Diagnostics of plasma density and temperature play an important role for monitoring plasma processing and Laser Thomson scattering is a one of the most accurate diagnostic technique for measuring plasma density and temperature because of none-perturbation to plasma among various diagnostic techniques invented to measure plasma density and temperature. I will briefly review Laser Thomson scattering experiment performed in KRISS and difficulties for measuring the electron velocity distribution such as Gaussian due to low signal-to-noise ratio with showing results that we got until now. This work is an intermediate step in a process that we will get a reliable data which shows physical phenomenon of plasma compared with other diagnostic techniques and results.
Fault detection using optical emission spectra with modified K-means cluster analysis and principal component anal ysis are demonstrated for inductive coupl ed pl asma cl eaning processes. The optical emission spectra from optical emission spectroscopy (OES) are used for measurement. Furthermore, Principal component analysis and K-means cluster analysis algorithm is modified and applied to real-time detection and sensitivity enhancement for fluorocarbon cleaning processes. The proposed techniques show clear improvement of sensitivity and significant noise reduction when they are compared with single wavelength signals measured by OES. These techniques are expected to be applied to various plasma monitoring applications including fault detections as well as chamber cleaning endpoint detection.
2차 플라즈마를 사용하지 않고도 스퍼터링된 입자의 높은 이온화율을 얻을 수 있는 고전력 마그네트론 스퍼터링 기술은 최대 $MW/cm^2$의 높은 투입 전력을 이용하지만 타겟 재료의 높은 열전도 요구때문에 실제로 사용할 수 있는 재료가 Cu를 비롯한 몇가지 금속에 제한된다. 수 백 $kW/cm^2$의 중간 전력 밀도를 가질 수 있도록 펄스를 다중 부분 세트로 제어하는 modulated pulse plasma 시스템을 구축하고 전자 온도, 밀도를 고속으로 계측할 수 있는 삼중 프로브와 고증폭 CCD를 이용하여 공정 진단을 한 결과 전자 온도는 최고 15.9 eV, 전자 밀도는 $4.25{\times}10^{12}{\sharp}/cm^3$였으며 weak ionization 조건과 strong ionization 조건에서 Ar I (811.5 nm)의 방출광 세기가 6배 증가하는 것으로 분석되었다.
In this study we attempted to diagnose the states and properties of plasma generated while depositing SiON thin films using PECVD (Plasma enhanced chemical vapor deposition). The temperature and density of electron gases formed in a PECVD chamber were measured by Langmuir probe method. Their values were also estimated under some assumptions we made in this work. Comparison between experimental and theoretical values of the temperature and density of electron gases was made. The experimental and estimated results revealed that, as RF Power gets higher, the electron density linearly increases, but that the electron temperature does not vary.
차세대 CMOS 공정에서 유전상수가 높은 게이트 절연막과 함께 게이트 전극이 관심을 끌고 있다. 게이트 전극은 전도도가 높아야 하고 p-MOS, n-MOS에 맞는 일함수를 가져야 하며 열적 특성이 안정해야 한다. 탄탈룸 계열 탄화물이나 질화물은 게이트 전극으로 관심을 끌고 있는 물질이며 이를 원자층 화학증착법으로 박막화 하는 공정이 관심을 끌고 있다. 원자층 화학공정에서는 전구체의 역할이 중요하며 이의 기상반응 메카니즘, 표면 반응 메카니즘을 제대로 이해해야 한다. 본 연구에서는 TBTDET (tert-butylimido tris-diethylamido tantalum) 전구체의 반응 메커니즘을 FTIR(Fourier Transform Infrared)을 이용해 진단하였다. 또한 수소, 암모니아, 메탄을 이용한 열화학 원자층 증착, 플라즈마 원자층 증착 공정을 수행하여 박막을 얻고 이들의 특성을 평가하였다. 각 공정에 따라 반응 메커니즘이 달라지고 박막의 조성이 달라지며 또한 박막의 물성도 달라진다. 특히 박막에 형성되는 TaC, TaN, Ta3N5, Ta2O5 (증착 후 산소의 유입에 의해 형성됨) 등의 조성이 공정에 따라 달라지며 박막의 물성도 달라진다. 반응메카니즘의 연구를 통해 각 공정에서 어떠한 조성의 박막이 얻어지는 지를 규명하였고 박막의 밀도에 따라 산소유입량이 어떻게 달라지는 지를 규명하였다.
역전파 신경망은 반도체 공정 모델링에 효과적으로 응용이 되고 있으며, 최근 선형뉴런을 비선형 함수 대신 출력층에 이용하여 모델의 예측정확도를 향상 시킨 바 있다. 본 연구에서는 그 원인을 규명하기 위한 모델의 평가지표로서의 유클리디언 웨이트 거리(Euclidean Weight Distance)를 제안한다. 이 지표를 이용하여 신경망의 입력층과 은닉층, 그리고 은닉층과 출력층의 웨이트를 감시하였으며, 그 결과 예측정확도의 향상이 이 지표의 감소에 기인하고 있음을 알았다. 모델링에 이용한 실험데이터는 다중 유도결합형 플라즈마 장비로부터 Langmuir Probe 진단 시스템을 이용하여 수집하였다.
A real-time monitoring of an immersed antenna type inductively coupled plasma (ICP) was done with optical emission spectroscopy (OES) to check the reports that sputtered atom density is decreasing as the ICP power is increased. At 10 mTorr pressure of Ar, Mg was sputtered by a bipolar pulsed power supply into 2 MHz ICP which has an insulator covered 2.5 turn antenna. Emitted light was collected in two different positions: above the target and inside the ICP region. With 100 W of Mg sputtering power, the intensities of Mg I (285.06 nm), Mg II (279.48 nm), Ar I (420.1 nm) were increased constantly with ICP power from 100 W to 600 W. At 500 W, the intensity of $Mg^+$ exceeded that of Mg under PID controlled discharge voltage of 180 V. The ratio of Mg II/Mg I was increased from 0.45 to 2.71 approximately 6 times.
결절성 홍반은 소아에서 가장 흔한 피하지방층의 염증으로 하지의 압통을 동반한 결절을 특징으로 한다. 이 질환은 다양한 원인에 의해 발생되지만 공통된 조직소견을 보여준다. 저자들은 임상적 소견 및 혈청학적 방법으로 마이코플라즈마 폐렴균에 의한 결절성 홍반을 진단하였고 조직병리적인 접근을 통해 결절성 홍반의 면역병인에 대해 고찰해 보았다. 조직병리소견은 제 4형 면역반응 염증을 보였으며 이는 다양한 원인에 의한 결절성 홍반의 발생 기전을 이해하는데 도움을 줄 것이다.
시간 지연이나 위상 지연과 같은 레이다 기법을 기반으로 하는 마이크로파 reflectometry를 비균질 매질의 밀도 특성을 조사하기 위한 비파괴 검사 장치로 응용하기 위한 시스템 특성을 연구하였다. 특히 마이크로파 reflectometry를 플라즈마 연구 분야에 응용하기 시작한 것은 비교적 최근의 일로서 그 활용도가 점차 증가하고 있는데, 마이크로파 reflectometry로 비균질 매질을 조사하기 위해서는 대상에 따른 시스템의 하드웨어 구성이 최적화되어야 하며, 시스템에서의 신호 응답 특성이 이해되어야만 전체적인 시스템 해법을 제공하는 것이 된다. 마이크로파 reflectometry를 이용하여 진단하는 대상인 플라즈마의 특성에 따른 시스템의 구성을 설명하고, 파동수 및 밀도 섭동에 관한 시스템의 특성을 실험적으로 조사하기 위한 장치를 설명하였다. 마이크로파 reflectometry의 신호는 대부분의 전자기파 에너지가 반사되는 지역에서 기인하는 cutoff 신호와 교란 신호와의 상호 작용으로 발생하는 산란 신호로 구성된다. 이 논문에서는 마이크로파 reflectometry의 산란 신호 특성을 실험적 방법으로 조사한 결과를 제시하며, 1차원 파동방정식을 이용한 수치 해석적 결과와 비교 분석하였고, cutoff 신호 특성과도 비교하였다.
마이크로유체 채널 내에서 표면 성질과 기능성 분자들의 공간적인 위치를 제어하는 것은 진단소자, 마이크로 반응기, 또는 세포와 마이크로 유체역학의 기본적인 연구를 일해 매우 중요하다. 이 논문에서는 소프트 리소그라피 방법을 이용하여 채널 안에 패턴된 구조물을 포함하는 안정적인 마이크로 채널을 제작하는 방법을 소개하려 한다. 먼저 패턴된 영역을 폴리디메틸실록세인(PDMS) 몰드의 치수와 제작 과정을 적당히 조절함으로써 산소 플라즈마로부터 보호한다. 마이크로 구조물은 대표적인 생물오손(biofouling) 억제 물질인 폴리에틸렌 글리콜(PEG)계 공중합 고분자 혹은 다당류인 히알루산(HA)을 패턴하여 얻었으며 이러한 패턴을 이용하여 피브로넥틴(FN), 소의 혈장 알부민(BSA) 등의 단백질과 동물 세포의 어레이를 제작하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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