• Title/Summary/Keyword: 자기메모리

Search Result 107, Processing Time 0.027 seconds

Effects of Shape Anisotropy on Memory Characteristics of NiFe/Co/Cu/Co Spin Valve Memory Cells (NiFe/Co/Cu/Co 스핀밸브 자기저항 메모리 셀에서 형상자기이방성이 메모리 특성에 미치는 영향)

  • 김형준;조권구;주승기
    • Journal of the Korean Magnetics Society
    • /
    • v.9 no.6
    • /
    • pp.301-305
    • /
    • 1999
  • NiFe(60$\AA$)/Co(5$\AA$)/Cu(60$\AA$)/Co(30$\AA$) spin valve thin films were patterned into magnetoresistive random access memory (MRAM) cells by a conventional optical lithography process and their output and switching properties were characterized with respect to the cell size and geometry. When 1 mA of constant sense current was applied to the cells, a few or a few tens of mV of output voltage was measured within about 30 Oe of external magnetic field, which is an adequate output property for the commercializing of competitive MRAM devices. In order to resolve the problem of increase in the switching thresholds of magnetic layers with the downsizing of MRAM cells, a new approach using the controlled shape anisotropy was suggested and interpreted by a simple calculation of anisotropy energies of magnetic layers consisting of the cells. This concept gave a reduced switching threshold in NiFe(60$\AA$)/Co(5$\AA$) layer consisting of the patterned cells from about 15 Oe to 5 Oe and it was thought that this concept would be much helpful for the realization of competitive MRAM devices.

  • PDF

자기조립된 금속나노입자를 이용한 비휘발성 메모리 소자

  • Lee, Jang-Sik
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
    • /
    • 2011.05a
    • /
    • pp.12-12
    • /
    • 2011
  • 최근 휴대용 전자기기의 사용이 증가함에 따라 비휘발성 메모리 소자에 대한 수요가 급증하고 있다. 다양한 메모리 소자 중에서 현재는 플래시 메모리를 기반으로 하는 비휘발성 메모리 소자의 연구 및 개발이 활발히 이루어지고 있으며, 플래시 메모리 소자의 경우 모든 반도체 메모리 소자 중에서 가장 빠른 발전 속도로 개발되고 있다. 이러한 플래시 메모리 소자의 발전을 기반으로 스마트폰, 디지털 카메라, 태블릿 PC 등의 개발 및 대중화를 가져왔다. 이러한 플래시 메모리를 기반으로 하는 비휘발성 메모리 소자의 경우 반도체 소자의 발전을 주도하며 발전하고 있으나, 새로운 전자기기 및 소자(flexible electronics, printed electronics, organic electronics 등) 응용을 위해서는 저비용으로 쉽게 제작할 수 있는 메모리 소자의 개발이 필요하다. 이에 적합한 메모리 소자 구조는 기존 플래시 메모리 소자와 유사한 트랜지스터 기반의 메모리 소자라고 할 수 있다. 본 발표에서는 플래시 메모리 소자와 유사한 구조 및 동작 특성을 갖는 자기조립된 금속나노입자를 정보저장층으로 이용하는 비휘발성 메모리 소자 개발에 대한 내용을 소개하고자 한다. MOS 캐패시터나 박막트랜지스터 내의 게이트 절연층에 자기조립된 금속 나노입자를 삽입하여 비휘발성 메모리 소자를 구현하였다. 게이트에 인가되는 전압에 따라 금속 나노입자 층에 전하를 trap/detrap 시킬 수 있으며, 이러한 거동에 따라 MOS 캐패시터 또는 트랜지스터 구조의 메모리 소자의 문턱전압 값이 변화하게 되어 program/erase 상태를 확인할 수 있다. 실리콘 게이트를 이용하는 메모리 소자, 다층의 정보저장층을 이용하는 메모리 소자, 프린팅 공정에 의해 형성된 메모리 소자 등 다양한 형태의 나노입자 기반 메모리 소자를 구현하였으며, 이러한 나노입자 기반 비휘발성 메모리 소자의 경우, 우수한 동작 특성 및 향상된 신뢰성을 보여주어, 차세대 메모리 소자로 이용하기에 적합한 특성을 나타내었다. 또한 대부분의 공정이 저온에서 가능하기 때문에 최종적인 메모리 소자의 플랫폼으로 플렉서블 플라스틱 기판을 이용하여, 유기트랜지스터 기반의 플렉서블 메모리 소자를 구현하였다. 본 발표에서는 다양한 형태의 나노입자 기반 비휘발성 메모리 소자의 제작 방법, 동작 특성, 신뢰성 평가 등에 대해 자세히 논의될 것이다.

  • PDF

A Study on the Magnetoresistive RAM (MRAM) Characteristics of NiFeCo/Cu/Co Trilayers (NiFeCo/Cu/Co 삼층막의 자기저항 메모리 특성에 관한 연구)

  • 김형준;이병일;주승기
    • Journal of the Korean Magnetics Society
    • /
    • v.7 no.3
    • /
    • pp.152-158
    • /
    • 1997
  • NiFeCo/ Cu /Co trilayers were formed on 4$^{\circ}$ tilt-cut Si(111) substrates with a Cu(50$\AA$) underlayer and large-scaled test magnetoresistive RAM (MRAM) cells were fabricated using a conventional lithographic process. NiFeCo / Cu /Co trilayers deposited on the same templates without any applied magnetic field showed strong in plane uniaxial magnetic anisotropy and excellent magnetoresistive (MR) properties such as high MR ration and sensitivity within a low external magnetic field, which are suitable properties for a MRAM application. In order to obtain optimized MR results in NiFeCo /Cu /Co trilayers, the thickness of Cu spacer was varied. Interlayer coupling between two magnetic layers was observed and it was found that the MR properties were strongly dependent on the coupling force, especially near 20 $\AA$ of Cu spacer thickness. Test MRAM cells were fabricated using the optimized NiFeCo (60$\AA$)/ Cu (25$\AA$)/ Co (30$\AA$) trilayer thin films. With a 10 mA of sense current and 5$\times$$10^5$ of word current, 10 mV of signal output was obtained, which implies the strong potentials of NiFeCo/ Cu /Co trilayer thin films for a MRAM application.

  • PDF

A Self-Description File System for NAND Flash Memory (낸드 플래시 메모리를 위한 자기-서술 파일 시스템)

  • Han, Jun-Yeong;Park, Sang-Oh;Kim, Sung-Jo
    • Journal of KIISE:Computing Practices and Letters
    • /
    • v.15 no.2
    • /
    • pp.98-113
    • /
    • 2009
  • Conventional file systems for harddisk drive cannot be applied to NAND flash memory, because the physical characteristics of NAND flash memory differs from those of harddisk drive. To address this problem, various file systems with better reliability and efficiency have also been developed recently. However, those file systems have inherent overheads for updating the file's metadata pages, because those file systems save file's meta-data and data separately. Furthermore, those file systems have a critical reliability problem: file systems fail when either a page in meta-data of a file system or a file itself fails. In this paper, we propose a self-description page technique and In Memory Core File System technique to address these efficiency and reliability problems, and develop SDFS(Self-Description File System) newly. SDFS can be safely recovered, although some pages fail, and improves write and read performance by 36% and 15%, respectively, and reduces mounting time by 1/20 compared with YAFFS2.

Optimizing the Cobalt Deposition Condition using the Experiment Design

  • Cheong, Seonghwee;Song, Ohsung
    • Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
    • /
    • 2002.12a
    • /
    • pp.184-185
    • /
    • 2002
  • 최신 강자성 메모리 공정과 실리콘 비메모리 공정에서 Co, Ni, Fe 등 천이금속 계열의 증착 조건이 소자의 특성 향상 및 신뢰성 향상을 위하여 중요성이 점점 중요해 지고 있다. 강자성 메모리(MRAM)의 출현과 함께 Co, Ni, Fe 등의 수십 $\AA$ 두께를 전체 기판에 대해 균일하게 증착할 요구가 생겼다. MRAM에 요구되는 자기저항특성은 이러한 박막의 수 $\AA$ 두께 변화에 급격히 변화할 수 있으므로[1,2] 원하는 두께로 균일하게 증착 할 수 있는 기술의 확보가 필요하다[3]. (중략)

  • PDF

Patent Analysis of MRAM Technology (차세대 자기저항메모리 MRAM 기술의 특허동향 분석)

  • Noh, S.J.;Lee, J.S.;Cho, J.U.;Kim, D.K.;Kim, Y.K.;Yoo, Y.M.;Ha, M.Y.;Seo, J.W.
    • Journal of the Korean Magnetics Society
    • /
    • v.19 no.1
    • /
    • pp.35-42
    • /
    • 2009
  • Among the next generation memory, MRAM (Magnetic Random Access Memory) is worthy of notice for substituting the preexisting memory thanks to its non-volatile property and other advantages. Recently perpendicular MRAM and spin transfer torque MRAM techniques are under active investigation to realize a high density and low power consumption. As a result, there are increasing of patents applications for high density, low current density for magnetization switching and high thermal stability. In this paper, we analyze the trend of patent applications and registrations about MRAM and propose a direction of future investigation.

High Density MRAM Device Technology Based on Magnetic Tunnel Junctions (자기터널접합을 활용한 고집적 MRAM 소자 기술)

  • Chun, Byong-Sun;Kim, Young-Keun
    • Journal of the Korean Magnetics Society
    • /
    • v.16 no.3
    • /
    • pp.186-191
    • /
    • 2006
  • Ferromagnetic amorphous $Ni_{16}Fe_{62}Si_8B_{14}$ and $Co_{70.5}Fe_{4.5}Si_{15}B_{10}$ layers have been devised and incorporated as free layers of magnetic tunnel junctions (MTJs) to improve MRAM reading and writing performance. The NiFeSiB and CoFeSiB single-layer film exhibited a lower saturation magnetization ($Ms=800emu/cm^3,\;and\;560emu/cm^3$, respectively) compared to that of a $Co_{90}Fe_{10}(Ms=1400emu/cm^3)$. Because amorphous ferromagnetic materials have lower Ms than crystalline ones, the MTJs incorporating amorphous ferromagnetic materials offer lower switching field ($H_{sw}$) values than that of the traditional CoFe-based MTJ. The double-barrier MTJ with an amorphous NiFeSiB free layer offered smooth surface resulting in low bias voltage dependence, and high $V_h\;and\;V_{bd}$ compared with the values of the traditional CoFe-based MTJ.

Design and Implementation of NAND Flash Memory Access Layer (NAND플래시 메모리의 효율적 사용을 위한 접근계층의 설계 및 구현)

  • 박정태;최문선;김성조
    • Proceedings of the Korean Information Science Society Conference
    • /
    • 2004.04a
    • /
    • pp.178-180
    • /
    • 2004
  • 최근 소형 모바일 기기들이 대중화되고 그 종류가 다양해지면서 플래시 메모리가 기본 저장 매체로서 많이 사용되고 있다. 플래시 메모리는 기존의 하드디스크 같은 자기 매체에 비해서 크기가 작고, 전력소모도 적으며 내구성도 높다. 멀티미디어 데이터를 다루는 기기들이 증가하면서 플래시 메모리 중에서도 비용이 저렴하고 단일 칩으로도 대용량을 가지는 NAND형 플래시 메모리를 저장장치로 사용하는 기기들이 계속해서 늘어나고 있다. NAND 플래시 메모리는 기존에 많이 사용되던 NOR 플래시 메모리와는 다른 않은 특징이 있다. 따라서 NAND 플래시 메모리에 적합한 저장 기법을 설계하기 위해서는 NAND 플래시 메모리의 특징을 잘 이해하고 이용해야 한다. 이에 본 논문에서는 NAND 플래시 메모리를 효율적으로 사용할 수 있도록 해주는 접근계층을 설계, 구현하고 이에 대한 구조와 세부 특징에 대해서 살펴본다. 본 논문에서 구현한 접근계층은 하드웨어에 종속적이지 않으며 NAND 플래시 메모리가 제공하는 다양한 기능을 상위 계층에서 충분히 활용할 수 있도록 설계되었다.

  • PDF