The sonolytic decomposition of NHCs(Nitrogen Heterocyclic Compounds), such as atrazine[6-chloro-N-ethyl-N'-(1-methylethyl)-1,3,5-triazine-2,4-diamine], simazine(6-chloro-N,N'-diethyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine), trietazine(6-chloro-N,N,N'-triethyl-1,3, 5-triazine-2,4-diamine), in water was investigated at a ultrasound frequency of 200kHz with an acoustic intensity of 200W under argon and air atmospheres. The concentration of NHCs decreased with irradiation, indicating pseudo-first-order kinetics. The rates were in the range $1.06{\sim}2.07({\times}10^{-2}min^{-1})$ under air and $1.30{\sim}2.59({\times}10^{-2}min^{-1})$ under argon at a concentration of $200{\mu}M$ of NHCs. The rate of hydroxyl radicals(${\bullet}{OH}$) formation from water is $19.8{\mu}M\;min^{-1}$ under argon and $14.7{\mu}M\;min^{-1}$ under air in the same sonolysis conditions. The sonolysis of NHCs is effectively inhibited, but not completely, by the addition of t-BuOH(2-methyl-2-propanol), which is known to be an efficient ${\bullet}{OH}$ radical scavenger in aqueous sonolysis. This suggests that the main decomposition of NHCs proceeds via reaction with ${\bullet}{OH}$ radical; a thermal reaction also occurs, although its contribution is small. The addition of appropriate amounts of Fenton's reagent $[Fe^{2+}]$ accelerates the decomposition. This is probably due to the regeneration of ${\bullet}{OH}$ radicals from hydrogen peroxide, which would be formed from recombination of ${\bullet}{OH}$ radicals and which may contribute a little to the decomposition.
In this work, we report the effect on the volatole organic compounds(VOCs) sensing properties of Copper phthalocyanine(CoPc) and Dilithium phthalocyanine(DiLiPc) thin films onto alumina substrates. Use evaporation method and the spin-coated method for sensing device. The materials of metallophthalocyanine macrocyclic compound solutions blended with N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'-biphenyl-4,4"-diamine and/or Poly[2-methoxy-5-(2'-ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene] solutions. The influence of the blended in with metallophthalocyanine macrocyclic compounds on the resistance have been measured and analyzed in five different volatole organic compounds. The following results were obtained: The AFM 3D image of thin films deposited on metallophthalocyanine macrocyclic compound shows that the surfaces roughness were about CuPc 4.1~14.3 nm(7.5~8.1%), DiLiPc 10.3~22.2 nm(7.9~11.5%). The resistances decreases upon increasing the concentration of vapor organic compounds to CuPc and DiLiPc thin films. That thin films blended Copper phthalocyanine(CoPc) and Dilithium phthalocyanine(DiLiPc) with N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'-biphenyl-4,4"-diamine and/or Poly[2-methoxy--5-(2'-ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene]. The resistances of blended thin films with N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'-biphenyl-4,4"-diamine and/or Poly[2-methoxy--5-(2'-ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene] decreases upon increasing the concentration of volatole organic compounds(VOCs) on DiLiPc than CuPc compound thin films.
한국환경과학회 2003년도 International Symposium on Clean Environment
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pp.171-176
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2003
The sonolytic decomposition of NHCs, such as atrazine[6-chloro-N-ethyl-N' -(1-methylethyl)-1,3,5-triazine-2,4-diamine], simazine( 6-chloro-N,N' -diethyl-l ,3,5-triazine-2,4-diamine), trietazine(6-chloro-N,N,N'-triethyl-l,3,5-triazine-2,4-diamine), in water was investigated at a ultrasound frequency of 200kHz with an acoustic intensity of 200W under argon and air atmospheres. The concentration of NHCs decreased with irradiation, indicating pseudo-first-order kinetics. The rates were in the range 1.06∼2.07 (x10/sup -3/ min/sup -1/) under air and 1.30∼2.59(x10/sup -3/ min/sup -1/)under argon at a concentration of 200μM of NHCs. The rate of hydroxyl radicals(·OH) formation from water is 19.8μM min/sup -1/ under argon and 14.7 μM min/sup -1/ under air in the same sonolysis conditions. The sonolysis of NHCs is effectively inhibited, but not completely, by the addition of t-BuOH(2-methyl-2-propanol), which is known to be an efficient ·OH radical scavenger in aqueous sonolysis. This suggests that the main decomposition of NHCs proceeds via reaction with ·OH radical; a thermal reaction also occurs, although its contribution is small. The addition of appropriate amounts of Fenton's reagent [Fe/sup 2+/] accelerates the decomposition. This is probably due to the regeneration of ·OH radicals from hydrogen peroxide, which would be formed from recombination of ·OH radicals and which may contribute a little to the decomposition.
이 연구는 우식원성 세균막 형성과 상아질 표면 거칠기에 대한 Silver diamine fluoride와 요오드화 칼륨(KI)의 영향을 실험실 환경에서 평가하는 것이다. 인공 우식을 유발한 48개의 Bovine dentin 시편을 제작하여 대조군, SDF 도포, SDF와 KI 도포(SDFKI)의 3개 군으로 나누었다. 각 군당 10개의 시편의 상면에 Streptococcus mutans, Lactobacillus casei 및 Candida albicans를 포함하는 다종 우식원성 세균을 24시간 동안 배양 후 세균 수를 측정하였다. 나머지 시편은 원자 힘 현미경과 주사전자현미경으로 관찰하였다. SDF와 SDFKI 도포 시 대조군에 비해 세균 수가 유의하게 감소했으며, KI는 SDF의 항균 효과를 유의하게 저해하지 않았다. 현미경 관찰 시 SDF와 SDFKI 도포 후 생성되는 입자가 상아질 표면에 침착 되는 것을 관찰했으나 표면 거칠기는 세 군 간 유의한 차이가 없었다.
The reactions of ketene dithioacetals with ethane-1,2-diamine, propane-1,3-diamine, 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, and 2-aminoethanethiol in ordinary water in the absence of any acid/base catalyst afforded the heterocyclic ketene N,N-, N,O- and N,S-acetals in good yields.
Purpose: To evaluate the antimicrobial persistence of silver diamine fluoride (SDF) and silver fluoride (AgF) on Streptococcus mutans. Materials and Methods: An in vitro experiment was conducted to observe changes in the diameter of the inhibition zone of various materials, including AgF (Riva Star AquaTM step 1; SDI), potassium iodine (Riva star aquaTM step 2; SDI), Fluor protector® (FP, Ivoclar Vivadent), SDF (Riva starTM step 1; SDI), Ampicillin (Sigma-Aldrich), Amphotericin B (Nexstar) and negative control on S. mutans. Result: SDF, AgF and FP exhibited significant antimicrobial persistence over the 4 weeks period (P<0.05). At day 28, the diameter of inhibition zone was larger in SDF than in AgF. Conclusion: SDF and AgF have significant antibacterial durability against bacteria commonly associated with dental caries, with the antimicrobial effect lasting for at least 4 weeks. Further clinical studies are needed to validate these findings in vivo.
기존의 폴리아마이드 박막 역삼투 복합막(PA TFC RO Membrane)은 우수한 분리투과특성을 지니고 있으나 내염소성이 상대적으로 낮은 단점을 지니고 있다. 본 연구에서는 이를 해결하기 위하여 표면에 -OH나 -COOH 기가 도입된 다공성 지지체를 제조하고, 그 표면에 폴리아마이드 박막을 형성하여 역삼투 복합막을 제조하였다. 제조된 역삼투막의 구조 및 분리투과 특성은 여러 가지 기기분석 방법과 투과테스트 방법으로 분석하였다. 폴리아마이드 박막을 제조하기 위하여 아민계 단량체로는 메타-페닐렌 디아민(MPD)과 2,6-디아민 톨루엔(2,6-DAT)을 사용하였고, 디엑시드계 단량체로는 트리-메소일 클로라이드(TMC)를 사용하였다. 제조된 복합막의 투과도는 800 psi에서 약 $1.0m^3/m^2day$ 이상이었으며 이때 염배제율은 99.0% 이상이었다. 내염소성도 친수성기가 없는 폴리설폰 지지체를 사용한 복합막에 비하여 우수한 것으로 나타났다.
아세트니트릴 용액과 메탄올 용액에서 가벼운 란탄족원소인 $La^{3+},\; Ce^{3+},\;Eu^{3+}$ 이온과 여러자리 리간드로 크라운 에테르류, diaza 거대고리류와 podand 형 리간드인 diamine ether의 착물형성에 대한 Log K, ΔH, ΔS값을 용액열량계로 결정하였다. 메탄올 용액에서는 금속이온반경과 거대고리 리간드 동공의 비에 따라서 선택적으로 안정한 착물이 형성되며 리간드 주게원자의 영향은 없었다. 아세트니트릴 용액에서는 발열반응으로 엔탈피 주도반응이었으며 거대고리 리간드의 주게원자가 산소인 경우는 최적크기에 따르는 선택적인 착물의 안정도를 나타냈으나 질소원자로 치환되면 공유결합성의 증가로 더욱 안정한 착물이 형성되었다. Diaza[2,2] 착물의 경우 $Eu^{3+}Ce^{3+}$ 순으로 안정도가 증가하였으며 이를 최적크기개념과 금속이온의 전하밀도 증가순으로 설명하였다. Diamine ether 착물의 경우는 macrocyclic effect가 없음으로 작은 안정도상수 값을 나타냈다.
Song, Dong-Mee;Shin, Dong-Myung;Kim, Jae-Hoon;Kim, Il
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.479-482
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2002
Benzylideneacetophenones are known as chalcones[1]. The chalcone has been known to be a photo-isomerizable and photo-dimerizable chromophore. The chalcone derivatives were prepared by base-catalyzed condensation of aldehydes and acetophenones, which were substituted with various alkyl chains. The synthesized chalcone was introduced into the t-BOC protected diamine through William synthesis reaction. Photocrosslinkable polyimide was prepared via one-step imidization reaction of DOCDA (5-(2,5-dioxotetrahydro furyl}-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride) and the chalcone introduced diamine using isoquinoline (5 wt%) in m-cresol. The polyimide solutions were spin-coated onto the quartz, silicone wafer and glass substrates and the obtained thin films were irradiated obliquely with linearly polarized UV light.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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