• Aerospace Engineering and Technology
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• v.6 no.2
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• pp.73-78
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• 2007

In this study, we reviewed the variations of GSD, line rate of a electro-optical payload caused by the changes of operational altitude and attitude of a satellite by applying design parameters of the EC6 which is under development. we also reviewed adjustable increments/decrements of line_rate which are limited by CEU(Camera Electronic Unit) design and then the effect on the MIF(Modulation Transfer Function) performance due to the un-synchronization between line_rate of EOS and ground scan velocity of the satellite based on the design parameters of CEU to show that CEU design is appropriate in terms of line_rate control of EOS.

• The Magazine of the IEIE
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• v.22 no.3
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• pp.13-22
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• 1995

본 논문은 차세대 멀티미디어의 핵심기기 중의 하나로 주목받고 있는 고밀도 광디스크 시스템의 근간 기술인 광학계 구성 기술에 대한 설명으로서, 특히 차세대 광학계에 필수적인 적색 반도체 레이저 기술과 홀로그램 광학소자에 의한 집적화 기술의 개발 현황과, 업계에서는 처음으로 LG전자가 고밀도 광디스크 시스템에 실장한 홀로그램 적색반도체 레이저에 대하여 기술하고자 한다.

• The Optical Journal
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• s.130
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• pp.29-35
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• 2010

군사용 전자광학장비는 정보지식 기반의 현대무기체계에 필수적인 장비로 발전하고 있다. 그러나 광학부품의 원소재나 영상증폭관, 열상검출기 등의 일부 핵심부품은 여전히 해외도입에 의존하고 있으며, 항공기나 위성에 탑재되는 감시정찰용의 복합시스템에 대한 체계설계기술 역시 아직 미흡한 실정이다. 따라서 향후 군사용 전자광학장비의 완전한 자립을 위한 연구협력체 구성과 이를 통한 국제경쟁력 제고가 필요하다.

• The Optical Journal
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• s.127
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• pp.48-48
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• 2010

• Journal of IKEEE
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• v.18 no.3
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• pp.328-334
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• 2014

This paper proposes an optical encryption and decryption system for OFB(Output Feedback Block) encryption algorithm. The proposed scheme uses a dual-encoding technique in order to implement optical XOR logic operation. Also, the proposed method provides more enhanced security strength than the conventional electronic OFB method due to the huge security key with 2-dimensional array. Finally, computer simulation results of encryption and decryption are shown to verify the proposed method, and hence the proposed method makes it possible to implement more effective and stronger optical block encryption system with high-speed performance and the benefits of parallelism.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2015.08a
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• pp.229.2-229.2
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• 2015

전자현미경은 전자빔을 이용하여 나노 수준의 분해능으로 초미세 구조물을 관찰할 수 있는 측정 장치이다. 이러한 전자를 소스로 사용하는 현미경에서 전자총의 특성을 파악하는 것은 전자현미경의 광학계를 설계하거나 그 성능을 평가할 때 매우 중요하다. 본 연구에서 제작한 전자총 평가 시스템은 전자총의 특성인 각전류밀도와 가상 전자원 크기를 측정할 수 있다. 이러한 특성을 정확하게 도출하기 위해서는 우선 가상 전자원의 위치를 알아야 한다. 전자총 평가 시스템은 전자총에서 방출된 전자빔을 형광 스크린에 조사하여 전자빔을 가시광선으로 변환하고, 형광 스크린 반대편에서 광학 현미경 렌즈가 장착된 카메라를 이용하여 빛으로 변환된 전자빔을 촬영하여 영상으로 획득 할 수 있다. 본 발표는 이렇게 획득한 영상에서 MathWorks(R)사의 MATLAB(R) 소프트웨어를 이용하여 물리적인 거리를 도출하기 위하여 사용하는 영상처리기법을 소개한다. 사용한 영상처리는 픽셀을 기반으로 계산하였으며, 취득 영상의 잡음을 제거하는 방법, 형광 스크린에서 획득한 전자빔에서 전자빔의 중심점 찾는 방법 및 이동한 전자빔의 거리를 계산하는 방법 등이 있다.

• The Optical Journal
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• s.112
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• pp.33-35
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• 2007

(주)이오시스템(대표.이원승, www.eosystem.com)은 광학기기분야의 불모지나 다름없었던 1979년 설립(당시 한국광학기술개발(주))하여 국내 광학산업 기반을 개척한 기업 중 하나이다. 설립 당시부터 변함없이 '기술'중심회사를 표방하며 매진한 결과 광학설계.부품제조.완성품조립.신뢰성시험의 전 공정을 다 소화하는 회사로 성장했다. 특히 기술개발의 노력을 통해 1984년 방위산업체 지정에 이어 1986년 광학기술연구소 설립을 계기로 국내 전자광학장비 기술개발의 견인차 역할을 해왔으며, 50여명의 석.박사 연구원들의 맨 파워 성과가 첨단제품으로 실현되고 있다.

• The Optical Journal
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• no.5 s.115
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• pp.31-33
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• 2008

전자광학산업을 둘러싼 성장환경 여건은 모바일화, 디지털화, 융합화 등으로 빠르게 변화되고 있다. 이러한 변화는 광학기술, 반도체, 디스플레이 등 핵심부품은 물론 시스템의 수요 증가로 연결돼, 향후 이들 시장이 폭발적으로 늘어날 것이다. 따라서 이에 대응한 기술개발이 필요하다. 또한 친환경관련 기술이나 에너지관련 기술이 급속히 발달되고 있다. 전통산업에도 IT기반의 융합화가 계속적으로 진전됨에 따라, 이 분야의 획기적인 연구개발 투자가 필요하다. 특히 광학분야는 의료기기를 비롯한 다양한 분야에서 융합되어 발달될 것이므로 시장 사이즈가 큰 것부터 서둘러야 할 것이다.

• The Optical Journal
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• v.9 no.6 s.52
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• pp.58-68
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• 1997

• Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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• v.35D no.9
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• pp.42-47
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• 1998

We have fabricated electron-optical lens for micro E-beam system that can overcome the limitation of current E-beam lithography. Our electron-optical lens consists of multiple silicon electrodes which were fabricated by micromachining technology and assembled by anodic bonding. The assembled system was installed in UHV chamber to observe the emission characteristics of focused electrons by the electro-optical lens. We used STM(Scanning Tunneling Microscope) tip for electron source. By performing lithography with the focused electrons with PMMA(poly-methylmethacrylate) as E-beam resist. We could draw 0.13${\mu}{\textrm}{m}$ nano-scale lines.