• Title/Summary/Keyword: 재료 패턴

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Implementation of chaotic pattern generator (카오스 패턴 발생기의 구현)

  • 박광현;박회윤;황종선;남호윤
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 1996.11a
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    • pp.365-368
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    • 1996
  • 카오스 함수인 베이커 함수를 이용하여 불규칙한 상태에 의해 카오스적인 패턴을 발생시키는 패턴 발생기를 구현하였다. 카오스적인 패턴 발생기는 예측할 수 있는 패턴들을 발생시킨다는 점에서 기존의 패턴 발생기와 흡사하지만, 패턴요소의 출력 순서는 결정론적 카오스 함수에 따른다.

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반도체 재료의 구조분석을 위한 전자선 회절패턴 형성의 연구

  • Baek, Mun-Cheol
    • ETRI Journal
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    • v.11 no.1
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    • pp.3-19
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    • 1989
  • 반도체 재료의 결정구조를 분석하기 위하여 사용되는 전자현미경의 전자선 회절패턴 형성에 대하여 연구하였다. 결정질 재료의 회절현상을 논의하기 위해 역격자이론에 대하여 간단히 살펴보고 X선과 전자선 회절패턴의 차이점 등을 고찰하였다. 파동역학에 기초한 회절물리학의 운동학 이론(kinematic theory)을 기본으로 하여 실리콘 결정에 대한 구조인자(structure factor) 및 형태인자(shape factor)를 계산하고 회절패턴으로부터 면지수를 결정하는 과정을 논의하였다. Basic program을 구성하여 전자현미경의 입력 data로부터 해당 회절패턴을 형성하도록 하였으며 이 결과는 실제의 패턴과 일치하였다. 이 program은 추후 전자현미경의 컴퓨터 시뮬레이션을 위하여 중요하게 이용될 수 있을 것으로 판단되었다.

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나노 임프린트 리소그래피 기술을 이용한 투명 전극 재료의 직접 나노 패턴 형성 기술

  • Yang, Gi-Yeon;Yun, Gyeong-Min;Lee, Heon
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.51.1-51.1
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    • 2009
  • 나노 임프린트 리소그래피 기술은 마스터 몰드 표면의 나노 패턴을 물리적인 가열, 가압 공정을 통해 기판 위의 고분자 층으로 전사시키는 기술이다. 이 기술은 기존의 노광 기술과는 다르게 직접적인 접촉을 통해 패턴을 형성하기 때문에 기능성 물질의 직접 패턴 형성이 가능한 기술이다. 투명 전극 재료는 다양한 분야으로의 응용이 가능하기 때문에 많은 연구가 진행되고 있다. ITO는 높은 투과율과 전도성 때문에 대표적인 투명 전극 물질로 사용되고 있다. 본 연구에서는 ITO nano particle solution을 이용하여 thermal 임프린팅 공정을 진행해 ITO nano pattern을 형성하는 연구를 진행하였고 이와 같은 기술을 이용하여 glass와 LED 기판에 ITO nano pillar pattern을 제작하였고 이를 주사 전자 현미경과 UV/vis를 이용하여 형성된 나노 ITO 나노 패턴의 구조와 광학적 특성을 분석하였다.

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사파이어 기판에 sub-micron급 패터닝을 위한 나노 임프린트 리소그래피 공정

  • Park, Hyeong-Won;Byeon, Gyeong-Jae;Hong, Eun-Ju;Lee, Heon
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.50.2-50.2
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    • 2009
  • 사파이어는 질화물계 광전자소자 제작 시 박막 성장 기판으로 주로 사용되어 최근 그 중요성이 부각되고 있다. 특히 미세 패턴이 형성된 사파이어 기판을 이용하여 질화물계 발광다이오드 소자를 제작하면 빛의 난반사가 증가하여 광추출효율에 큰 개선이 나타난다. 또한 사파이어는 화학적 안정성이 뛰어나고, 높은 강도를 지녀 나노임프린트 등 여러 가지 패터닝 공정에서 패턴 형성 몰드로도 응용될 수 있다. 그러나 이와 같은 사파이어의 화학적 안정성으로 인하여 sub-micron 크기의 미세 패턴을 형성하기 힘들며, 현재 사파이어의 패턴은 micron 크기로 제한되어 사용되고 있다. 본 연구에서는 나노임프린트 리소그라피(NIL)를 사용하여 사파이어 웨이퍼의 c-plane위에 sub-micron 크기의 hole 패턴 및 pillar 패턴을 형성하였다. 우선 Hole 패턴을 형성하기 위해 사파이어 기판 위에 금속 hard mask 패턴을 UV 임프린트 공정과 etch 공정을 통해 형성하였다. 그리고 이 금속 패턴을 mask로 사파이어를 ICP 식각을 하여 hole 패턴을 형성하였다. 또한 Pillar 패턴을 형성하기 위해 lift-off 공정을 이용하여 금속 마스크 패턴을 형성하였고 이를 ICP 식각을 통해 사파이어 기판 위에 pillar 패턴을 형성하였다.

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A Polynomial-Time Algorithm for Linear Cutting Stock Problem (선형 재료절단 문제의 다항시간 알고리즘)

  • Lee, Sang-Un
    • Journal of the Korea Society of Computer and Information
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    • v.18 no.7
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    • pp.149-155
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    • 2013
  • Commonly, one seeks a particular pattern suitable for stock cutting and the number of such patterns through linear programming. However, since the number of the patterns increases exponentially, it is nearly impossible to predetermine all the existing patterns beforehand. This paper thus proposes an algorithm whereby one could accurately predetermine the number of existing patterns by applying Suliman's feasible pattern method. Additionally, this paper suggests a methodology by which one may obtain exact polynomial-time solutions for feasible patterns without applying linear programming or approximate algorithm. The suggested methodology categorizes the feasible patterns by whether the frequency of first occurrence of all the demands is distributed in 0 loss or in various losses. When applied to 2 data sets, the proposes algorithm is found to be successful in obtaining the optimal solutions.

Effect of Textile Pattern on Mechanical and Impregnation Properties of Glass Fiber/Thermoplastic Composite (유리 섬유/열가소성 복합 재료의 기계적 및 함침 특성에 대한 직물 패턴의 영향)

  • Kim, Neul-Sae-Rom;Lee, Eun-Soo;Jang, Yeong-Jin;Kwon, Dong-Jun;Yang, Seong Baek;Yeom, Jung-Hyun
    • Composites Research
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    • v.31 no.6
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    • pp.317-322
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    • 2018
  • In various industry, the composite is tried to be applied to products and thermoplastic based composite is in the spotlight because this composite can be recycled. The use of continuous fiber thermoplastic (CFT) method increased gradually than long fiber thermoplastic (LFT). In this study, tensile, flexural, and impact test of different array types of glass fiber (GF)/thermoplastic composites were performed to compare with GF array. Impregnation property between GF mat and thermoplastic was determined using computed tomography (CT). At CFT method, thermoplastic film is not wet into GF roving and many voids are appeared into composite. This phenomenon affects to decrease mechanical properties. Plain pattern GF mat was the best mechanical and impregnation properties that distance between two roving was set closely to $100{\mu}m$.

나노 입자 분산 레진의 임프린트 공정을 통한 기능성 패턴 제작

  • Jo, Han-Byeol;Byeon, Gyeong-Jae;O, Sang-Cheol;Lee, -Heon
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2011.05a
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    • pp.31.1-31.1
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    • 2011
  • 현재 발광 소자, 태양전지, 디스플레이 등의 산업 분야에서는 저반사 나노 패턴, 광결정 패턴, 초소수성 나노 구조 등을 적용하여 소자의 효율을 향상시키기 위한 연구가 진행되고 있다. 하지만 이러한 기능성 패턴 제작을 위해서는 기능성 소재의 증착, 노광 공정, 식각 등의 복잡하고 고가인 공정이 필요하기 때문에 실제 적용이 어려운 한계가 있다. 이에 본 연구에서는 나노 입자가 분산된 레진을 직접 임프린팅하는 저비용의 간단한 공정으로 나노 크기에서 마이크론 크기에 이르는 다양한 기능성 패턴을 제작하였다. 구체적으로, ZnO 나노 입자를 PMMA 레진에 분산하여 나노 입자 솔루션을 제작하였고 열경화 임프린트 공정을 통해서 Si 및 글래스 기판 위에 micron 및 sub-micron 급의 격자 패턴을 형성하였다. 이후 레진에 포함되는 ZnO 나노 입자 함량비에 따른 굴절률 및 투과도와 표면 거칠기에 따른 접촉각 측정을 통해서 기능성 패턴의 광학특성 및 표면특성을 분석하였다.

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Materials for Nano Patterning in Semiconductor Fabrication; Organosilicon and High Carbon-containing Materials for Spin Coating Hardmask (반도체 나노 패터닝 구현 재료: Spin 코팅 Hardmask용 유기실리콘 및 고탄소 물질)

  • Cho, Hyeon-Mo;Cheon, Hwan-Sung;Kim, Sang-Kyun;Chang, Tu-Won;Kim, Jong-Seob
    • Polymer Science and Technology
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    • v.20 no.5
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    • pp.472-480
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    • 2009
  • 반도체 미세화가 진행되면서, 이를 성공하기 위해 많은 재료물질이 요구되어진다. 이 중 미세 패턴의 붕괴를 막고 깊은 패턴을 새기기 위해서 필요한 hardmask 재료가 있다. Hardmask는 유기실리콘 재료와 탄소 함량이 높은 재료로 주로 구성되고, 이들은 193 nm 빛과 관련된 광학적 특성을 가지면서 특정 플라즈마에 대한 에치 저항성을 가지는 물성을 가지도록 디자인/합성/배합되어져 있다. 또한, 접합되는 다른 박막과의 compatibility및 용매에 대한 solubility 등이 적절해야만 나노미터 수준의 defect 없는 패턴을 구현할 수 있다.

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기술현황분석 - EBP 알고리즘을 이용한 부분방전 패턴인식 기술 개발에 관한 연구

  • Jeong, Gyeong-Yeol;Lee, Hu-Rak;Han, Jeong-Eun;Park, Jeong-Tae;Jang, Gyeong-Seon;Kim, Yong-Sik
    • 기계와재료
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    • v.21 no.3
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    • pp.62-73
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    • 2009
  • 전력기기에서 발생하는 부분방전을 정확히 측정하고 이를 올바르게 해석하는 작업은 신뢰성 있는 진단법을 개발하고 이를 현장에 적용하는데 있어 대단히 중요하다. 측정된 고주파 데이터를 패턴 분석이 가능한 형태로 가공하는 전처리 과정을 수행하고, 가공된 데이터를 패턴인식을 통하여 기존의 각 노이즈 및 부분방전 패턴과 비교하여 실제 측정된 데이터가 어떤 부분방전 패턴인지 판단한다. 패턴 인식 처리 방법으로는 컴퓨터 분야 신경회로망의 BP 알고리즘과 SOM 알고리즘이 널리 사용되고 있으며 본 연구에서는 TF-MAP, PRPDA, EBP 알고리즘을 이용하여 부분방전 패턴인식 기술 개발에 관한 연구를 수행하였다.

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