1998년 12월부터 1999년 5월까지 총 10일간 소백산천문대의 61cm 망원경과 PM512 CCD 카메라를 이용하여 W UMa형 접촉 식쌍성 AM Cnc의 CCD 측광관측을 수행하여 BVI 광도곡선을 완성하였다. 새로운 광도곡선으로부터 주극심시각 2점, 부극심시각 3점을 얻었다. 이 관측치를 포함하여 AH Cnc의 관측된 모든 극심시각을 수집하여 분석한 결과, 영년 주기 증가를 보이고, 변화 원인을 질량이 큰 별에서 질량이 작은 별로의 보존적 질량이동에 의한 것으로 해석하였다. 영년주기 증가율은 3.18$\times$$10^{-7}$ day/year이다. 새로운 BVI 광도곡선을 WD 쌍성 모델의 접촉모드(Mode 3)로 분석하여 측광해를 산출하였고, 측광해의 결과는 질량비 0.159, 궤도경사각 86$^{\circ}$, 접촉도(fill-out factor) 49%등으로 계산되었다. 측광해를 Sandquist & Shetrone(2003)의 연구결과와 비교하면 질량비와 궤도경사각은 거의 같고, 접촉도는 약간 작은 값이다. 작은 값이다.
완전비접촉부상, 비접촉구동을 실현하는 크린룸용 자기부상반송시스템을 소개하였다. 이 시스템은 스테이션과 각 프로세스장치 사이의 loading/unloading에는 인간이 개입하지만, 스테이션과 각 프로세스장치를 직접 접속하고 loading/unloading도 자도화하면 무인의 완전 무진자동반송시스템을 실현할 수 있을 것이다. (이와같은 문제점을 개선시킨 시스템을 Sumitomo가 개발하여 발효하였고 이에 대해서는 참고문헌를 참고하기를 바란다).
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1999.07a
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pp.215-215
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1999
상용의 PS가 가지는 소수 특성을 아르곤, 수소, 산소 이온을 이온 보조 반응법을 이용하여 PS의 표면에 조사하여 PS의 표면을 친수성을 증대시켰으며 이때의 친수성의 변화는 각 이온의 비율과 전류의 세기 및 전압의 변화에 따라 측정하였다. 이온 소스는 직경 5cm의 cold hollow cathod ion gun을 이용하였으며 이온 조사량은 5$\times$1014 ~ 1$\times$1017까지 변화시키고 산소의 유량은 0~6sccm까지 변화시키고 수소의 유량 또한 0~6sccm 까지 변화시키면서 극성 용매인 물과의 접촉각을 정적 접촉각 측정기를 이용하여 측정하였다. 또한 일정 조건에서 이온의 조사 후 대기와 물속에서 시간에 따른 물의 접촉각의 변화를 측정하였다. 표면에 형성된 극성 그룹을 조사하기 위하여 XPS를 측정하였다. XPS 측정결과 표면에 C-O, C=O, (C=O)-O와 같은 극성 작용기가 형성되었음을 확인하였으나 PS 표면에 생성된 정확한 작용기를 구분하기 어려웠다. 따라서 좀더 세밀한 조사를 위하여 FT-IR을 이용하여 이온 조사 조건에 따른 PS 표면의 분자단의 Peak 변화를 관찰하였다.
여러 가닥의 병렬선재에 전류가 흐를 때 각 가닥에 흐르는 전류가 균일한지 알아보기 위해 각 선재의 흐르는 전류를 측정하는 방법으로 홀센서를 이용한 비 접촉식 측정 방법이 있다. 홀센서를 이용하여 전류를 측정하기 위해 4가닥의 병렬선재를 구성하고 일정한 위치에서 자장을 측정하기 위해 센서 홀더를 제작 하였다. 선재에 전류를 흘려주어 발생되는 자장을 홀센서로 측정하였고, 측정된 자장 값을 통해 행렬식을 만들었다. 완성된 행렬식을 이용하여 각 선재에 흐르는 전류 값을 계산하고, 실제 각 선재에 흐르는 전류 측정값과 비교하여 병렬선재에서의 전류분류의 비접촉 측정의 가능성을 살펴본다.
Lee, Hyo-Song;Kim, Jin-Yong;Kim, Jeong-Soo;Rhee, Young Woo
Korean Chemical Engineering Research
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v.43
no.1
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pp.92-97
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2005
In this study, the effect of contact angles of PDMS and external voltage has been investigated. SU-8 (Microchem, USA) negative photoresist and PDMS are used to make the microchannel. The contact angle of the native PDMS is $105^{\circ}$. The native PDMS is treated with the oxygen plasma and the contact angle changes $19^{\circ}$, $46^{\circ}$ and $69^{\circ}$. As a result, the rate of increase in flow velocity is not directly proportional to the rate of increase of external voltage. This is because the electrical double layer is condensed and the zeta potential is increased with an increase of the external voltage. The flow velocity is highest for the contact angle of $19^{\circ}$ at the same external voltage. Hence we conclude that the thickness of electrical double layer and flow velocities vary with contact angle at the same external voltage.
This study evaluated the properties of polyvinylsiloxane impression materials: Strain-in-compression, Elastic recovery, Consistency, and Wettability. Four polyvinylsiloxane impression materials(Examixfine, GC, Japan; Aquasilultra, Dentsply, USA; Extrude, Kerr, USA; Perfect-F, Handae, Korea) were used in this study. The measured data were analyzed with SPSSWIN 12.0 program. The results were as follows : 1. The strain-in-compression values showed that Extrude had the lowest value, 4.86% and Examixfine had the highest value, 6.78%. Significant difference between Examixfine and Perfect-F was not found but the other groups had significant differences(p = 0.000). 2. In the elastic recovery test, Extrude had the highest, 99.83% and Perfect-F had the lowest, 96.54%. There is no significant difference between Examixfine and Aquasilultra. The other impression material groups showed significant differences(p = 0.000). 3. The measurement of consistency results that the diameter of Examixfine was the largest, 45.12mm and one of Perfect-F was the smallest, 40.28 mm. No differences were shown between Examixfine and Aquasilultra and between Extrude and Perfect-F(p = 0.001). 4. Aquasilultra had a better hydrophilicity($47.85^{\circ}$) than other materials. Perfect-F had a larger contact angle($94.89^{\circ}$) and was hydrophobic. There were significant differences between groups(p = 0.000). 5. As for correlation among the test types, contact angle correlated with strain-in-compression, elstic recovery and consistency. The strain-in-compression had correlation to contact angle and elastic recovery. The elastic recovery correlated with contact angle and strain-in-compression. And the consistency had correlation to contact angle.
To improve surface wettability, each sample was treated by atmospheric pressure plasma (APP) using dielectric barrier discharge (DBD) system. Argon and oxygen gases were used for treatment gas to modify the $TiO_2$ surface by APP with RF power range from 50 to 200 W. Water contact angle was decreased from $20^{\circ}$ to $10^{\circ}$ with argon only. However, water contact angle was decreased from $20^{\circ}$ to < $1^{\circ}$ with mixture of argon and oxygen. Water contact angle with $O_2$ plasma was lower than water contact angle with Ar plasma at the same RF power. It seems to be increasing the polar force of $TiO_2$ surface. Also, analysis result of X-ray photoelectron spectra (XPS) shows the increase of intensity of O1s shoulder peak, resulting in increasing of surface wettability by APP. Moreover, each water contact angle increased according to increase past time. However, contact angle increase with plasma treatment was lower than without plasma treatment. Additionally, the efficiency of $TiO_2$ photocatalyst was improved by plasma surface-treatment through the degradation experiment of phenol.
Journal of the korean academy of Pediatric Dentistry
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v.31
no.4
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pp.547-554
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2004
The surface characteristics of restoration such as surface roughness and droplet contact angle are important part for the process of bacterial adhesion. The purpose of this study is to compare plaque adhesion by measuring roughness, droplet contact angle, and amount of accumulated plaque on the surfaces of composite resins. Four kinds of composite resins, Z-100(Z1), Durafil(DF), Filtek supreme(FS), Clearfil AP X(CA) were used. Ten samples were divided into unpolished and polished group. Surface roughnesses and droplet contact angles were measured by profilometer and goniometer. Plaque weight gains are measured. The results were as follows: 1. The experimental group were rougher than the control group. Surface roughnesses were decreased in the following order; (Z1, DF, CA)>FS in the control group, and CA>Z1>(FS, DF) in the experimental group(P<0.05). 2 The control group showed larger contact angle than the experimental group. Contact angles were decreased in the following order; CA>(FS, DF, Z1) in the control group, and (CA, DF)>(FS, Z1) in the experimental group(P<0.05). 3. The experimental group showed more much plaque than the control group. The amounts of plaque accumulation in vitro were decreased in the following order; Z1>(DF, FS)>CA in the control group, and Z1>FS>(CA, DF) in the experimental group. The latter showed more much plaque than the former(P<0.05). 4. There were stronger correlation between plaque deposition and contact angle (P<0.05) than that of plaque deposition and surface roughness.
Proceedings of the International Microelectronics And Packaging Society Conference
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2003.11a
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pp.181-184
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2003
Low Energy High flux Plasma Source인 Stationary Plasma thruster (SPT)를 이용하여 폴리이미드의 표면개질 후 접촉각과 표면에너지의 변화를 조사하고 접착력과의 관계를 조사하였다. 이온에너지는 180 eV - 200 eV, 이온전류 밀도는 수백 ${\mu}A/cm^2$, 이온선량은 $5\times10^{15}/cm^2$부터, $10\times^{18}/cm^2$로 $Ar^+,\;N_2^+,\;O_2^+$를 이온 주입시켰다. 표면 처리된 폴리이미드에 대한 접촉각 변화는 dual contact anglemeter로 증류수와 에틸렌글리콜을 이용하여 측정하였고, 표면에너지의 변화량을 구하였다. 접촉각의 변화는 아르곤 이온의 경우는 최저 $35^{\circ}$, 질소와 산소의 경우 $1\times10^{17}/cm^2$에서 각각 $14^{\circ},\;10^{\circ}$정도의 전촉각을 보였으며, $5\times10^{17}/cm^2$이상에서는 측정하기 불가능하였다. 산소 이온빔으로 처리된 PI의 표면을 x-ray photoelectron spectroscopy를 통하여 측정하여본 결과, 친수성기가 많이 형성되었음을 확인할 수 있었다. 접촉각 측정으르부터 PI의 표변에너지는 42.1 mN/m에서 아르곤 이온빔의 처리 시 65.2 mN/m로 산소 이온빔의 처리 시 81.2 mN/m로 각각 1.5배, 1.9배 정도 증대하였다. 산소 이온빔으로 처리된 PI 표면위에 스퍼터링으로 300 nm 정도의 clad layer 형성 후 $20{\mu}m$ 정도의 구리 전기 도금막을 형성하여, peel 강도를 측정한 결과 0.79 kg/cm의 강도를 얻을 수 있었다.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2012.05a
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pp.80.1-80.1
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2012
표면에너지 (surface free energy, SFE)는 클래팅, 페인팅, 접합 기술에서 매우 중요한 요인이다. 그 이유는 표면에너지가 복합재료에서 결합특성의 척도이기 때문이다. 비록, 고체에서 표면에너지는 test inks의 의미로 간주될 수 있지만, 그것은 표면에너지의 정확한 측정을 위한 편리한 방법이 아니다. 우리는 기판의 표면에너지를 평평한 고체기판에 액체를 떨어뜨려 생긴 접촉각을 사용하여 측정하였고, 고체 기판에서 표면에너지의 플라즈마 표면처리의 영향에 대해 조사하였다. 증류수와 디오도메탄을 접촉각 측정 용액으로 사용하였고, Soda-lime glass와 Si wafer에서 신뢰성 있는 표면에너지 값을 얻을 수 있었다. 플라즈마 표면처리를 12초간 진행하였을 때 glass와 Si wafer에서 최대의 표면에너지 값인 74 $mJ/m^2$을 얻을 수 있었고 플라즈마 표면처리가 표면에너지에 미치는 영향은 두 기판 모두에서 약 300분 가량 지속되었다. 12초 이상의 플라즈마 표면처리를 통해 증가된 표면에너지는 스퍼터를 통해 증착한 크롬 박막과 기판 사이의 본딩력을 강하게 하였다. 실험의 신뢰성을 위해 기판에 미세 박막을 증착하여 박막의 핵이 생성될 때의 접촉각을 플라즈마 표면처리 전후와 비교하였다. 이 결과로부터 플라즈마 표면처리는 재료의 코팅과 페인팅 공정에서 재현성을 부여해주는 매우 효율적이고 중요한 방법이라 결론지을 수 있다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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