• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
• /
• 2002.11a
• /
• pp.354-357
• /
• 2002

박막과 후막을 구분하고 현재에는 막의 형성 구분에 따라 박막에는 진공증착 후막에는 Screen Printing, Dipping, Brashing, Rolling으로 구분한다. 기술에는 여러 가져가 있는데, 금속 분말 제조기술, 유리분말제조기술, 유기바인더제조기술, 첨가제배합기술, 전자측정기술, 분체제어기술이 있다. 본 연구의 목표는 용도에 알맞은 최적화된 새로운 제조기술을 제시하고자 한다.

• ETRI Journal
• /
• v.7 no.4
• /
• pp.52-58
• /
• 1985

본 연구에서는 제조업체의 기술 수준을 평가하는 방법을 제시하였다. 기업의 기술수준은 기업이 소유한 제품 및 제조기술 자체뿐만 아니라 기술개발 능력을 나타내는 기술개발 체제 및 기술에 따른 경제적 성과를 나타내는 재무분석에 의해서도 평가되어야 한다. 본 연구에서는 이러한 항목들을 고려하여 평가 모형을 개발하였으며 이 모형을 커넥터 제조업체의 기술수준 평가에 적용하였다.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
• /
• 2012.05a
• /
• pp.140-140
• /
• 2012

박막제조 기술은 과학 기술의 기초가 되는 분야로 양질의 박막을 제조하기 위한 다양한 노력이 경주되고 있다. 박막제조는 표면개질과 함께 표면처리 기술의 한 분야이며 이중 진공증착으로 알려진 물리증착법과 화학증착법은 현대의 과학기술 연구는 물론 산업적으로 폭넓게 이용되는 박막제조 기술 중의 하나이다. 진공증착을 이용한 박막제조 기술은 나노 기술의 등장과 함께 비약적인 발전을 이루었으며 자연모사와 완전화 박막의 제조, 융복합 공정을 이용한 기능성 코팅과 Engineered Structure 구현 그리고 초고속 증착과 원가 저감 기술의 실현이 주요 이슈로 등장하고 있다. 본 논문에서는 물리증착법과 화학증착법을 중심으로 박막제조 기술의 종류와 원리를 설명하고 박막제조 기술의 최신 동향과 기술적 이슈 및 향후 전망에 대해 기술한다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 2010.08a
• /
• pp.23-23
• /
• 2010

CIGS 박막태양전지는 박막태양전지 기술 중 가장 주목을 받고 있는 기술에 해당한다. 그 이유는 박막태양전지 기술 중 즉, CdTe, a-Si, CIGS 중 가장 셀 효율이 높게 구현되고 있으며, 특히 다양한 제조공정이 가능하기 때문이다. 현재 CIGS 박막태양전지 양산에 적용되고 있는 제조기술은 동시증발법과 스퍼터/셀렌화 공정이다. 동시증발법의 경우, CIGS 태양전지의 세계최고효율을 구현한 기술로서 다른 모든 제조기술의 기준이 되는 공정이나, 실제로는 스퍼터/셀렌화 공정을 이용한 양산 규모가 훨씬 크게 전개되고 있다. 본 논문에서는 동시증발법이 최고효율을 구사한 물질 및 공정 스펙에 대해 살펴보고, 스퍼터/셀렌화 공정에서 동시증발법에 의해 제조된 소자 스펙을 구현하기 위해 어떠한 노력을 기울여야 하는 지에 대해 기술하고자 한다. 먼저, 동시증발법이 적용된 양산기술 현황에 대해 살펴보고, 여러가지 스펙 중에서 Na 제어기술, 버퍼층 기술, 투명전극 측면에서 소자성능의 최적화를 논하고자 한다. Na의 경우, 널리 알려진 바와 같이 CIGS 내 0.1at% 정도의 함유량이 필요하다. 동시증발법과는 다른 공정온도와 이력이 사용되는 스퍼터/셀렌화의 경우, Na 함량의 제어를 위해 어떠한 노력이 필요한지 Na의 역할 측면에서 논하고자 한다. CBD 공정으로 제조되고 있는 CdS는 얇은 두께와 단순한 공정으로 인해 다소 소홀하기 쉬우나, CdS/CIGS 접합이 소자의 성능에 미치는 영향이 매우 크기 때문에 CIGS 표면 물성 제어 측면에서 CdS 제조공정을 살펴보고자 한다. 마지막으로 투명전극은 CIGS 제조공정과는 무관하게 공통으로 검토가 필요한 분야이나, 동시 증발법에 의한 CIGS 표면형상이 스퍼터/셀렌화에 의한 CIGS와는 크게 다르므로 후속 투명전극공정 또한 세부적인 검토가 필요하다고 판단되는 바, 투명전극이 갖춰야하는 물성을 중심으로 소자최적화를 논하고자 한다.

• Air Cleaning Technology
• /
• v.26 no.4
• /
• pp.1-7
• /
• 2013

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
• /
• 2003.11a
• /
• pp.50-50
• /
• 2003

용사 공정은 소재의 표면 특성을 개질하기 위한 가장 효과적인 공정의 하나로서, 최근 항공기용 엔진 부품을 포함하여 자동차, 및 각종 산업 분야에 폭 넓게 사용되고 있으나, 산업 환경의 고도화로 용사 코팅층의 다양한 분야에서의 고특성화가 요구되고 있다. 소재의 나노화는 이러 한 소재의 고 특성화 요구에 부응할 수 있는 새로운 기술로서, 현재 많은 분야에서 응용이 진행되고 있다. 특히 최근에는 나노기술을 용사 공정에 응용하기 위한 시도가 진행되고 있으나, 나노 분말 제조 기술이 아직 확립되어 있지 않고, 또한 나노 분말을 용사 공정에 응용하기 위한 기술의 부족으로 나노 용사공정에의 적용은 제한을 받고 있다. 이를 위해서는 나노분말 제조 기술의 개발이 이루어져야하고, 나노 분말 제조 기술과 용사 분말 제조 기술 그리고 용사 기술의 접목이 이루어 져야하는 어려움이 있다. 본 연구에서는 나노 용사용 분말을 제조하기 위 한 원료용 나노 분말을 화학적 공정에 의하여 제조 한 후, 이 분말의 유동도 및 밀도 제어를 위한 후 처리 공정을 개발하였다. 제조된 분말의 입자 크기는 약 150nm였으며, 용사 분말 제조후 분말의 겉보기 겉보기 밀도가 3.8g/cc로서 일반 용사용 분말에 비하여 우수하였다.

• ETRI Journal
• /
• v.9 no.1
• /
• pp.146-157
• /
• 1987

SOI(Silicon-On-Insulator)는 차세대 VLSI 구조로서 최근 중요한 연구개발 대상이 되고 있다. SOI의 제조기술을 크게 recrystallization, ELO, FIPOS 및 SIMOX로 나누고 이들 각 기술에 대한 고찰을 하였다. 향후 전반적인 SOI 제조기술 개발방향은 SOI면적 확장 및 결함 감소를 위한 것이 될 것이다.

• Journal of the KSME
• /
• v.56 no.7
• /
• pp.32-35
• /
• 2016

이 글에서는 제조기술의 발전과 패러다임의 변화에 따른 하이브리드 제조기술의 중요성을 알아보기 위해 그 정의와 공정 예를 살펴본다. 특히 하이브리드 제조기술을 위한 필요 연구 항목을 제시하고 앞으로의 발전 방향에 대하여 알아본다.

• CDE review
• /
• v.9 no.2
• /
• pp.28-37
• /
• 2003

가상제조(VM)기술은 21세기 변화된 기업환경에서 제조경쟁력 강화를 위한 핵심기술 중에 하나로써, 형상 모델링과 시스템 이론으로 포함하여 다양한 분야로 이루어진 복합기술이다. VM 기술은 e-manufacturing의 한 분야로써 CAD/CAM 기술 발전과 궤를 같이하는데 그 적용 대상이나 방법에 따라서 digital manufacturing, virtual manufacturing, e-factory 등 다양한 이름으로 불리고 있다. 본 논문에서는 VM 기술의 개념을 정리하고, 가상제조의 국내 적용현황 및 향후 발전전망에 대하여 고찰하고자 한다.

• Air Cleaning Technology
• /
• v.26 no.4
• /
• pp.26-38
• /
• 2013