• Title/Summary/Keyword: 피막

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Effect of Cation on The Formation Behavior of Plasma Electrolytic Oxidation Films on Al1050 Alloy (Al1050 합금의 플라즈마 전해산화 피막 형성 거동에 미치는 cation의 영향)

  • Kim, Ju-Seok;Mun, Seong-Mo;O, Myeong-Hun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2017.05a
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    • pp.151.2-151.2
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    • 2017
  • 본 연구에서는 정전류 조건에서 알루미늄 합금의 PEO(Plasma Electrolytic Oxidation) 피막 형성 거동에 미치는 전해질 내 cation($K^+$, $Na^+$)의 영향을 아크 발생 양상, 전압-시간 곡선 및 형성된 표면피막 구조를 관찰하여 연구하였다. 전해질은 0.5 M NaOH + 1 M $Na_2SiO_3$ 수용액과 0.5 M KOH + 1 M $Na_2SiO_3$ 수용액이 사용되었다. 아크 발생은 cation의 종류에 상관없이 동일하게 가장자리부터 시작되어 내부로 이동함으로써 전 표면에 걸쳐서 일어났다. 전 표면에서 PEO 피막이 형성된 이후에는 한 지점에서 지속적으로 아크가 발생하는 로컬버닝 현상이 두 용액에서 모두 관찰되었으나 $K^+$이온이 포함된 용액에서 로컬버닝이 빠르게 일어났다. 시편표면에서 아크가 발생하는 동안 중 각 전해액에서의 전압-시간 곡선에서 전압의 상승과 하강이 반복되는 거동이 동일하게 관찰되었다. 이러한 전압 등락의 크기는 $K^+$ 이온이 포함된 수용액에서 더 크게 나타났으며, 그 결과 표면 거칠기가 상대적으로 더 높은 PEO 피막이 형성되었다.

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Growth Kinetics and Electronic Properties of Passive Film of Nickel in Borate Buffer Solution (Borate 완충용액에서 니켈 산화피막의 생성 과정과 전기적 성질)

  • Kim, Younkyoo
    • Journal of the Korean Chemical Society
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    • v.58 no.1
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    • pp.9-16
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    • 2014
  • In a borate buffer solution, the growth kinetics and the electronic properties of passive film on nickel were investigated, using the potentiodynamic method, chronoamperometry, and single- or multi-frequency electrochemical impedance spectroscopy. The oxide film formed during the passivation process of nickel has showed the electronic properties of p-type semiconductor, which follow from the Mott-Schottky equation. It was found out that the passive film ($Ni(OH)_2$) of Ni formed in the low electrode potential changes to NiO and NiO(OH) while the electrode potential increases.

플라즈마 전해산화 공정 중 전해액 내의 인산염 변화에 따른 알루미늄 합금 산화피막의 형성

  • Yun, Sang-Hui;Kim, Seong-Cheol;Seong, Gi-Hun;Gang, Du-Hong;Min, Gwan-Sik;Cha, Deok-Jun;Kim, Jin-Tae;Yun, Ju-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.298-298
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    • 2013
  • 플라즈마 전해산화기술은 알루미늄 소재에 대해 기존의 양극 산화막, 전해 경질크롬 도금 및 플라즈마 세라믹 용사기술 등에 의해 구현할 수 없는 고기능성을 부여하여 월등히 우수한 경도, 내부식, 내마모, 전기절연, 열저항, 피로강도 등을 얻을 수 있는 획기적인 기술이다. 또한 최근 환경에 대한 관심이 점차 높아지면서 친환경적 공정과정과 경금속 소재의 제품에 내구성을 향상시킬 필요성이 높아지고 있다. 이러한 요구에 부합하는 플라즈마 전해 산화기술은 알칼리 수용액 중에서 Al, Ti, Mg 등의 표면에 산화 피막을 형성시키는 기술로써 기존의 양극산화(Anodizing)을 대체 할 수 있다. 본 연구에서는 Al6061을 이용하여 플라즈마 전해산화 공정에 사용되는 전해액의 종류 및 농도, 시간의 변화에 따른 산화 피막의 변화를 내전압 측정 및 FE-SEM, EDS, XRD를 통해 분석하였다. 전해액에 sodium hexameta phosphate과 potassium phosphate를 이용하여 phosphate 종류의 변화에 따른 피막 특성의 변화를 연구하였다. 그로인해 phosphate의 종류 및 농도, 시간 변화를 이용하여 플라즈마 전해산화공정의 산화 피막 물성 제어를 할 수 있다.

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Studies on the Storage of Processed Fruits by Coating Agent Treatment (피막제(皮膜劑) 처리에 의한 과실(果實) 가공품(加工品)의 저장(貯藏)에 관한 연구)

  • Yoon, Jung Eui;Lee, Sang Gun;Hur, Yun Haeng
    • Journal of the Korean Society of Food Science and Nutrition
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    • v.12 no.2
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    • pp.93-98
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    • 1983
  • Apple sugaring and apple nectar gel were treated with coating agent, and then the rate of weight loss, browning reaction and fungi growth on the storage conditions of those were investigated. The results obtained were summarized as follows; The composition of sucrose, D-sorbitol, corn syrup, gelatin, arabia gum, citric acid, sodium citrate and sodium ascorbate as a nontoxic coating agent was desirable to repress weight loss browning reaction and fungi growth of apple sugaring and apple nectar gel. It was the most effective method that apple sugaring was treated with the coating agent and refrigerated with double packaging. The contraction by weight loss, browning reaction and fungi growth of apple nectar gel treated with the coating agent and freezed with double packaging were repressed.

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진공 부품용 플라즈마 전해산화 피막 제조 및 특성 평가

  • Min, Gwan-Sik;Lee, Seung-Su;Yun, Ju-Yeong;Sin, Yong-Hyeon;Cha, Deok-Jun;Gang, Du-Hong;Seong, Gi-Hun;Kim, Seong-Cheol;O, Eun-Sun;Kim, Jin-Tae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.122.2-122.2
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    • 2013
  • 플라즈마 전해산화(plasma electrolytic oxidation) 기술을 이용하여 제작한 산화 피막은 피막의 하층부(기지 금속과 접해 있는 부분)는 ${\alpha}$-phase의 산화물이 대부분을 이루고 있으며, 기지 금속과의 접착성도 뛰어나다. 하지만 피막의 표면이 거칠고, 다공성을 띄는 특징을 보인다. 본 연구에서는 피막의 거칠기와 다공성을 제어하기 위한 방법으로 전해액에 포함된 불순물(Si, P 등) 조성비의 변화에 초점을 맞췄으며, 불순물(Si, P 등)의 조성비를 변화시켜 가면서 실험을 진행하였다. 실험에는 60 Hz, 35 kW(700 V, 50 A)의 power supply가 사용되었다. 또한, 실험의 결과로 제작된 시편의 내전압(10 V/s), 내플라즈마(200 W, 10 min, Ar 5 sccm, 200 mTorr), 내화학성(HCl 36.46 wt%, 120 min) 테스트를 진행하였으며, 실험 결과를 바탕으로 ${\phi}300$ 대면적 시편의 제작도 완료하였다.

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Anodic Film Formation on Aluminum(III) (양극산화피막 형성에 관한 연구 (III))

  • 한성호
    • Journal of the Korean institute of surface engineering
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    • v.22 no.2
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    • pp.88-92
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    • 1989
  • 양극산화 피막의 졀정구조에 관한 연구는 1960년대부터 반응 Mechanism의 연구와 병행하여 많은 논란이 되어왔다. 결정구조의 정확한 Model 이 아직까지 확립되어 있지 않은 상태에서, 여러 가지 접근방식으로 연구되고 있는 실정이다. 최근에는 HRTEM, NAS-NMR등의 고성밀 장비의 응용에 의한 결정구조의 분석에 활발히 진행이 되고 있으며, 이론 물리학의 응용 또한 이곳까지 확산되고 있는 상태이다. 본 고에서는 반응 Mechanism을 연구하는데 가장 밀접한 분야인 양극산화 피막 결정 구조에 관해 1950년대이후 어떻게 연구되고 설명되었는가를 조명하기로 한다.

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Development of electroless Ni-W-P plating solution with high corrosion resistant (고내식성 무전해 Ni-W-P 도금액의 개발)

  • Lee, Su-Jin;Lee, Eun-Gyeong;Kim, Dong-Hyeon
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2013.05a
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    • pp.59-59
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    • 2013
  • Ni-P 도금 피막층에 W를 함유시켜 고내식성을 목적으로 하는 Ni-W-P 도금에 대하여 연구 하였다. 도금액 조건의 최적화 및 도금온도와 pH 등이 가 피막특성에 미치는 영향을 조사하여 피막 크랙이 발생하지 않고 내식성 및 내마모성이 우수한 무전해 Ni-W-P 도금 공정을 확립하였다.

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PEO공법을 적용한 마그네슘 합금의 공정 변수에 따른 산화 피막의 특성

  • Nam, Seok-Hyeon;Lee, Jae-Eun;Na, Il-Chae;Kim, Yong-Gyun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2016.11a
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    • pp.125.1-125.1
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    • 2016
  • 마그네슘 합금은 소재 특성상 표면처리가 필수불가결하다. 금속의 다양한 표면처리 방법 중 마그네슘 합금은 크게 화학적 반응을 이용해 산화막을 생성해 피막을 올리는 화성처리법과, 전해액 내에 침지시켜 전기를 걸어주어 금속 표면에 플라즈마 아크를 통해 산화막을 생성하는 PEO공법 두 가지 방법이 있다. 본 연구에서는 마그네슘 합금 소재에 PEO공법을 적용한 산화피막의 공정 변수에 따른 특성을 SEM, EDS, SST, potentiodynamic polarization 등으로 분석하였다.

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Anodic Film Formation on Aluminum(II) (양극산화피막 형성에 관한 연구(II))

  • 한성호
    • Journal of the Korean institute of surface engineering
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    • v.21 no.4
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    • pp.183-192
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    • 1988
  • 양극산화피막의 조성은 현대 장비의 정밀도가 nano 영역까지의 성분 분석이 이루어 짐의로서, 최근에 와서 금속한 진전을 나타내고 있다. 특히 TEM. EDC System을 이용한 Ultramicrotomed 시편의 정밀분석 기술은 이제 한계를 나타내고 있는 것 같다. 본고에서는 반응 Mechanism을 연구하는데 가장 필수적인 분야인 양극산화피막의 조성에 관해 1950 연대 이후 어떻게 연구되고 설명되었는가를 조명하므로 해서, 그 응용의 기반을 확고히 하고자 한다.

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Low Temperature Deposition of ITO Film Using Magnetron Sputtering (스퍼터링에 의한 ITO 박막의 저온 증착 및 측정)

  • Jang, Seung-Hyeon;Lee, Yeong-Min;Yang, Ji-Hun;Jeong, Jae-In
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.172-172
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    • 2009
  • 전자부품 소재의 경량화 및 연성화 경향에 따라 고분자 소재의 수요가 증가하고 있으며 이에 따라 각종 디스플레이 소자의 투명 도전막으로 사용되는 ITO(Indium-tin Oxide) 피막의 저온 박막 성장에 대한 관심이 증가하고 있다. 본 연구에서는 PET 기판의 전처리 및 후처리 조건에 따라 저온에서 ITO 피막을 제조하고 전처리 및 후처리 조건이 ITO 피막의 면저항 및 투과율 그리고 결정성에 미치는 영향에 대해서 연구하였다.

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