• Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
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• 2005.07a
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• pp.580-582
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• 2005

거리가 상당히 먼 곳에서 고가의 장비를 사용하기 위해서는 사용할 연구 인력이 직접 와야 하는 많은 시간적 비용적 문제가 발생한다. 특히 본원에 장비되어 있는 초고전압 투과전자현미경(High Voltage Electron Microscopy - 이하 HVEM)의 경우 고가의 장비로 지역마다 기기를 구비할 수 없어 사용자는 직접 장비가 있는 연구실까지 와서 사용해야 한다. HVEM은 1천만 배율의 성능을 가진 국내 유일은 물론 전 세계적으로도 손꼽히는 고성능의 투과전자현미경으로 NT(Nano Technology), BT(Bio Technology) 연구에 있어서 핵심적인 역할을 하는 청단 연구기기이다. 따라서 본 논문에서는 그리드 컴퓨터 기술을 이용하여 HVEM을 원격제어 하는 시스템을 구축하였다.

• ETRI Journal
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• v.11 no.3
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• pp.65-72
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• 1989

투과 전자 현미경 (Transmission Electron Microscope : TEM))의 단면 시료 관찰은 반도체 소자의 미세화에 따른 공정 평가, failure analysis 분야에 최근 많이 사용되고 있으나 TEM관찰을 위한 반도체 소자의 시료 제작 기술이 반도체 재료의 특성상 매우 어렵기 때문에 만족할만한 연구 성과가 미흡한 실정이다. 여기에서는 확산 공정 기술 개발에 따른 시료의 TEM 관찰에 필요한 단면 관찰용 시료 제작 기술에 대한 연구 결과를 정리 하였다.

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 1997.11a
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• pp.52-52
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• 1997

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 1994.05a
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• pp.27-27
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• 1994

• Ceramist
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• v.5 no.3
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• pp.21-26
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• 2002

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 1996.05a
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• pp.72-74
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• 1996

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 1995.06a
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• pp.50-51
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• 1995

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 1995.06a
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• pp.54-55
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• 1995

• 한국전자현미경학회:학술대회논문집
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• 2004.05a
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• pp.78-79
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• 2004

• Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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• v.3 no.2
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• pp.131-139
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• 1993

Transmission electron microscopy( lEM) technique which is useful for investigating the crystalline structure and defects, and reflection electron microscopy( REM) of which technique has very high sensitivity of detecting the defects on the crystal surfaces were applied to study the behaviour of dislocations and twins in or on the $a- AI_20_3$ single crystals.