목적: 가도세틱산-조영증강 MRI에서 간세포암 피막 발견에 대한 영상차감기법의 진단적 가치를 알아보고자 하였다. 대상과 방법: 2015년 5월부터 2017년 2월까지 가도세틱산-조영증강 MRI를 시행 받고 수술을 시행한 hepatocellular carcinoma (이하 HCC) 고위험군 108명을 대상으로 하였다. 차감영상의 질 및 간문맥기와 이행기의 일반영상과 차감영상에서 피막 여부에 대해 평가하였고, 차감영상에서의 피막 여부가 Liver Imaging Reporting and Data System에 따른 간세포암 진단에 미치는 영향을 평가하였다. 결과: 수술 전 경동맥화학색전술을 시행 받았거나 차감영상의 질이 불만족스러운 34명의 환자를 제외한 74명의 환자에서 82개의 간 병변(간세포암 73개, 그 외 악성종양 5개, 양성종양 4개)에 대해 분석하였다. 피막의 발견에 대한 차감영상의 민감도, 정확도, 그리고 곡선하면적은 일반영상과 비교하여 통계적으로 유의하게 높았고(각 95.4%, 89.0%, 0.80; p < 0.001), 특이도는 동일하였다(64.7%). HCC의 진단에 대해서도 차감영상이 일반영상과 비교하여 민감도, 정확도, 그리고 곡선하면적이 통계적으로 유의하게 높았으며(각 82.2%, 79.3%, 0.69; p = 0.011), 특이도는 동일하였다(55.6%). 결론: 가도세틱산-조영증강 MRI에서 간문맥기 또는 이행기로부터의 차감영상은 간세포암 피막의 발견에 도움이 된다.
이중 또는 삼중으로 탄소 피막된 핵연료 입자를 Graphite 소결체에 채워넣은 핵연료를 설계하고, 이에 대한 핵적 타당성을 검토하고자 하였다. 핵계산 체계로서 CASMO-3가 갖는 Spatial Self-shielding 효과의 문제, 코드의 계산 방식 문제, 핵자료 결손 문제를 검토한 후 보정 계수를 산출하려 하였다. CASMO-3의 정확도는 MCNP-4A를 통해 검증하였는데, 비균질한 소결체 내부를 균질화 함으로서 야기되는 Spatial Self-Shielding 효과는 임계도의 차이가 거의 없는 것으로 확인되어졌고, 계산 코드의 차이로 인한 효과 또한 무시할 수 있었다. 그러나 CASMO-3의 핵자료에서 탄소와 실리콘의 자료 부족은 임계도 차이가 0.06184정도로 다소 차이가 나기 때문에 보정이 필요함을 확인하였으나 CASMO-3 자체의 유용성에는 문제가 없었다.
최근 첨단 기능화 되고 있는 반도체의 회로는 증가하고 칩의 브릿지도 점점 증가하고 있다. 반면에 제품은 소형화되고 회로폭은 미세화 하고, 피치는 감소하고 있다. 이에 회로의 정확한 검사를 위해서는 Probe Pin의 신뢰성을 중요시하게 되면서 도금기술의 고품질화가 요구되는 실정이다. 본연구에서는 Probe Pin과 내구성과 금도금 피막의 두께를 확보하여 국산 반도체 검사장비 시장을 선도 할 수 있도록 금도금피막의 두께와 밀착성 확보와 함께 굽힘시험시 박리와 크랙방지를 위한 기초연구를 수행하고자 하였다.
본 연구에서는 에틸렌디아민을 착화제로 사용하여 전해도금으로 Ni-Pd 합금피막을 형성하였다. 염화팔라듐 농도 1~5 mM, 전류밀도 $0.2{\sim}1.5A/dm^2$ 구간에서 고용체 합금피막이 형성되었으며, 이의 격자상수는 X선회절 분석을 통하여 확인하였다. Pd 함량은 전류밀도가 증가할수록 감소하였고, 경도는 전류밀도가 증가할수록 증가하다가 전류밀도 $1.3A/dm^2$ 이후 급격히 감소하였다. 경도증가 원인은 결정립미세화이고, 전류밀도 $1.3A/dm^2$ 이후에서 잔류응력으로 인한 크랙 발생으로 사료되었다.
본 연구에서는 AZ31 마그네슘 합금의 내식성을 향상시키기 위하여 플라즈마 전해산화(PEO, plasma electrolytic oxidation)법을 이용하여 다양한 용액에서 양극 및 음극 펄스전류를 인가하여 형성하였다. PEO피막 내부에 형성된 기공의 모양 및 크기를 에폭시 레플리카법을 이용하여 관찰하였다. PEO 피막 내부의 기공의 크기는 용액의 pH가 증가할수록 작아졌으며 균열의 크기는 증가하였다.
중금속이 함유되지 않은 친환경 방청코팅제 개발을 위해 현재 국내 시장을 잠식하고 있는 외산 무기 아연말 피막기술의 국산화 상용기술 방안과 경쟁력 확보를 위해 다양한 연구방법을 시도하였으며, 외산 기술에 상응하는 SST 1,000시간이상의 고내식성 확보 기술을 제안하고자 한다.
금속이나 세라믹 입자를 용사하여 보호피막을 형성하는 기술은 화염을 사용하는 방법에서 시작했으며 용사재료는 분말, 선, 봉의 형태로 공급되었다. 1960년대에 상업적인 plasma 용사장비가 개발되었으며 여기서 사용된 D.C.plasma jet를 이용하여 분말형태의 용사재료를 용융하고 고속으로 피용사테에 용융입자를 분사하여 피용사체면에 충돌시켜 다층의 얇은 피막을 형성한다. 최근(1985년)에는 R.F.(Radio Frequency) Plasma를 이용하여 열전도도가 작은 재료나 산소와 반응성이 큰 재료를 용사하는 방법도 개발되고 있다. 용사피복법은 현재 여러가지 방법이 실용되고 있으며 재료를 용융하는 열원에 따라 분류하면 표1과 같다. 즉 산소와 연료 가스의 혼합에 의한 연소나 폭발에너지를 이용하는 가스식 용사법과 Arc, Plasma등의 전기 에너지를 이용하는 전기식 용사법으로 크게 나눌 수 있다.
연소화학증착법(CCVD)를 이용해 IN738LC 합금에 $SiO_2$ 보호피막 코팅을 행하였다. 소스물질인 TEOS 첨가량과 증착 시간을 변화시키면서 $SiO_2$ 보호피막을 제조하였다. 증착된 코팅층은 SEM, EDX, XPS 분석을 통해 $SiO_2$층임 을 확인하였고 TGA(Thermogravimetric analysis)를 이용하여 합금의 내산화 특성을 평가하였다.
양극산화 피막의 형성 반응에 대한 연구는 1930년대부터 되어 왔으며, 특히 High Field Conduction에 대한 물리학자들의 관심도는 아주 높아었다. 1960년대 이르러 비정질 구조에 대한 심도 있는 연구가 진행되면서, 여러 가지 이론적으로 풀지 못하는 실험실적 결과들에 대한 제한들이 나오게 되었고, Ionic Migration Process에 대한 Kinetics는 많은 발전을 보게 되었다. 최근까지의 연구결과, Ioinc Conduction Mechanism은 Anodic Film의 미세 결정 구조와 밀접한 연관성을 가진다는 결론에 도달하였고, 비정질 구조의 High Field하에서의 거동에 대한 새로운 분야의 연구가 진행되고 있다. 본 고에서는 반응 Mechanism에 관한 연구결과들을 1930년대 이후 어떻게 진행되어 설명 되었는가를 조명하므로서 실제 실험 결과의 해석게 도움이 되었으면 하는 바램이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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