• 제목/요약/키워드: 2nd Generation Backplane

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대면적 기판의 투명 전극용 SnO2 박막 증착을 위한 APCVD 공정 (APCVD Process of SnO2 Thin-Film on Glass for Transparent Electrodes of Large-Scale Backplanes)

  • 김병국;김현수;김형준;박준우;김윤석;박승호
    • 대한기계학회논문집 C: 기술과 교육
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    • 제1권1호
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    • pp.7-12
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    • 2013
  • $SnO_2$ (tin oxide) 박막은 물리적, 전기적 성질이 우수하여 첨단산업의 다양한 분야에서 널리 응용/개발되고 있다. 이의 응용대상은 다양한 센서, 윈드쉴드(windshield) 윈도우의 히팅 요소, 태양전지, flat panel diplay에서의 투명전극을 들 수 있다. 본 연구에서는 대면적 기판에 대한 APCVD 공정개발을 위하여 실험용 2세대 크기의 유리기판에 $SnO_2$ 박막증착 실험을 수행하였다. 증착 온도가 증가함에 따라 증착 두께가 두꺼워지고 이에 따라 면저항은 감소, 투과도는 감소, 연무도 (haze)는 증가함을 확인하였다. 증착을 위한 전구체인 $SnCl_4$의 유량이 증가함에 따라 증착 두께 역시 증가하고 이에 따라 면저항은 감소한다. 그러나 투과도와 연무도는 $SnCl_4$ 유량의 영향을 거의 받지 않는다는 것을 확인하였다.