• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 2008.08a
• /
• pp.287-287
• /
• 2008

• Proceedings of the KSME Conference
• /
• 2007.05a
• /
• pp.1277-1281
• /
• 2007

A Nano-tip as a cold field emitter for inducing a field emission current has manufactured in many ways. In the paper, the electrochemical etching method is used. Thus, in order to optimize the final shape as the field emitter, the reliable fabrication system for electrochemical etching was constructed. In addition, the effective parameters such as applied voltage, submerged length, meniscus height, electrolyte concentration and environmental condition(vibration, humidity, cut-off time) have investigated in detail. By controlling the parameters, reliable tungsten tip for field emitter was fabricated. And the fabricated tungsten tip was evaluated optically. Finally, the very sharp apex of the tungsten tip was observed with scanning electron microscope.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
• /
• v.44 no.8
• /
• pp.8-15
• /
• 2007

In this paper, we fabricated the field emitter display using oxidized porous polysilicon(OPPS). Their field emission characteristics and the brightness were investigated for each pixel. The OPPS emitter was operated to each pixel using passive matrix for application of large panel display. We set up the proper thickness and width of upper electrode. The fine structure of OPPS was analyzed and the field emission characteristics of each pixel were investigated. As a result of field emission characteristics of different upper electrode thickness and width, we confirmed that the most efficient thickness was 2nm/7nm and increased the emission efficiency over the width of 2.5 mm. Even if field emission characteristics of each pixel was a little different but we confirmed the same leakage current and emission current, emission efficiency at each pixel. The leakage current and emission current was decreased according to the time increases but all of each pixel were uniformly decreased. We confirmed that the brightness of each pixel was not different and the brightness of OPPS field emitter was 700 cd/m2 at the Vps=20 V. Accordingly, the patterned OPPS field emitter can be applied to high quality field emission display devices.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
• /
• 2003.03a
• /
• pp.123-123
• /
• 2003

탄소나노튜브는 지금까지의 많은 연구를 통해 다양한 분야에 대한 응용 가능성이 확인되었으며, 그 중에서도 특히 탄소나노튜브를 이용한 전계방출표시소자(carbon nanotube field emission display, CNT-FED)는 상용화를 눈앞에 두고 있는 상황이다. 본 연구에서는 탄소나 노튜브를 합성할 수 있는 여러 가지 방법 중에서 열화학기상증착법(thermal chemical vapor deposition, thermal CVD)을 이용하여 유리기판 위에 탄소나노튜브를 합성하였다. Electron beam evaporation으로 유리기판 위에 전극층으로 Cr을 150nm를 증착하고 연속하여 촉매층인 Invar(Fe-53%Ni-6%Co 합금)를 10nm의 두께로 형성하였다. 사진식각으로 Cr층을 line 패턴한 후 Cr line 내의 Invar층을 line 및 dot 패턴하였다. 나노튜브 합성을 위해 480-58$0^{\circ}C$까지 진공분위기 또는 질소 분위기에서 20분간 승온한 후 CO(150sccm)와 H$_2$(1200sccm)를 주입하여 20분간 성장시키고 질소 분위기에서 냉각시켰다. 성장된 탄소나노튜브는 SEM, TEM, Raman spectroscopy 등을 통하여 구조 및 형상분석을 하였다. 진공승온의 경우 탄소불순물인 a-C이 많은 양 증착 되었으며 탄소나노튜브는 온도에 따라 1-5$\mu\textrm{m}$의 두께로 성장하였으나, 질소분위기 승온의 경우는 a-C이 거의 증착되지 않았으며 나노튜브의 두께가 10-20$\mu\textrm{m}$였다. 본 연구에서는 diode구조를 갖는 탄소나노튜브 에미터의 수명예측을 위해 여러 가지 가속측정조건에서 전계방출 특성을 연구하였다. Anode와 cathode 간의 간격을 400$\mu\textrm{m}$로 유지한 diode 구조에 대해 $10^{-6}$ torr 이하의 진공에서 전계방출을 측정하였다. 100 line의 에미터를 60Hz의 주파수에서 1/100 duty로 구동하였으며, duty비 증가에 따라 pulse의 on-time을 고정하고 frequency를 변화시켰다. dc까지 duty비가 증가됨에 따라 방출전류의 양이 선형적으로 증가하였다. 전압을 일정하게 고정시키고 각 duty비에서 시간에 따라 방출전류를 측정한 결과 duty비가 높을수록 방출전류가 시간에 따라 급격히 감소하였다. 각 duty비에서 방출전류의 양이 1/2로 감소하는 시점을 에미터의 수명으로 볼 때 duty비 대 에미터 수명관계를 구해 높은 duty비에서 전계방출을 시킴으로써 실제의 구동조건인 낮은 duty비에서의 수명을 단시간에 예측할 수 있었다.

• Information Display
• /
• v.21 no.5
• /
• pp.34-39
• /
• 2020

• Information Display
• /
• v.21 no.5
• /
• pp.40-44
• /
• 2020

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 1996.02a
• /
• pp.47-48
• /
• 1996

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 1999.02a
• /
• pp.89-89
• /
• 1999

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 1999.02a
• /
• pp.33-33
• /
• 1999

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
• /
• 1999.07a
• /
• pp.126-126
• /
• 1999

본 실험의 목적은 FED의 상부, 하부 전극으로 사용되는 Mo를 건식, 습식 식각함으로써 DED 소자의 공정을 개발하는 것이다. Mo는 $261^{\circ}C$의 높은 융점을 지니고 있으며, 우수한 열적 안정성과 비교적 낮은 비저항을 가지는 재료로써 FED와 같은 전계 방출 소자의 cathod 팁 및 전극물질로 사용되어지는 가장 보편적인 물질이다. FED와 같은 전계방출소자가 갖추어야 할 요건은 전자 방출 영역이 소자 동작시 변형되지 않아야 하고, 기계적 ,화학적, 열적 내구성이 좋아야 함인데 이러한 요건을 충족시킬 수 있고 가장 범용적으로 사용되는 물질이 Mo이다. 실험에서 사용된 Mo는 DC magnetron sputter를 사용하여 Ar 가스를 첨가하여 5mTorr하에서 Si 기판위에 증착속도를 300$\AA$/min로 하여 1.6$\mu\textrm{m}$ 증착하였다. 본 실험의 Mo 식각은 고밀도 플라즈마원인 ICP를 이용하였다. 식각특성은 식각 가스조합, inductive power, bias voltage, 공정 압력의 다양한 공정 변수에 따른 식각특성 변화를 관찰하였다. 식각시 chlorine 가스를 주요 식각 가스로 사용하고 BCl3, O2, Ar을 첨가가스로 사용하였으며, inductive power는 300-600, bias voltage는 120-200V 사용하였고 압력은 15-30mTorr, 기판온도는 7$0^{\circ}C$로 유지하였으며 식각마스크로는 electron-beam evaporator로 1$\mu\textrm{m}$ 증착한 SiO2를 patterning하여 사용하였다. 식각속도는 stylus profiler를 이용하여 측정하였으며 식각후 profile은 scanning electron microscopy (SEM)을 통하여 관찰하였다. 실험 결과 순수한 Cl2 BCl3 가스만을 사용한 경우 보다는 Cl2 가스에 O2를 첨가하였을 때 좋은 선택비를 얻었다. 또한, inductive power와 bias voltage, Mo의 식각속도의 적절한 조절을 통해 SiO2에 대한 선택도를 변화시킬 수 있었다. Cl2:O2비를 1:1로 하고 400W/-150V, 20mTorr의 압력, 7$0^{\circ}C$ 기판온도에서 식각시 200$\AA$/min의 Mo 식각속도, SiO2와의 선택비 8:1을 얻을 수 있었다. 또한 실제 FED 소자 구조형성에 적용한 결과 비등방적인 식각형상을 형성할 수 있었다.