• Title/Summary/Keyword: 전자빔 공정

Search Result 169, Processing Time 0.03 seconds

Statistical Characteristics of Diazinon Degradation using E-beam (전자빔을 이용한 통계적 Diazinon 분해특성 연구)

  • Lee, Sijin
    • Journal of the Korean GEO-environmental Society
    • /
    • v.14 no.5
    • /
    • pp.57-63
    • /
    • 2013
  • In this study, the characteristics of degradation and mineralization of diazinon using a statistical approach based on Box-Behnken design (BBD, one of response surface method) was investigated in an E-beam process, and also the main factors with diazinon concentration ($X_1$), irradiatin intensity ($X_2$) and pH ($X_3$) which consisted of 3 levels in each factor was set up to determine the effects of factors and optimization. At first, effects of pH and diazinon concentration were investigated to determine the proper range of application on response surface method(RSM). In statistical approach, the regression analysis and analysis of variance (ANOVA) were applied to evaluate the quantitative comparison of each factors in order to obtain the effects were irradiation intensity>diazinon concentration>pH. The regression model predicted the optimization point using the response optimizer to consider the effects of operation conditions were $Y_1=81.73-5.58X_1+23.69X_2-14.23X{_2}^2+4.22X{_3}^2(R^2=99.7%)$, $Y_2=35.23-3.01X_1+10.79X_2-7.58X_2{^2}(R^2=97.9%)$ and 95.7% of diazinon degradation, 41.8% of TOC reduction at 12.75mg/L and 4.26kGy, respectively. The pH condition was not significantly affects on E-beam process than other advanced oxidation processes (AOPs).

MeV 전자빔 조사를 통한 Pt/Graphene 복합 나노구조의 형성

  • Cha, Myeong-Jun;Song, U-Seok;Kim, Yu-Seok;Jeong, Dae-Seong;Kim, Seong-Hwan;Lee, Su-Il;Park, Jong-Yun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
    • /
    • 2012.02a
    • /
    • pp.570-570
    • /
    • 2012
  • 그래핀(graphene)은 육각형의 탄소원자 한층으로 이루어진 이차원 구조체로써 우수한 물리적, 전기적 특성으로 인해 다양한 분야에서 응요을 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 특히, 그래핀과 금속 나노입자의 복합구조는 수소 저장체, 가스센서, 연료전지, 화학 촉매등의 다양한 분야에서 응용이 가능하다. 현재까지 그래핀/금속나노입자 복합구조의 제작 방법에는 열증발(thermal evaporation), 전기도금법(electrodeposition), 표면 기능화(surface functionalization)를 이용한 방법이 보고되었다. 하지만 이러한 방법은 긴 공정시간이 요구되며, 나노입자의 크기 분포가 넓다는 단점을 지닌다. 본 연구에서는 화학기상증착법을 통해 합성된 그래핀이 전사된 SiO2 (300nm)/Si 기판에 염화기가 포함된 백금 화합물 분산용액을 스핀코팅(spin-coating)하고 MeV 전자빔을 조사하여 Pt/grapheme 복합구조를 형성하였다. 이 방법은 균일한 크기 분포의 나노입자의 형성이 가능하며, 간단하고, 대면적 공정이 가능하며, 다른 방법에 비해 그래핀의 결함형성이 적다는 장점을 지닌다. Pt/grapheme 의 기하학적 구조를 주사전자현미경(scanning electron microscopy)와 투과전자현미경(transimission)을 통해 분석하였고, Pt와 graphene의 일함수(workfunction)의 차이에 의해 야기되는 전하이동에 의한 도핑(doping)현상을 라만 분광기(Raman spectroscopy)와 X-선 광전자 분광기(X-ray photoelectron spectroscopy)를 통해 분석하였다.

  • PDF

The Effects of Processing Parameters of Plasma Characteristics by Induced Coupled Plasma Source (유도결합 플라즈마(ICP) source로 생성된 plasma 특성의 공정 변수 영향)

  • Lee, S.W.;Kim, H.;Lim, J.Y.;Ahn, Y.Y.;Whoang, I.W.;Kim, J.H.;Ji, J.Y.;Choi, J.Y.;Lee, Y.J.;Ha, S.H.
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
    • /
    • 2006.11a
    • /
    • pp.328-329
    • /
    • 2006
  • 반도체 소자의 소형화, 고질적화는 junction 깊이 감소와 도핑농도의 증가를 요구한다. 현재 상용화되는 도핑법은 이온빔 주입(Ion Beam Ion Implantation, IBII)인데, 이 방법은 낮은 가속에너지를 가하는 경우 이온빔의 정류가 금속이 감소해 주입 속도가 낮아져 대랑 생산이 어렵고 장비가 고가라는 단점이 있다. 하지만 플라즈마를 이용한 이온주입법 (Plasma Source Ion Implantation, PSII)은 공정 속도가 빠르고 제조비용이 매우 저렴해 새로운 이온주입법으로 주목받고 있다. PSII법에서 플라즈마 특성은 그 결과에 큰 영향을 미치므로 플라즈마 특성의 적절한 제어가 필수적으로 요구된다. 본 연구에서는 공정압력과 RF power를 변화시키며 플라즈마 밀도 측정했다. 그 결과 공정압력이 증가함에 따라서 플라즈마 밀도는 감소되었고 RF power 증가함에 따라서 플라즈마 밀도는 증가되었다.

  • PDF

printing 방식을 이용한 은 나노 잉크 직접 패터닝 기술

  • O, Sang-Cheol;Yang, Gi-Yeon;Han, Gang-Su;Lee, Heon
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
    • /
    • 2010.06a
    • /
    • pp.63-63
    • /
    • 2010
  • 나노 구조를 제작은 나노 기술을 기반으로 하는 electronics, optoelectronics, sensing, ultra display등의 여러 분야에서 이용되고 있다. 특히 나노 구조를 갖는 금속 패터닝의 경우 전자빔 리소 그래피 (electron beam lithography)나 레이저 패터닝(laser patterning)과 같은 방법들이 많이 사용되고 있다. 하지만 공정이 복잡하고 그로 인해 공정 비용이 많이 든다는 단점이 있었다. 나노 임프린트 리소그래피 기술은 master mold 표면의 나노 패턴을 가열, 가압 공정을 통해 기판 위의 고분자 레지스트 층으로 전사하는 기술이다. 이 기술은 간단한 공정을 통해 나노 패턴을 형성할 수 있는 기술이기 때용에 차세대 나노 패터닝 기술로써 각광받고 있다. 특히 이 기술은 레지스트 층과의 직접적인 접촉을 통해 나노 패턴을 형성하기 때문에 다양한 방법을 통해 기능성 나노 패턴을 직접적으로 형성할 수 있는 가능성을 지니고 있다. 본 연구는 novel meta1의 하나인 Ag 입자가 첨가된 ink solution를 master mold로부터 복제한 PDMS mold를 이용하여 다양한 구조의 나노 패턴을 만드는 방법에 대한 연구이다.

  • PDF

The Study of Statistical Optimization of 1,4-dioxane Treatment Using E-beam Process (전자빔 공정을 이용한 1,4-Dioxane 처리의 통계적 최적화 연구)

  • Hwang, Haeyoung;Chang, Soonwoong
    • Journal of the Korean GEO-environmental Society
    • /
    • v.12 no.4
    • /
    • pp.25-31
    • /
    • 2011
  • In this study, the experimental design methodology was applied to optimize 1,4-dioxane treatment in E-beam process. Main factor was mathematically described as a function of parameters 1,4-dioxane removal efficiencies(%), TOC removal efficiencies(%) modeled by the use of the central composite design(CCD) method among the response surface methodology(RSM). Concentration of 1,4-dioxane is designated as "$x_1$" and Irradiation intensity is designated as "$x_2$". The regression equation in coded unit between the 1,4-dioxane concentration and removal efficiencies(%) was $y=71.00-10.85x_1+20.67x_2+{1.53x_1}^2-{7.92x_2}^2-1.23x_1x_2$. The regression equation in coded unit between the 1,4-dioxane concentration and TOC removal efficiencies(%) was $y=44.48-13.25x_1+9.54x_2+{5.43x_1}^2-{1.35x_2}^2+4.45x_1x_2$. The model predictions agreed well with the experimentally observed results $R^2$(Adj) over 90%. Toxicity test using algae Pseudokirchneriella Subcapitata showed that the inhibition was reduced according to increasing an E-beam irradiation.

Removal of Sulfuric Dioxide and Ammonia by using Ultraviolet (자외선을 이용한 이산화황과 암모니아의 제거)

  • 윤혁민;김창국;김희택
    • Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
    • /
    • 1999.10a
    • /
    • pp.459-460
    • /
    • 1999
  • 자외선을 이용한 분자의 광분해반응은 석유화학, 고분자합성 및 신물질 개발 등의 화학공정분야에 널리 이용되고 있으나, 기존의 환경오염물질을 처리하는 기술에 대한 응용은 아직 미역하다. 한편 전자빔이나 플라즈마를 이용한 환경오염물질의 처리방법에 대한 연구는 여러 연구기관들을 통하여 꾸준히 연구, 발표되고 있으나, 아직까지는 이러한 기술을 산업현장에 적용하기에는 실제적인 어려움과 실제 공정에 적용시 외국 기술에 비해 상대적으로 많은 비용으로 인하여 어려움을 겪고 있다.(중략)

  • PDF