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반도체공장의 글로벌 전개

  • 대한전기협회
    • 전기저널
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    • 통권259호
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    • pp.70-77
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    • 1998
  • 미쓰비시전기는 제3세대 16비트 D램을 비롯한 0.4$\mu$m이하의 디자인룰을 갖는 ULSI를 대상으로, 직경 200mm웨이퍼 프로세스기술을 포함한 제조기술을 개발하여, 일본 국내, 대만, 독일에 양산공장을 전개하였다. 생산성이 우수한 디바이스/프로세스기술을 기반으로 저비용의 청정실 건설, 급수 등을 포함한 동력설비, 공장 자동화(FA), 컴퓨터제어식 제조공정(CIM), 북이단지구에있는 미쓰비시전기의 반도ㅔ개발거점과 각 공장간을 맺는 정보네트워크, 나아가 제조장치에 대한 철저한 저발진화와 결함관리를 위해 동사의 기술을 결집하여 생산성이 매우 높은 반도체양산공장을 글로벌하게 전개하였다. 우선 태본공장 최첨단 반도체라인(KD동)을 아주 짧은 기간에 가동시키는 소위 ''수직기동''을 실현하였다. 다음에 태본공장 KD동을 ''마더(Mother)공장''으로 하여 그대로 기술이전하는 ''Copy Exactly''라는 방법으로 이들 기술을 세계적으로 전개한 결과 대만에 있는 합병회사인 PS(Powerchip Semiconductor corporation)와 독일에 있는 생산회사 MSE(Mitsubishi Semiconducter Europe, GmbH)에서도 최첨단 반도체공장의 수직기동에 성공하였다. 이 공장은 0.25$\mu$m이후의 제품에도 대응가능하며 태본공장 KD동은 64M비트 D램으로 제품을 전환해가고 있다. 그렇게 하여 이들 공장과 개발거점을 네트워크호하여 다국적 기업에 걸맞는 세계적인 ULSI의 양산체제를 구축하였다.

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Amorphous Silicon의 電解鍍金

  • 이주성
    • 한국표면공학회지
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    • 제17권2호
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    • pp.59-63
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    • 1984
  • 하루가 다르게 발전하고 있는 최첨단기술인 電子材料의 膜 형성기술중 amorphous silicon(a-Si) 을 電氣鍍金으로 얻는 방법을 소개하였다. 1975년 a-Si이 p-n制御가 가능한 半導體임이 확인된 이후, 큰 면적의 太陽電池, 複寫機用 感光體薄膜, transistor array 등의 응용이 착착 진행되고 있다. 종래의 單結晶실리콘 半導體를 이용한 太陽電池는 가격면에서 비싸 경제성이 적었던 것이 a-Si의 등장으로 小型 計算機등에 까지 a-Si을 사용한 太陽電池로 電源을 대체하기 시작하여 빠른속도로 시장이 확대되어가고 있다. 특히 a-Si는 햇빛은 물론 형광등의 파장범위에서도 光應答을 하기때문에 太陽電池로서 일상생활에 광범위하게 이용될 전망이 있다. 이 a-Si의 제법으로는 蒸着法, sputtering 法, glow 放電分解法등 매우 복잡한 장치를 이용하여 膜을 형성시키고 있으나 장치가 간단하고 값싼 電氣鍍金法도 가능성이 있음이 기초적으로 알려지기 시작하였다. 본 자료는 일본 三重大學의 Y.Takeda와 O.Yamamoto가 "Amorphous Silicon의 電解析出"이란 제목으로 최근발간된 학술잡지 [電氣化學 52(7),460(1984)]에 실린 글로서 電氣都給方法이 최첨단기술분야에도 일익을 담당하고 있어 흥미로와 여기에 소개하였다.

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Al-합금의 원소가 용융산화에 미치는 영향(ll. 산화층 형상과 미세구조) (The Effects of Al-Alloying Elements on the Melt Oxidation(II, Oxide Layer Shape and Microstructure))

  • 조창현;강정윤;김일수;김철수;김창욱
    • 한국재료학회지
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    • 제7권8호
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    • pp.660-667
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    • 1997
  • AI-Mg-합금의 용융산화에 의해 생성되는 AlO$_{2}$O$_{3}$-복합재료의 미세구조에 미치는 합금원소의 영향을 연구하였다. AI-1Mg 합금과 AI-3Mg 합금을 기본으로하여 Si, Zn, Sn, Cu, Ni, Ca, Ce를 1, 3, 5 %를 무게비로 첨가하였다. 각 합금을 1473K에서 20시간 유지하여 산화시킨 후 산화층의 거시적 형상과 미세구조를 광학현미경으로 관찰하였다. 각 미세구조의 상분율을 상분석기로 측정하였다. 산화층의 최첨단면은 SEM과 EDX로 관찰하고 분석하였다. Cu나 Ni를 첨가한 합금으로부터 성장한 산화층의 미세구조가 가장 치밀하였다. Zn이 포함된 합금으로부터 성장한 산화층 최첨단 성장면에는 ZnO가 관찰되었다. Zn이 포함되지 않은 다른 합금의 성장 전면에는 항상 MgAi$_{2}$O$_{4}$상이 관찰되었다.

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800MW 습식배연탈황설비 홉수탑 유동특성 해석 (Flow Analysis of the Wet Flue Gas Desulfurization System for 800MW Power Plant)

  • 정석용;김중석;문길호;김성원;이호경
    • 한국대기환경학회:학술대회논문집
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    • 한국대기환경학회 2003년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.467-468
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    • 2003
  • 국내 최초 800MW급 석탄화력발전소로서 국제환경 규제 기준치를 능가하는 최첨단 환경 설비를 모두 갖춘 최신 발전소로 건설되고 있는 한국남동발전(주) 영흥화력 1,2호기가 2004년 7월과 12월에 완공을 목표로 보일러 및 습식배연탈항설비의 공사가 진행되고 있다. 이에 당사는 본 공사의 주계약자로서 국내 최대 규모의 최첨단 발전소 건설을 위해 최선의 노력을 경주하고 있다. 영흥화력 1,2호기 습식배연탈황설비는 800MW 2호기로 구성되어 있으며 용량 및 시스템 배열 면에 있어서 기존의 설비들과는 상이하므로 시스템 성능 예측 및 평가와 그에 파생되는 설계개선을 위한 새로운 접근방법이 필요하다. (중략)

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P & I 2010 리뷰 - 사진인들의 축제, '2010 서울국제사진영상기자재전' 지상중계 - "최첨단 디지털 이미징 기술이 빚어낸 신제품 열전"

  • 박지연
    • 광학세계
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    • 통권128호
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    • pp.54-61
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    • 2010
  • 아시아 최고의 사진영상분야 전시회로 손꼽히는 '2010 서울국제사진영상기자재전' (이하 P&I 2010)이 지난 4월 29일부터 5월 2일까지 나흘간 서울 코엑스 본관 1층 A홀에서 성황리에 펼쳐졌다. 올해로 19회째를 맞이한 이 전시회에는 삼성을 비롯한 캐논, 니콘, 소니, 올림푸스, 파나소닉 등 디지털 카메라 제조사와 관련 주변기기 및 액세서리 업체 등 총 112개 업체가 참가하여 527부스 규모로 전년대비 28%나 증가한 역대 최대 규모로 치러졌다. 특히 올해 전시회의 화두는 최첨단 디지털이미징 기술을 바탕으로 한 '하이브리드 디지털 카메라'로 사진인들로부터 뜨거운 관심을 받았다. 또한 새로운 기능의 출력장비를 비롯하여 다양한 사진 소프트웨어, 사진 액세서리, 사진 스튜디오 관련 장비 등을 한 자리에서 봄으로써 최신 기술동항의 흐름을 파악할 수 있는 좋은 기회가 되었다. 올해 전시기간동안 6만7052명의 참관객들이 발걸음을 해 사진영상분야에 대한 소비자들의 뜨거운 관심도를 확인할 수 있었다.

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u-City에서 RFID를 이용 교통신호제어에 관한 연구 (An approach for Traffic Signal Control using RFID in the u-City)

  • 서강도;조진호
    • 대한전자공학회논문지TC
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    • 제45권2호
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    • pp.26-36
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    • 2008
  • 현재 우리나라에는 최첨단의 정보통신 서비스를 제공을 목적으로 ubiquitous city(u-City)가 건설 중에 있다. 이들 도시에서 ITS(Intelligent Transportation Systems)는 도시거주민들에게 적절한 교통정보를 제공하는 동시에 최적으로 도시교통을 제어하는 방안이다. ITS의 한 부분으로서 교통흐름에 적합한 교통신호제어가 필요하며 이를 위해 많은 교통정보를 실시간으로 수집하여야 한다. 이러한 교통정보의 수집은 도시운영을 위하여 최첨단 정보통신 서비스가 제공되는 u-City에서는 어렵지 않을 것이다. 이러한 미래지향적인u-City의 ITS 교통제어에 적합한 새로운 시스템에 대하여 이 논문에서는 연구하였다.