1) 가능(可能)한한 조직(組織)이 변형(變形)되지 않아야 한다. 2) Atmospheric pressure를 이용(利用)하기 위(爲)하여 peripheral border 에 있어서의 조직변형(組織變形)이 필요(必要)한 경과(境過)는 그 정도(程度)가 eiastic force가 retentive force 보다 크지 않도록 최소한(最小限)으로 해야 한다. 3) Denture base와 조직(組織)의 원형간(原形間)에는 접촉(接觸)이 밀접(密接)해야 한다. 그래야 saliva의 film 균일(均一)하고 얇게 될 수 있다. 4) Atmospheric pressure는 denture의 retention과 중요(重要)한 연관성이 있으므로 physiologic seal area를 형성(形成)해 주는 것이 유리(有利)하다. 5) Ridge의 형태(形態)도 denture의 retention 대(對)한 하나의 중요(重要)한 인자(因子)이다. 6) Denture에 의(依)해서 피개(被蓋)되는 면적(面積)은 retention에 관계(關係)되는 한 인자(因子)로써 피개면적(被蓋面積)이 클수록 유지력(維持力)이 커진다. 7) Saliva의 viscosity도 retention의 한 인자(因子)가 된다. 8) Friction은 retention의 한 인자(因子)가 될수는 있으나 병인적(病因的)인 증상(症狀)을 유발(誘發)할수 있으므로 이용(利用)해서는 않된다.
본 연구는 반도체 기판 히팅 장치의 새로운 구조에 관한 것으로 기판의 바닥면에 밀착된 가열 플레이트층의 직접가열 구조에 따른 빠른 열 응답성 및 열손실 최소화를 이룰 수 있다. 또한 가열 플레이트층에 내장된 히팅 수단인 시즈히터의 접촉면적을 늘려 가열 유효면적 증가와 같은 효과를 갖는다. 이를 위해 감광막이 코팅된 기판과, 상기 기판의 바닥면에 밀착되는 가열 플레이트층, 절연 및 열손실을 최소화하기 위해 상기 가열 플레이트층의 바닥면에 밀착되는 운모층, 상기 운모층의 하부에 밀착되어 바닥 플레이트층으로 이루어지되, 상기 가열 플레이트 층은 바닥면 전체에 걸쳐 연속되는 홈부를 형성하고, 상기 홈부로는 기판을 가열하기 위한 시즈히터가 삽입되어 구성된다. 새로운 기판 히팅 구조를 사용하여 시간 경과에 따른 가열 플레이트의 온도 변화를 확인 한 결과, 간접가열방식인 기존 방식에 비해 약 40 %의 전력 절감효과가 있는 것으로 확인 되었다.
메탄의 수증기-이산화탄소 복합개질반응에서 니켈 촉매의 탄소 침적 저항성에대한 Ce 증진 효과를 살펴보기 위해, Ni-Ce/${\alpha}-Al_2O_3$ 촉매를 제조하였다. Ce/Ni 비율 변화에 따른 촉매 비표면적, Ni 입자 분산도 및 촉매 활성 변화를 살펴보았고, Ce 첨가량을 최적화 할 수 있었다. Ce/Ni 비율 증가에 따라 NiO 결정크기가 감소하고 표면적과 Ni 분산도는 증가하였다. 특히, Ce/Ni=0.5 첨가 시, 촉매는 가장 넓은 비표면적과 Ni 분산도를 가졌으며, 우수한 촉매 활성 및 높은 탄소 침적 저항성을 보였다. 또한, 본 연구에서는 Ni과 Ce 담지 방법에 따른 Ni 분산도 향상과 Ni과 Ce간의 접촉 면적 극대화를 통한 활성산소 공급 향상에 대한 영향을 함께 살펴보았다. Ni과 Ce를 동시 함침법과 연속 함침법으로 담지하여 비교한 결과, 동시 함침법으로 제조한 Ni-Ce/${\alpha}-Al_2O_3$ (Ce/Ni=0.5) 촉매가 가장 우수한 촉매 성능 및 높은 탄소 침적 저항성을 보였다. 이는 동시 함침법으로 고분산된 Ni 입자와 담체간의 강한 상호작용 형성과 원활한 활성 산소 공급에 기인한 것이다.
본 논문에서는 contact mechanism을 고려한 선형 초음파 모터에 대한 특성 해석방법을 제안하였다. 이 방법은 수치적 방법과 해석적 방법을 결합하여 시간에 따른 접촉면적과 표면의 운동속도의 변화를 반영하였다. 제안된 해석방법은 시뮬레이션 결과와 실험결과를 비교함으로써 검증되었다.
In this paper we realized non-contact sheet resistance measurement system using eddy current. Proposed system is designed to meet the requirements which is necessary when dealing with conducting thin films on large area LCD panel. With several metals we could get lift-off curves which has the same trend as in principal. Especially in the region of high conductivity this system has more discriminating ability than 4-point probe system.
An ideal semiconductor memory technology would combine or unify the attractive features of these technologies without acquiring any of the unattractive features. Such a memory technology, Phase Change RAM is now being developed using the class of elements known as chalcogenides. It is expected that this technology will eventually allow chips that have SRAM speed, DRAM cost, and Flash power characteristics and non-volatility.
우리나라의 경우, 국토 면적은 제한되어 있고 특히 밀집한 도심지 인근 공사 시에 사면 경사를 결정하는 것은 쉬운 일이 아니다. 또한 주어진 조건 내(부지의 부족, 환경고려 등)에서 이미 결정되어진 사면경사를 어떻게 유지하느냐 하는 것이 사면에 종사하는 기술자들의 임무인 것이다. 지금까지의 사면분화에 대한 접근 이론들이 너무 고전적인 방법에 치우쳐 있는 경향이 없지 않았다. 또한 기술자들의 보수주의적 경향으로 새로운 이론의 접촉을 멀리한 것도 부인할 수 없다.(중략)
본 연구에서는 다중선회연소기의 원리에 기초하여 속도차가 있는 두 공기류의 전단층에 기체연료를 분출하여 연소시키면 연료가 두 공기류 사이에 유입되므로 연료 가 산화제의 접촉면적이 증대되고 또한 난류혼합속도가 큰 영역으로 연료가 유입되므 로 혼합효과가 증대되어 고부하연소에 적절한 방식이 될 것으로 생각하여 동축이중공 기분류중의 난류 확산화염에 대해 그 화염구조를 밝히고 이 화염을 실용연소기에 응용 하기 위한 기초자료를 얻는데 목적이 있다.
임플란트로 널리 사용되고 있는 타이타늄 금속 표면을 처리하여 골융합 접촉 면적을 증가시키기 위한 다양한 방법들이 사용되고 있다. 본 연구에서는 마이크로 단위의 거칠기가 형성된 표면에 나노패턴화된 나노 거칠기를 전기화학적으로 형성시키는 방식(ENF: Electrochemical Nanopattern Formation)을 소개한다. SLA 표면처리 된 임플란트 표면에 100nm 수준의 나노패턴화된 그릿을 기존의 마이크로 그릿의 손상 없이 고르게 형성시켜 표면적을 극대화 할 수 있다. 이를 임플란트의 새로운 표면처리기술로 응용하기 위하여 기존의 표면처리기술과 비교분석하였다.
생활양식의 변화와 정밀산업의 발달로 고체 덩어리나 입자를 분쇄하여 분체의 형태로 사용, 취급, 저장하는 빈도가 증가하고 있으며, 이들 중 분체가 가연성인 경우에는 공기 또는 산소와의 접촉면적이 커서 비교적 쉽게 착화할 뿐 아니라 급격한 연소를 일으켜 화재·폭발의 위험성이 항상 존재하고 있다고 할 수 있다. 이와 같은 위험성을 가지는 가연성 분진에는 소맥분, 전분, 사탕 등의 식료품을 비롯하여 가축용 사료분진, 각종금속, 플라스틱 및 화학제품 등의 가공용 분진, 약품, 연료로 사용되는 석탄 뿐 아니라 섬유부스러기, 연마시의 분진 등을 들 수 있다. 특히 최근에는 신소재로서의 기능성 물질과 전자재료의 개발이 활발하게 진행되어 이 분야에서 분체를 취급하는 공정도 증가하고 있는 실정이다.(중략)
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[게시일 2004년 10월 1일]
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