• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.180-180
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• 2013

반도체, 디스플레이와 같이 저압, 극청정 조건에서 진행되는 공정에서 발생한 오염입자는 수 율에 큰 영향을 미친다. 따라서 공정 중에 발생한 오염입자를 실시간으로 모니터링할 수 있는 장비에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. Particle Beam Mass Spectrometer (PBMS)는 저압에서 실시간으로 나노 입자의 크기를 측정할 수 있는 대표적인 장비 중 하나이다. 입자를 포함한 가스 유동이 PBMS로 유입되면, 우선 입자를 입자빔의 형태로 집속하는 공기역학렌즈를 통과하게 된다. 집속된 입자는 노즐에 의해서 가속되며, 이로 인해 충분한 관성을 가지게 된 입자는 양극과 음극, 필라멘트로 구성된 electron gun에서 전자충돌에 의해 포화상태로 하전된다. 하전한 입자는 electrostatic deflector에서 크기에 따라 분류되어 Faraday detector와 electrometer에 의해 측정된다. 그러나 공기역학렌즈는 입자의 크기가 작아질수록 집속 효율이 급격히 낮아진다는 문제점을 지니고 있다. 이는 입자가 작아질수록 점성에 의한 영향이 관성에 의한 영향보다 커짐으로써 나타나는 현상이다. 최근 이러한 문제점을 해결하기 위해 사중극자를 사용하여 입자를 집속시키는 방법이 대안으로 제시되었다. 사중극자는 서로 마주보는 쌍곡선 형태의 전극구조에 AC 전기장을 인가하는 방식을 사용한다. 사중극자의 중심은 정확히 평형점을 가지게 되며 입자는 사중극자 내에서 진동을 반복하며 평형점을 향해 모이게 된다. 입자의 크기가 작을수록 전기력에 의한 영향을 크게 받으므로 사중극자를 이용한 입자집속 방법은 나노입자의 집속에 있어 공기역학렌즈를 이용한 집속에 비해 이점을 지닌다. 또한 집속 하고자 하는 입자 대상이 바뀔 경우 구조를 바꿔야 하는 공기역학렌즈와 달리 사중극자를 이용한 방법은 AC 전기장을 조절하는 것 만으로 제어가 가능하다. 본 연구에서는 저압 조건에서 나노입자를 집속하기 위한 사중극자의 전극 구조를 이론적인 계산을 통하여 구하였다. 그 결과 0.1 torr의 압력 조건하에서 5~100 nm 범위의 기본 입자를 AC 전압과 진동수를 조절하여 집속할 수 있는 사중극자 형태를 설계하였다.

• Progress in Medical Physics
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• v.1 no.1
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• pp.97-107
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• 1990

A method of detecting charged particles in an allyl diglycol carbonate material (PN-3) which is available, amorphous, optically clear and thermoset plastic in which nuclear particle tracks could be revealed by etching in hot NaOH solutions, has been investigated. It has been applied to the study of alpha particle tracks over an energy range of 3.17～5.49 MeV which has been obtained after having passed through several sheets of polycarbonate. The dose equivalent rate of the alpha source was calculated and the spark chamber was used in order to measure the range of alpha particles after having passed through different number of absorbers. The etching characteristics and the detection response of PN-3 have been studied as a funcion of lengths of etched tracks against the parameters of energies and of the track etching rate(V$_{T}$). The investigation of the etching process for alpha particles in the PN-3 provided the most interesting results.s.

• Proceedings of the KSME Conference
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• 2007.05a
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• pp.210-214
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• 2007

Silicon nanoparticles are widely studied as a material with great potential for wide applications. For application to present industry, it should be easy to control the characteristics of nanoparticle including the size and structure. In this paper, we investigated the formation of Si nanoparticle using pulse plasma technology. Plasma technology is already quite common in device industry and the size of nanoparticle can be easily controlled according to plasma pulse duration. An inductively-coupled plasma chamber with RF power (13.56 MHz) was used with DC-biased grid $(-200\sim+200\;V)$ installed above the substrate. In order to measure the shape and size of nanoparticle, TEM was used. It was found that the size of nanoparticles can be controlled well with the plasma pulse duration and the collection efficiency is increased with the use of either negative or positive DC-bias.

• 연구논문집
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• s.34
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• pp.21-28
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• 2004

In this study, we report an investigation for the charging and collection of aerosol nanoparticles in an electrostatic precipitator (ESP) according to particle charging and diffusion effects. The competition between charging probability and diffusion effect determines the collection efficiency of nanoparticles in the ESP. In conclusion, collection efficiency continuously decreased with the reduction in the particle size. This indicates that poor partial charging effect of nanoparticles is more dominant than their diffusion effect in the ESP for the nanoparticles in the particle size range of 4-20 nm. Theoretical calculations using a unipolar diffusion charing theory were in good agreement with the experimental data for the nanoparticles less than 20 nm in diameter.

• Journal of KIISE:Software and Applications
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• v.32 no.8
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• pp.769-780
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• 2005

This paper addresses a novel application of meshes to analyzing the deformation patterns of 2D signals. The proposed mesh is distinguished form the previous models in that it includes simulated charges in each node that interact with external charges comprising an input pattern. Therelaxation of the mesh given an input is carried out by any of the well-known numerical integration techniques. The result of the relaxation is a deformed mesh. This Paper provides four criterion functions for measuring the pattern deformation. A set of trained meshes was created from the simple average of target patterns. Experimental results show that these measures, although highly intuitive, are not good enough to capture the amount and characteristics of pattern deformation. If more sophisticated measures are found and incorporated into the relaxation process, we expect that a better and high-performance mesh framework is realized.

• Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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• 2003.05b
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• pp.97-98
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• 2003

나노/서브마이크론 크기의 입자는 최근 유해 입자상 물질 제거 및 오염 제어나 물질 제조 등의 분야에서 관심이 높아지고 있다. 보통 환경 입자상 물질로 불리는 0.1~l $\mu\textrm{m}$ 범위의 서브마이크론 입자는 자동차, 공장, 발전소, 소각로 등의 연소 과정에서 발생되어 상당량이 대기로 배출되는데, 인체에 유입되면 호흡기 장애나 암을 유발하는 등의 나쁜 영향을 미친다. 특히, 관성력과 확산력에 의한 영향이 적고 하전 입자의 전기적인 이동도도 낮기 때문에 집진장치나 공기청정장치에서 집진효율이 가장 낮은 크기 범위이다. (중략)

• Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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• 2002.04a
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• pp.227-228
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• 2002

대기오염물질 중 입자상물질(particulate matter, PM)의 크기분포 측정은 주로 다단임팩터(cascade impactor)에 의해 이루어지고 있다. 임팩터 각 단에 포집된 입자의 무게를 측정하여 입자상물질의 크기 분포로 환산하는 다단임팩터는 입자의 샘플링에 많은 시간이 소모되며 필터의 전처리 및 무게측정과정이 번거롭고, 시간에 따른 농도분포의 추이를 파악할 수 없는 단점이 있다. (중략)

• Ceramist
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• v.10 no.2
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• pp.55-63
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• 2007

• Proceedings of the KSME Conference
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• 2005.11a
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• pp.24.2-24.2
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• 2005

• Electrical & Electronic Materials
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• v.4 no.1
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• pp.53-64
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• 1991

절연체중에 있는 하전입자의 거동은 절연재료의 특성에 많은 영향을 준다. 본 연구에서는 호핑모델에 의한 수치해석법을 TSC특성과 쌍극자분극에 대한 TSC특성은 차이가 있었다. 실험과 대응시켜 가동이온에 관한 물성정수의 평가를 하였다. 호핑모델에 의해서 불포화 TSC와 I-V특성의 수치계산을 하였다.