• Title/Summary/Keyword: 2차산화

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Effects of hot water extracts of roasted radish against renal oxidative stress induced by high-fat diet (고지방식사로 유도된 신장 산화스트레스를 개선하는 가압볶음 무말랭이 열수추출물 효과)

  • Jeon, Yeonhui;Kim, Mijeong;Han, Seongkyung;Song, Yeong-Bok;Song, Yeong Ok
    • Korean Journal of Food Science and Technology
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    • v.49 no.2
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    • pp.203-208
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    • 2017
  • The antioxidant and anti-inflammatory effects of roasted dried radish (RDR) against renal oxidative stress were examined in high-fat diet (HFD)-fed mice. The HFD was prepared by adding lard to chow diet to provide 50% of the calories from fat. Hot water extracts of dried radish (DR) or RDR were administered orally to mice at 237 mg/kg bw/day, whereas distilled water was administered as a vehicle for 12 weeks. Compared to the control group, renal reactive oxygen species, peroxynitrite, and thiobarbituric acid reactive substance level in the DR or RDR group were significantly decreased, whereas the glutathione level was increased (p<0.05). Protein expressions of antioxidant factors such as nuclear factor erythroid 2-related factor-2, heme oxygenase-1, glutathione S-transferase, superoxide dismutase, catalase, and glutathione peroxidase were significantly increased in the DR and RDR groups; however, nuclear factor-kappa B expression was suppressed (p<0.05). These antioxidant and anti-inflammatory effects of RDR were found to be significantly greater than those of DR.

Effects of Fire on Forest Vegetation in Mt. Samma (산불이 삼마산의 삼림식생에 미치는 영향)

  • Kim, Woen;Park, Jung-Hye;Cho, Young-Ho
    • The Korean Journal of Ecology
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    • v.22 no.3
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    • pp.145-153
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    • 1999
  • Authors report the changes of the community structure and secondary succession after fire in Mt. Samma (333 m). Approximately six ha of the red pine (Pinus densiflora) forest and its floor vegetation were burned and cutted down. The vegetation and soil properties were investigated in the burned and unburned sites from April to October, 1998. The dominant species based on SDR₃ in the burned site were Lespedeza cyrtobotrya (96.87), Quercus serrata (77.90), Cyperus amuricus (46.22) and Miscanthus sinensis var. purpurascens (38.33), whereas the dominant species in the unburned site were Pinus densiflora (100.00) and Q. variabilis (66.10) at the tree layer, Q. serrata (100.00) and Zanthoxylum schinifolium (29.64) at the shrub layer., and Q. serrata (76.30) and M. sinensis var. purpurascens (72.84) at the herb layer. The biological spectra based on SDR₃ were Th-D₁-R/sub 5/-e for the burned and H (M)-D₁-R/sub 5/-e type for the unburned site, respectively. The index of similarity (CCs) between the burned and unburned sites was 0.41. The degree of succession (DS) were 609 for the burned and 1168 for the unburned site, respectively. The species diversity (H) and evenness indices (e) of the burned site were lower than those of the unburned site, but the dominance indices (C) was higher in the burned site. In the analysis of soil properties, pH, the content of NO₃/sup -/-N, available phosphrous, and exchangeable cations (K/sup +/, Ca/sup 2+/, Na/sup +/, Mg/sup 2+/) in the burned site were higher than those in the unburned site, whereas the contents of organic matter, total carbon, total nitrogen and NH₄/sup +/-N were lower in the burned site. The results show that dominant species in the burned site change from Miscanthus-Lespedeza→Lespedeza→Quercus and finally to Quercus forest, and the changes of soil properties also affect the early vegetational succession after fire.

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Thickness Determination of Ultrathin Gate Oxide Grown by Wet Oxidation

  • 장효식;황현상;이확주;조현모;김현경;문대원
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.107-107
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    • 2000
  • 최근 반도체 소자의 고집적화 및 대용량화의 경향에 다라 MOSFET 소자 제작에 이동되는 게이트 산화막의 두께가 수 nm 정도까지 점점 얇아지는 추세이고 Giga-DRAM급 차세대 UNSI소자를 제작하기 위해 5nm이하의 게이트 절연막이 요구된다. 이런 절연막의 두께감소는 게이트 정전용량을 증가시켜 트랜지스터의 속도를 빠르게 하며, 동시에 저전압동작을 가능하게 하기 때문에 게이트 산화막의 두께는 MOS공정세대가 진행되어감에 따라 계속 감소할 것이다. 따라서 절연막 두께는 소자의 동작 특성을 결정하는 중요한 요소이므로 이에 대한 정확한 평가 방법의 확보는 공정 control 측면에서 필수적이다. 그러나, 절연막의 두께가 작아지면서 게이트 산화막과 crystalline siliconrksm이 계면효과가 박막의 두께에 심각한 영향을 주기 때문에 정확한 두께 계측이 어렵고 계측방법에 따라서 두께 계측의 차이가 난다. 따라서 차세대 반도체 소자의 개발 및 양산 체계를 확립하기 위해서는 산화막의 두께가 10nm보다 작은 1nm-5nm 수준의 박막 시료에 대한 두께 계측 방법이 확립이 되어야 한다. 따라서, 본 연구에서는 습식 산화 공정으로 제작된 3nm-7nm 의 게이트 절연막을 현재까지 알려진 다양한 두께 평가방법을 비교 연구하였다. 절연막을 MEIS (Medim Energy Ion Scattering), 0.015nm의 고감도를 가지는 SE (Spectroscopic Ellipsometry), XPS, 고분해능 전자현미경 (TEM)을 이용하여 측정 비교하였다. 또한 polysilicon gate를 가지는 MOS capacitor를 제작하여 소자의 Capacitance-Voltage 및 Current-Voltage를 측정하여 절연막 두께를 계산하여 가장 좋은 두께 계측 방법을 찾고자 한다.다. 마이크로스트립 링 공진기는 링의 원주길이가 전자기파 파장길이의 정수배가 되면 공진이 일어나는 구조이다. Fused quartz를 기판으로 하여 증착압력을 변수로 하여 TiO2 박막을 증착하였다. 그리고 그 위에 은 (silver)을 사용하여 링 패턴을 형성하였다. 이와 같이 공진기를 제작하여 network analyzer (HP 8510C)로 마이크로파 대역에서의 공진특서을 측정하였다. 공진특성으로부터 전체 품질계수와 유효유전율, 그리고 TiO2 박막의 품질계수를 얻어내었다. 측정결과 rutile에서 anatase로 박막의 상이 변할수록 유전율은 감소하고 유전손실은 증가하는 결과를 나타내었다.의 성장률이 둔화됨을 볼 수 있다. 또한 Silane 가스량이 적어지는 영역에서는 가스량의 감소에 의해 성장속도가 둔화됨을 볼 수 있다. 또한 Silane 가스량이 적어지는 영역에서는 가스량의 감소에 의해 성장속도가 줄어들어 성장률이 Silane가스량에 의해 지배됨을 볼 수 있다. UV-VIS spectrophotometer에 의한 비정질 SiC 박막의 투과도와 파장과의 관계에 있어 유리를 기판으로 사용했으므로 유리의투과도를 감안했으며, 유리에 대한 상대적인 비율 관계로 투과도를 나타냈었다. 또한 비저질 SiC 박막의 흡수계수는 Ellipsometry에 의해 측정된 Δ과 Ψ값을 이용하여 시뮬레이션한 결과로 비정질 SiC 박막의 두께를 이용하여 구하였다. 또한 Tauc Plot을 통해 박막의 optical band gap을 2.6~3.7eV로 조절할 수 있었다. 20$0^{\circ}C$이상으로 증가시켜도 광투과율은 큰 변화를 나타내지 않았다.부터 전분-지질복합제의 형성 촉진이 시사되었다.이것으로 인하여 호화억제에 의한 노화 방지효과가 기대되었지만 실제로 빵의 노화는 현저히 진행되었다

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Thrombin Detection with Tetrabromophenolphthalein Ethyl Ester Adsorbed on Aptamer-attached Conductive Polymer (전기전도성 고분자 위에 고정된 압타머에 흡착된 테트라브롬페놀프탈레인 에틸 에스테르를 이용한 트롬빈 검출)

  • Chung, Saeromi;Noh, Hui-Bog;Shim, Yoon-Bo
    • Journal of the Korean Electrochemical Society
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    • v.19 no.4
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    • pp.134-140
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    • 2016
  • An aptamer-based biosensor using a new redox indicator has been examined for the electrochemical detection of thrombin. The aptamer modified primary aliphatic amine was covalently immobilized onto poly-(5,2':5',2"-terthiophene-3'-carboxylic acid) (polyTTCA) layer. Tetrabromophenolphthalein ethyl ester (KTBPE) was interacted to aptamer and used as an electrochemical indicator. Prior to the detection, the oxidation reaction of KTBPE onto aptamer modified layer was also investigated using differential pulse voltammetry. The characterization of the final sensor (KTBPE/aptamer -polyTTCA) was performed by voltammetry, QCM, and ESCA. After binding of thrombin onto KTBPE/aptamer based sensor, the peak signal of KTBPE was gradually decreased. The sensor exhibited a dynamic range between 10.0 and 100.0 nM with the detection limit of $1.0{\pm}0.2nM$.

Zinc tin oxide 비정질 산화물 반도체 박막에 대한 Ga 도핑 영향

  • Kim, Hye-Ri;Kim, Dong-Ho;Lee, Geon-Hwan;Song, Pung-Geun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.198-198
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    • 2010
  • 산화물 반도체는 넓은 밴드갭을 가지고 있어 가시광에서 투명하며 높은 이동도로 디스플레이 구동 회로 집적에 유리하다. 또한 가격 및 공정 측면에서도 기존의 Si 기판 소자에 비해 여러 장점을 가지고 있어 차세대 디스플레이의 핵심 기술로 산화물반도체에 대한 관심이 높아지고 있다. 본 연구는 RF 동시 스퍼터링법을 이용하여 Zn-Sn-O 박막을 제조하고, 그 전기적, 광학적, 구조적 특성에 대해 조사하였다. 일정한 증착 온도($100^{\circ}C$)에서 ZnO와 $SnO_2$ 타켓의 인가 파워를 조절하여 Sn/(Zn+Sn) 성분비가 약 40~85%인 Zn-Sn-O 박막을 제조하였다. Sn 함량이 증가할수록 박막의 비저항은 약 $2{\times}10^{-1}$ (Sn 45%)에서 약 $2\;{\times}\;10^{-2}\;{\Omega}{\cdot}cm$ (Sn 67%)까지 감소하다가 다시 증가하는 경향을 보였다. 이 때 캐리어 농도는 $3\;{\times}\;10^{18}$에서 $4\;{\times}\;10^{19}\;cm^{-3}$으로 증가하였으며, 이동도는 11에서 $8\;cm^2/V{\cdot}s$로 약간 감소하였다. XRD분석결과, 제조된 모든 Zn-Sn-O 박막은 비정질 구조를 가짐을 확인하였다. 투과율은 박막 내 Sn함량 증가에 따라 감소하나 모든 시편이 약 70%이상의 투과도를 나타내었다. Zn-Sn-O 박막의 Ga 도핑 영향을 확인하기 위해 ZnO 타켓 대신 갈륨이 5.7 wt.% 도핑된 GZO 타켓을 사용하여 동일한 공정조건에서 박막을 제조하였다. Ga이 첨가된 Zn-Sn-O 박막은 구조적 특성과 광학적 특성에서는 큰 차이를 보이지 않았으나, 전기적 특성의 뚜렷한 변화가 관찰되었다. Sn 함량이 45%인 Zn-Sn-O 박막의 경우, 캐리어 농도가 $3.1\;{\times}\;10^{18}$에서 Ga 도핑 효과로 인해 $1.7\;{\times}\;10^{17}\;cm^{-3}$으로 크게 감소하고 이동도는 11에서 $20\;cm^2/V{\cdot}s$로 증가하였다. 따라서 본 연구는 Zn-Sn-O 비정질 박막에 Ga을 도핑함으로써 산화물 반도체재료로서 요구되는 물성을 만족시킬 수 있다는 가능성을 제시하였다.

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Wet Oxidation of Phenol with Homogeneous Catalysts (균일촉매를 이용한 페놀의 습식산화)

  • Suh, Il-Soon;Ryu, Sung Hun;Yoon, Wang-Lai
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • v.47 no.3
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    • pp.292-302
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    • 2009
  • The wet oxidation of phenol has been investigated at temperatures from 150 to $250^{\circ}C$ and oxygen partial pressures from 25.8 to 75.0 bar with initial pH of 1.0 to 12.0 and initial phenol concentration of 10 g/l. Chemical Oxygen Demand COD has bee measured to estimate the oxidation rate. Reaction intermediates have been identified and their concentration profiles have been determined using liquid chromatography. The destruction rate of phenol have shown the first-order kinetics with respect to phenol and the changes in COD during wet oxidation have been described well with the lumped model. The impact of various homogeneous catalysts, such as $Cu^{2+}$, $Fe^{2+}$, $Zn^{2+}$, $Co^{2+}$ and $Ce^{3+}$ ions, on the destruction rate of phenol and COD has also been studied. The homogeneous catalyst of $CuSO_4$ has been found to be the most effective for the destruction of phenol and COD during wet oxidations. The destruction rate of formic acid formed during wet oxidations of phenol have increased as increasing temperature and $CuSO_4$ concentration. The final concentrations of acetic acid which has been formed during wet oxidations and difficult to oxidize have increased with reaction temperature and with decrease in the catalyst load.

T-IR 분광법을 이용한 Si 전구체 실시간 모니터링

  • Jeon, Gi-Mun;Sin, Jae-Su;Yun, Ju-Yeong;Kim, Jin-Tae;Sin, Yong-Hyeon;Im, Jong-Yeon;Gang, Sang-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.37-37
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    • 2011
  • 반도체 칩의 빠른 성장에는 Si을 기본으로 한 산화막 또는 질화막 재료의 공헌이 크다. 하나의 반도체 소자를 만드는 데 있어, 산화막(SiO2)과 질화막(Si3N4)은 각각 다양한 두께와 다양한 방법으로 제조되고 있기 때문이다. 또한 차세대 소자제작을 위해 사용되는 미세 patterning 방법으로 dual patterning 방법을 사용하는데 이는 ALD나 CVD를 이용한 저온 SiO2 증착공정을 기반으로 하고 있다. 이러한 Si 기반 소재 개발이나 공정개발을 위해 많은 Si 전구체가 개발되어지고 있지만 적합한 전구체를 선별하기는 어려운 실정이다. 본 연구에서는 FT-IR (Fourier transform-infrared)을 이용하여 개발된 전구체의 기상안전성 및 반응성을 실시간으로 진단하여 기존의 전구체와의 차별성을 확인하고 우수한 전구체를 선별하기 위한 연구를 진행하였다. 이를 위해 특별히 제작된 가스셀을 사용하여 열 및 플라즈마 상태변화에서의 분자상태 변형을 진단하였다.

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Alternative Eletroless Copper Plating Process Utilizing Silver Catalyst on Poly(Ethylene Terephthalate) (PET위 Silver Catalyst를 이용한 무전해 구리 도금 대안 공정)

  • Lee, Hong-Gi;Heo, Jin-Yeong;Im, Yeong-Saeng;Lee, Geon-Hyeong
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2014.11a
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    • pp.127-128
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    • 2014
  • 현재 기술 산업에서 PET위 무전해 도금을 실행하기 위해 다양한 전처리 공정과 Catalyst가 소개되고 있다. 그 중에서 가장 일반적으로 사용되고 있는 Catalyst는 Palladium으로서 Tin과 산화 환원 반응으로 Electroless Copper Deposition 단계에서 구리 도금의 Target으로 작용하고 있다. 하지만 상대적으로 Palladium은 생산 비용이 높으며 Tin은 쉽게 산화되는 문제점이 남아 있다. 이를 대체하기 위한 대안 공정으로서 Palladium 대신 Silver를 이용하여 Catalyst로서의 역할을 하는 공정이다. 이전에 PET위 전처리 공정으로 Ultra Violet을 사용하여 표면을 개질 시키는 방법을 연구했으며, 그 후 Potassium Permanganate와 Silver Catalyst의 Mechanism을 연구 했다. PET 표면 개질을 거치면서 화학 구조가 바뀌어 표면에 Carbon Carbon Double Bond를 형성한다. 이때 Permanganate ion이 새로이 형성된 이중 결합과 반응하여 두 개의 extra-OH functional group을 생성함과 동시에 $MnO_2$를 만들어 표면에 흡착 시킨다. $MnO_2$는 전위차에 의해 Silver Ion과 Redox Reaction을 일으키며 실질적인 Catalyst 역할을 하게 된다. Silver Catalyst는 무전해 구리 도금 용액 안에서 Copper의 Target으로 작용한다.

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Recovery of Zine sulfate from zine sulfate waste water contain organic compound (유기물이 포함된 황산아연폐수로부터 황산아연의 회수)

  • Yoon, Guk-Joung;Lee, Tack-Hyuck
    • The Journal of Natural Sciences
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    • v.14 no.2
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    • pp.33-40
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    • 2004
  • The eliminating of organic compound is essential process of the recovery of zinc sulfate from zinc sulfate waste water contained organic compound. The ozone oxidation and adsorption treatment is good for eliminating of organic compound in waste water. The zinc oxide treated an excess of sulfuric acid for zinc sulfate. We got zinc sulfate 740g from water 1kg.

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Study on TCO Coatings for Flexible Display Devices (Flexible 디스플레이용 TCO 코팅 연구)

  • Lee, Geon-Hwan;Kim, Do-Geun;Park, Mi-Rang;Lee, Seong-Hun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.55-56
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    • 2007
  • 디스플레이용 전극 소재로 사용되는 투명 전도막은 높은 가시광 투과율 (89%이상)과 우수한 전기전도성(비저항 10$^{-4}{\Omega}cm$ 이하)을 동시에 가지므로 LCD, PDP, OLED 소자의 핵심소재로 인식되고 있다. 투명 전도막은 광학적 밴드갭이 3.5eV 이상인 wide-gap 반도체로서, 산화인듐($In_2O_3$)에 주석(Sn), 아연(Zn) 등을 치환고용 시킨 ITO, IZO, 산화아연(ZnO)에 Al 혹은 Ga을 치환고용 시킨 AZO, GZO 등 다양한 재료에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 본 연구에서는 플라즈마 정밀 제어 기술을 이용하여 80$^{\circ}C$이하의 저온 코팅 공정 조건에서 우수한 비저항( $2{\times}10^{-4}$ ${\Omega} cm $)을 나타낼 수 있는 TCO 코팅 공정 기술을 개발하였으며 이러한 연구결과는 차세대 디스플레이 소자로 예측되고 있는 Flexible 디스플레이 소자의 전극 재료로 활용될 수 있을 것으로 기대된다.

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