• 제목/요약/키워드: 핫엠보싱

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광투과성 향상을 위한 모스아이 패턴 형성 및 태양전지에의 응용

  • 한강수;신주현;이헌
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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    • pp.54.1-54.1
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    • 2009
  • 유기 태양전지는 전도성 고분자를 사용하고, 상온 공정이 가능한 초저가의 태양전지로서 주목 받는 태양전지이다. 하지만 변환 효율이 낮아 효율 향상이 큰 이슈가 되고 있다. 본 실험에서는 유기 태양전지의 효율 향상을 위해서 나노 임프린트 리소그래피 및 핫엠보싱 리소그래피 방법을 사용하여 미세 기능성 패턴을 형성하였다. 나노 임프린트 리소그래피 및 핫엠보싱 리소그래피는 나노미터급 크기의 고해상도 패턴을 빠르고 경제적으로 형성할 수 있는 가장 유망한 차세대 리소그래피 기술로써, 이를 이용한 미세패턴 구조의 형성으로 인해 다양한 기판의 투과도 향상을 확인 할 수 있었다. 또한, 태양전지 기판에 적용함으로써 향상된 광학적 특성으로 인해 태양전지 효율 향상을 확인 할 수 있었다.

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고분자 광도파로용 핫엠보싱 마스터의 표면거칠기 최소화를 위한 열산화 영향 (Thermal oxidation effect for sidewall roughness minimization of hot embossing master for polymer optical waveguides)

  • 최춘기;정명영
    • 한국진공학회지
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    • 제13권1호
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    • pp.34-38
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    • 2004
  • 핫엠보싱 기술을 이용하여 고분자 광도파로를 제작하기 위해서는 핫엠보싱 마스터가 필수적이며, 본 연구에서는 deep-RIE 공정에 의해 실리콘 마스터를 제작하였다. 광도파로의 광손실과 직접 연관이 있는 실리콘 마스터의 측면 거칠기를 최소화하기 위해 deep-RIE 공정 수행 후, 온도 $1050^{\circ}C$에서 $H_2/O_2$ 분위기하에 산화층을 각각 400$\AA$, 1000$\AA$, 3000$\AA$, 4500$\AA$, 5600$\AA$ 및 6200$\AA$ 두께로 형성하였으며, 곧바로 $NH_4$F:HF=6:1 BOE를 사용하여 산화층을 제거하였다. 제작된 마스터의 측면 거칠기를 SPM-AFM을 이용하여 측정하였으며, 측면 거칠기가 scallop 부분의 경우, 산화층 형성과 제거 후, 12nm (RMS)에서 최소 약 6nm (RMS)로 개선되었으며, vertical striation부분은 162nm (RMS)에서 최소 39m (RMS)로 개선됨을 확인하였다.

핫엠보싱 공정에서의 미세 패턴 성형에 관한 연구 (Study of nano patterning rheology in hot embossing process)

  • 김호;김광순;김헌영;김병희
    • 한국소성가공학회:학술대회논문집
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    • 한국소성가공학회 2003년도 추계학술대회논문집
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    • pp.371-376
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    • 2003
  • The hot embossing process has been mentioned as one of major nanoreplication techniques. This is due to its simple process, low cost, high replication fidelity and relatively high throughput. As the initial step of quantitating the embossing process, simple parametric study about embossing time have been carried out using high-resolution masters which patterned by the DRIE process and laser machining. Under the various embossing time, the viscous flow of thin PMMA films into microcavities during Compression force has been investigated. Also, a study about simulating the viscous flow during embossing process has planned and continuum scale FDM analysis was applied on this simulation. With currently available test data and condition, simple FDM analysis using FLOW3D was made attempt to match simulation and experiment.

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핫엠보싱 공정에서 PMMA의 마이크로/나노 레올로지 특성 (Micro/Nano Rheological Characteristics of PMMA in Hot Embossing Process)

  • 김병희;김광순;반준호;신재구;김헌영
    • 한국소성가공학회:학술대회논문집
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    • 한국소성가공학회 2004년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.259-264
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    • 2004
  • The hot embossing process as a method for the fabrication of polymer is becoming increasingly important because of its simple process, low cost, high replication fidelity and relatively high throughput. In this paper, we carried out experimental studies and numerical simulations in order to understand the viscous flow of polymer film during hot embossing process. As the initial step of quantitating the hot embossing process, simple parametric studies for the embossing conditions have been carried out using high resolution masters which patterned by DRIE process. Under different embossing times and pressures, the viscous flow of PMMA films into micro/nano cavities has been investigated. Also, the viscous flow during the hot embossing process has been simulated by the continuum based FDM analysis considering micro/nano effect, such as surface tension and contact angle.

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DVD/Blu-ray 스템퍼를 이용한 핫엠보싱 특성 (Characteristics of Hot Embossing using DVD/Blu-ray Stamper)

  • 김병희;반준호;신재구;김헌영
    • 한국소성가공학회:학술대회논문집
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    • 한국소성가공학회 2004년도 추계학술대회논문집
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    • pp.305-310
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    • 2004
  • The Hot Embossing Lithography(HEL) as a method for the fabrication of nanostructure with polymer is becoming increasingly important because of its simple process, low cost, high replication fidelity and relatively high throughput. In this study, we investigated the characteristics of hot embossing lithography as a nanoreplication technique. To grasp characteristics of nano patterning rheology by process parameters(embossing temperature, pressure and time), we have carried out various experiments by using the DVD(400nm pattern width) and Blu-ray nickel stamps(150nm pattern width). During the hot embossing process, we have observed the characteristics of the size effect. The quality of products made by hot embossing is affected by its cooling shrinkage. The demolding process at the glass transition temperature results in low quality because of the shrinkage of the polymer. Therefore, the quantification of the temperature condition is essential for the replication of high quality.

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