• Title/Summary/Keyword: 입자오염

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Simultaneous Removal of Gaseous and Particulate Pollutants in a Room With Optimal Ventilation System (최적 환기 시스템에 의한 실내에서의 가스 및 입자상 오염물의 동시 제거에 관한 연구)

  • 조용수;여석준
    • Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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    • 2003.05b
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    • pp.433-434
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    • 2003
  • 급속한 산업 발전과 더불어 산업전반에 걸쳐 환경문제가 심각해지면서 생활의 질적 향상에 따른 쾌적 환경을 추구하기 위해 실내와 작업장 내에 떠 있는 먼지나 유해가스 등의 오염물질로 인한 직업성 질병에 대한 관심이 높아지고 있다 실내ㆍ외를 불문하고 환경오염이 인체 건강 및 위생에 미치는 영향은 오염물에 대한 노출시간에 관계하기 때문에 하루의 대부분의 시간을 실내에서 생활하는 현대인에게 실내 환경의 질은 아주 중요하다. 질의 물리적 특성에 따른 가스상, 입자상의 거동 및 농도분포에 대한 수치 해석적 연구는 매우 미흡한 실정이다. (중략)

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CMB을 이용한 제주지역 대기중 미세입자의 오염원 규명에 관한 연구

  • 허철구;이기호;양순미
    • Proceedings of the Korean Environmental Sciences Society Conference
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    • 2000.05a
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    • pp.42-44
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    • 2000
  • 1999년 9월부터 2000년 2월까지 제주지역 에어로졸을 대상으로 측정분석된 자료를 토대로 오염원평가를 하고자 CMB모델을 수행하였다. 모델결과 조대입자에서는 자연적인 오염원으로 해염과 토양먼지등의 영향을 많이 받는 것으로 나타났고, 미세입자에서는 대체적으로 2차 오염물질의 영향을 많이 받고 있는 것으로 보아 오염물질이 외부에서의 유입, 대기중 오염물질의 장기체류로 인한 2차오염물질의 형성으로 사료된다.

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플라즈마 공정용 산화막 코팅부품의 신뢰성평가에 관한 연구

  • Song, Je-Beom;Lee, Ga-Rim;Sin, Jae-Su;Lee, Chang-Hui;Sin, Yong-Hyeon;Kim, Jin-Tae;Gang, Sang-U;Yun, Ju-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.151-151
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    • 2013
  • 최근 반도체 및 디스플레이 산업에서의 플라즈마 공정의 중요성은 점점 증대되고 있다. 특히, 반도체/LCD 제조공정에서의 Dry Etch공정은 디스플레이용 유리 위에 형성된 산화막, 금속입자, 박막, 및 Polymer와 같은 불순물들을 플라즈마를 이용하여 제거하는 공정이다. 플라즈마 공정을 진행하는 동안 몇 가지 문제점들이 이슈가 되고 있다. Etch공정에서는 활성 부식가스를 많이 사용하고 장시간 플라즈마에 노출되기 때문에, 진공부품들은 플라즈마에 의해서 물리적인 이온충격(Ion Bombardment)과 화학적인 Radical 반응에 의한 부식이 진행된다. 부식영향에 의해 챔버를 구성하고 있는 부품에서 균열이 발생하거나 오염입자들이 떨어져 나오게 된다. 발생한 오염입자들은 산업용 플라즈마 공정에서 매우 심각한 문제가 되고 있다. 본 연구에서는 산화막의 부식 저항특성을 측정할 수 있는 평가방법에 대하여 고찰하였고, 표준화된 데이터로 비교분석할 수 있도록 평가기준과 규정화된 피막평가방법을 연구하였다. 또한, 산화막의 특성에 따른 플라즈마 상태, 오염입자 발생 등 플라즈마 공정을 진단하여 부품재료의 수명을 예측하고, 신뢰성 있는 평가방법에 관한 연구를 하였다.

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The Development of the Contamination Prevention Module of an Optical Window Using Ultrasonic Waves (초음파를 이용한 광학창 오염방지 모듈 개발)

  • Lee, ChangHee;Jeon, KiMun;Shin, JaeSoo;Yun, JuYoung;Cho, Seonghyun;Kang, Sang-Woo
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.22 no.4
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    • pp.175-180
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    • 2013
  • We developed the contamination prevention module of an optical window for an In-Situ Particle Monitor (ISPM) system. the core part of the module is the generator of an ultrasonic wave and the module is to remove particles stuck to the window by the transfer of the wave force to the window surface. In order to enhance transfer efficiency of the waves the frequency of the ultrasonic wave was optimized and a low impedance material (plexiglass) and a soft sealing material (Si rubber) were used. The ISPM with the developed module was installed at the exhaust line of a BPSG CVD equipment and the effect of the module was verified.

PCDS: 반도체 및 디스플레이 공정 시 실시간 입자 분석 및 모니터링 방법

  • Kim, Deuk-Hyeon;Kim, Yong-Ju;Gang, Sang-U;Kim, Tae-Seong;Lee, Jun-Hui
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.70.2-70.2
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    • 2015
  • 현재 반도체 및 디스플레이이 공정 분야는 1 um 이상의 입자에서부터 10 nm이하 크기의 오염입자를 제어해야 한다. 현재 오염원인을 파악하기 위해서 사용하는 방법은 공정 완료 후 대상물(웨이퍼 및 글래스)을 CD-SEM (Critical Dimension Scanning Electron Microscope)와 같은 첨단 분석장비를 사용하여 사후 (Ex-situ) 진행하고 있다. 이러한 방법은 오염원이 이미 공정 대상물을 오염시키고 난 후 그 원인을 분석하는 방법으로 그 원인을 찾기가 어려울 뿐만 아니라, 최근 공정관리가 공정 진행 중(In-situ) 행해져야 하는 추세로 봤을 때 합당한 방법이라 할 수 없다. 이를 해결하기 위해 진공공정 중 레이저를 이용하여 측정하고자 하는 여러 시도들이 있었지만, 여전히 긍정적인 답변을 보여주지 못하고 있다. 본 발표에서 소개하는 PCDS (Particle Characteristic Diagonosis System)은 PBMS (Particle Beam Mass Spectrometer)와 SEM (Scanning Electron Microscope), 그리고 EDS (Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)를 통합하여 만든 시스템으로 진공공정 중 (In-situ) 챔버 내부에서 발생하고 있는 입자의 크기 분포, 입자의 형상, 그리고 입자의 성분을 실시간으로 분석할 수 있는 방법을 제공한다. 이러한 방법 (PCDS)에 대한 개념과 원리, 그리고 현재까지 개발된 단계에서 얻어진 결과에 대해 소개할 것이다.

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Theoretical study on the particle contamination in silane plasma reactor for semiconductor processing (반도체 제조용 사일렌 플라즈마 반응기 내에서의 입자 오염에 관한 이론적 연구)

  • 김동주;김교선
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.9 no.2
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    • pp.172-178
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    • 2000
  • We developed the model equations to investigate the particle movement and growth theoretically in a-Si plasma CVD reactor, where those particles act as the source of contamination. We included the effects of fluid convection, particle diffusion and external forces (ion drag force, electrostatic force and gravitational force) onto the particles to analyze the movements of particles in plasma reactor. Taking into account the particle charge distribution, the particle growth by coagulation between the charged particles was investigated. Most of those particles are located in the region near the sheath boundaries by the balance between the ion drag and electrostatic forces. The particle concentrations in the sheath region and in the bulk plasma region are almost zero. The sizes of the predator particles increase with time by the coagulation with protoparticles and, as a result, the surface area and the average charge of predator particles also increase with time.

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Characterization of the Nano-material U Membranes with Excellent Fouling Resistance (막 오염 저항성이 우수한 나노 소재 정밀 여과막의 특성 연구)

  • Choi Jeong Hwan;Lee Jeong Bin;Kim In-chul
    • Membrane Journal
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    • v.15 no.4
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    • pp.289-296
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    • 2005
  • In the MBR process, the membrane fouling occurs seriously on the membrane surface. In general, the membrane fouling is attributed to factors such as deposition or adhesion of sludge floc. The occurrence of fouling is a main cause of a decrease in membrane module fluk. At this study, our MBR membrane is manufactured by nano-particle with excellent anti-fouling character. The fine nano-material which can repel the sludge Hoc from the membrane surface is distributed in the membrane surface. We confirm anti-fouling effect, test continuously in the pilot site.

Evaluation of adsorption of flexography ink particle on cationic patched filler (양이온 패치된 필러를 이용한 플렉소 잉크 입자의 흡착특성 평가)

  • O, Gyu-Deok;Lee, Hak-Rae;Yun, Hye-Jeong;Kim, Jin-U
    • Proceedings of the Korea Technical Association of the Pulp and Paper Industry Conference
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    • 2010.04a
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    • pp.207-207
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    • 2010
  • 고지로부터 유입된 플렉소 잉크는 수성잉크의 고유 특성으로 인해 세척 공정을 통해서만 제거된다. 이는 다량의 용수 사용을 유도함으로서 에너지 소비 및 환경오염 요소를 증대시키는 주요 원인으로 작용하고 있다. 최근에는 이들을 효과적으로 제거하기 위한 많은 연구가 수행되고 있다. 특히 기존의 이물질 제거 방법 중에서 부유부상법을 이용한 제어 방안이 주목 받고 있으며 이는 잉크 제조 시 건조 잉크 입자의 소수성을 부여하는 방법 또는 탈묵 pH 조건에서 잉크 자체의 soluble한 요소를 최소화함으로서 잉크입자의 미분화를 최소화 하는 방안, 그리고 이와 더불어 부유부상 공정에서 효과적인 기포 부착을 유도하는 방안 강구 등 효과적인 제거를 위한 연구가 다각도로 수행 되고 있다. 이러한 연구 과정 중에 직면하고 있는 가장 큰 문제점은 플렉소 잉크가 쉽게 미분화 된다는 것이다. 특히 나노 크기로 미분화된 잉크는 세척 이외에는 제거 방법이 거의 없고 폐쇄화된 초지 공정에서 지속적인 농축을 유발하여 심각한 계 내 오염을 야기할 뿐만 아니라 기존의 수질제어 시스템에서도 효과적으로 제거되기 어렵기 때문에 수질오염을 유발하는 주요 물질로 작용하고 있다. 또 일부 잉크 입자들은 중금속을 함유하고 있어 제품에 포함될 경우 잠재적 유독물질로 작용할 수 있으며, 만일 이들을 포함한 공정수가 방류될 경우 심각한 수질오염을 유발할 수 있다. 이에 대한 심각성이 최근 중요하게 대두됨에 따라 본 연구에서는 미분화된 플렉소 잉크 입자의 제어를 위한 기초 연구로서 미분화된 잉크를 비중이 높고 상대적으로 큰 입자를 가지는 filler에 흡착시켜 제어하는 방안을 모색하였고 이는 추후 Filler에 흡착된 잉크 입자를 이용하여 침전을 통한 제거 또는 부유부상이 가능한 입자 크기로 형성시켜 제거하는 방안을 제시하기 위한 기초 연구로서 수행되었다.

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Analysis of pollutant mixing on the water surface in rivers with GPS floaters (GPS부자를 이용한 하천 표면에서의 오염물질 혼합 거동 해석)

  • Seo, Il Won;Park, Inhwan;Kim, Young Do;Han, Eun Jin
    • Proceedings of the Korea Water Resources Association Conference
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    • 2015.05a
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    • pp.103-103
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    • 2015
  • 유류유출사고와 같이 하천 수표면의 흐름에 따라 이동 확산하는 부유성 오염물질의 혼합해석을 위해 많은 연구자들은 입자추적모형을 사용한 혼합모의를 수행해왔다. 입자추적모형에서 오염물질의 혼합은 평균 유속 분포에 의한 결정론적인 이동과 난류유동에 의한 무작위적인 혼합으로 나타내며, 난류혼합에 의한 수평확산은 난류확산계수로 조절한다. 따라서 표면흐름에 의한 난류확산계수의 산정을 위해 많은 연구자들은 부유성 입자를 이용한 실내실험을 수행하여 수평확산계수를 산정했고(Engelund, 1969; Cederwall, 1971), 최근에는 GPS의 발전으로 인해 해양영역에서 GPS를 장착한 표면부자를 활용한 확산실험을 통해 수평확산계수를 산정한 바 있다(Kjellson and $D{\ddot{o}}{\ddot{o}}s$, 2012; Alpers 등, 2013). 하천수질오염사고의 약 43.5%가 유류유출에 의한 것이며(환경부, 2013), 이에 따라 표면흐름에 의한 오염물질 혼합해석이 필요하나, 하천에서 수평확산계수 산정을 위한 현장실험연구는 부족한 상황이다. 따라서 본 연구에서는 낙동강 본류에서 GPS부자를 이용한 입자추적실험을 수행하여 표면흐름에 의한 확산계수를 산정했다. GPS부자를 이용한 입자추적실험은 낙동강의 강정고령보 하류와 구미보 하류의 각각 세 지점에서 수행되었다. GPS부자는 바람에 의한 교란을 최소화하기 위해 지름 10 cm의 구형으로 제작하였으며 시범테스트를 통해 입자의 주 궤적 변화가 크지 않은 지점에 GPS부자를 투입했다. GPS부자는 오염물질의 사고유출을 가정하여 한 지점에 투입했고 GPS부자 사이의 간섭을 최소화하기 위해 25 ~ 35개의 GPS부자를 이용했다. 표면흐름에 의해 이동하는 부자의 위치는 GPS에 시계열로 저장됐고 ADCP를 이용하여 실험당시의 수리량을 측정했다. 입자위치의 시계열자료로부터 GPS부자의 확산범위의 시간변화를 계산했고 단순 모멘트법을 이용하여 종, 횡 방향 확산계수를 계산했다. 그 결과, 종 방향 확산계수는 $0.003{\sim}0.041m^2/s$로 계산되었고 횡 방향 확산 계수는 $0.001{\sim}0.012m^2/s$로 계산되어, 흐름방향의 유속성분에 의한 확산이 지배적인 것으로 나타났다. 지류 합류부에서는 이송이 지배적인 혼합이 발생되었고(Pe>1) Pe의 증가에 따라 수평확산계수가 감소되었다. 25~35개 GPS부자 궤적의 앙상블 평균으로부터 계산한 Integral time scale은 모멘트법으로부터 계산한 종, 횡 방향 확산계수와 비례하는 것으로 나타나, Taylor(1921)의 이론과 일치했다. 또한 실험수로에서 수행된 기존연구결과와 비교한 결과, 하폭 대 수심비, 마찰항의 증가에 따라 수평확산계수가 증가하는 경향을 나타내었다.

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Particle Dispersion Model Speed Improvement and Evaluation for Quick Reaction to Pollutant Accidents (신속한 오염사고 대응을 위한 입자 분산 모형의 속도 개선 및 평가)

  • Shin, Jaehyun;Seong, Hoje;Park, Inhwan;Rhee, Dong Sop
    • The Journal of the Korea Contents Association
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    • v.20 no.12
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    • pp.537-546
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    • 2020
  • This study deals with the development and improvement of a particle dispersion model for quick response to water pollutant accidents. The developed model is based on the shear dispersion theory where vertical mixing is done by step by step mixing by vertical and molecular diffusion algorithm. For the quick response to chemical accidents, an algorithm for multi-core modeling for the particle dispersion model is applied. After the application of multi-core operation using OpenMP directives to the model, the relation for the calculation time and particle size were determined along with the number of cores used for parallel programming to determine the model time for chemical accident responses. The results showed the adequate conditions for the modeling of chemical accidents for quick response and to increase the applicability of the model.