ETRI Journal

Electronics and Telecommunications Research Institute (한국전자통신연구원)
권호 표지

SOI 제조기술 동향

  • 마대영 (기억소자개발사업본부 사업관리실) ;
  • 김진섭 (기억소자개발사업본부 사업관리실) ;
  • 곽병화 (기억소자개발사업본부 사업관리실)
  • Published : 1987.03.01
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Abstract

SOI(Silicon-On-Insulator)는 차세대 VLSI 구조로서 최근 중요한 연구개발 대상이 되고 있다. SOI의 제조기술을 크게 recrystallization, ELO, FIPOS 및 SIMOX로 나누고 이들 각 기술에 대한 고찰을 하였다. 향후 전반적인 SOI 제조기술 개발방향은 SOI면적 확장 및 결함 감소를 위한 것이 될 것이다.

Keywords