Deposition and Characterization of $HfO_2/SiNx$ Stack-Gate Dielectrics Using MOCVD
(MOCVD를 이용한 $HfO_2/SiNx$ 게이트 절연막의 증착 및 물성)
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- Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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- 제11권2호
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- pp.29-35
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- 2004