 채널층은 $SiO_2$가 증착된 Si 기판위에 스퍼터링 방식으로 80 nm의 두께로 형성하였다. Ag S/D 전극은 10 pl의 카트리지가 장착된 Fujifilm Dimatix DMP 2800 장비를 사용하여 형성하였으며, 프린팅 후 $130^{\circ}C$로 20분간 열처리를 하였다. Fig. 1은 잉크젯 프린팅된 Ag S/D을 가진 a-IGZO의 트랜지스터 특성을 보여준다. 채널 W/L가 90/$50{\mu}m$ 구간에서 드레인 전압이 50 V 일때, 전계효과이동도 $0.27cm^2$/Vs, 문턱전압 6.03 V, 문턱전압 아래의 기울기 값은 2.06 V/dec를 얻었다. 이와 같은 특성은 잉크젯 프린팅 방법으로 Ag S/D 전극을 형성함으로써 산화물 TFT에서 잉크젯 프린팅 방식의 다양한 응용 가능성을 확인할 수 있었다.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2009.05a
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pp.36.2-36.2
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2009
In this work, the high power CW Nd:YAG laser has been used for thermal treatment of inkjet printed Ag films-involving eliminating organic additives (dispersant, binder, and organic solvent) of Ag ink and annealing Ag nanoparticles. By optimizing laser parameters, such as laser power and defocusing value, the laser energy can totally be converted to heat energy, which is used to thermal treatment of inkjet printed Ag films. This results in controlling the microstructures and the resistivity of films. We investigated the thermal diffusion mechanisms during laser annealing and the resulting microstructures. The impact of high power laser annealing on microstructures and electrical characteristic of inkjet printed Ag films is compared to those of the films annealed by a conventional furnace annealing. Focused ion beam (FIB) channeling image shows that the laser annealed Ag films have large columnar grains and dense structure (void free), while furnace annealed films have tiny grains and exhibit void formation. Due to these microstructural characteristics of laser annealed films, it has better electrical property (low resistivity) compared to furnace annealed samples.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.206.1-206.1
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2014
최근 전자 장비의 금속 전도성 패턴 제작에 있어서 직접적인 프린트가 가능한 프린팅 기술이 기존의 복잡한 photolithography 를 대체할 기술로 주목 받고 있다. 이와 함께 금속 전도성 패턴 제작에 사용되는 고가의 전도성 물질인 Ag ink 및 paste 를 저가의 Cu ink 및 paste 로 대체하기 위한 연구가 진행되고 있다. 하지만 일반적으로 copper 는 대기 중 에서 쉽게 산화되어 높은 저항을 야기시킨다. 따라서 Cu ink 또는 paste 를 제작할 때 copper nanoparticles 을 유기 용매에 분산하여 inert atmosphere에서 합성하거나 [1] copper ink 또는 paste 를 substrate 에 프린트하여 reduction atmosphere 에서 소성시킨다 [2]. 이번 연구에서 Cu paste 를 유리 기판에 screen printing 하여 혼합가스(질소 95%, 수소 5%)와 질소 가스 분위기에서 소성하여 Cu 전극의 소성 거동과 전기적 특성을 분석하였다. 4-point probe를 통해 소성된 Cu 전극의 저항을 측정하여 전도도를 조사하였으며 Thermal Gravimetric Analysis (TGA), Fourier Transform Infrared(FTIR)를 통해 소성된 Cu 전극의 유기물 분해가 전도도에 미치는 영향을 분석하고 Field Emission Scanning Electron Microscopy (FESEM)과 High Resolution Transmission Electron Microscopy (HRTEM)을 통해 Cu nanoparticles 의 grain growth가 전도도에 미치는 영향을 조사하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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