• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.02a
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• pp.532-532
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• 2012

탄소 나노튜브(carbon nanotube, CNT)를 사용하여 AC 구동 방식의 organic light emitting devices (OLED)를 만들었다. 이 소자는 ITO가 코팅된 유리 위에 유전체 층, 유기 발광층 그리고 맨 위의 금속 전극 층으로 총 3개의 층으로 구성되어있다. 유전물질로써는 cyanoethyl pullulan (CRS)를 N,N dimethylformamide (DMF) 용매에 녹여 ITO층 위에 코팅하였고, 유기발광 물질로 poly[2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene] (MEH-PPV)를 chloroform (CF)에 녹여 유전체 층 위에 코팅하였다. CNT를 MEH-PPV와 섞어서 유기발광 혼합물을 만들고 난 후, 유전체층 위에 코팅하였다. 마지막으로 알류미늄 전극을 시료 위에 코팅하였다. 소자에서 사용한 MEH-PPV에 의해 나오는 붉은색 발광을 확인 한 결과, CNT를 사용한 OLED 소자가 CNT를 사용하지 않는 소자보다 brightness가 좋았고, 전류도 더 작게 흘렀다. CNT의 농도에 따라 brightness의 변화는 경향을 나타냈다. CNT에 의한 percolation 효과 때문에 이러한 OLED 시료의 성능 향상이 이루어졌음을 입증하는 실험결과를 발표에서 설명할 예정이다.

• Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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• v.19 no.6
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• pp.1283-1288
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• 2015

In general, IC chip circuit which is operating a cryptographic computation tends to radiate stronger electromagnetic signal to the outside. By using a power detecter such as a loop antenna near cryptographic device, the encryption key can be identified by probing a electromagnetic signal. To implement a method against non-invasive type attack, multi dielectric slab structure on IC chip to suppress radiated electromagnetic signal was introduced. Multiple dielectric slab was implemented by suitably configured to have the Bragg reflection characteristics, and then the reflection response was computed and verified its effectiveness. As a result, the thickness of the dielectric coating was 2mm and the reflection response characteristics for the vertical incidence was achieved to be 91% level.

• The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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• v.14 no.11
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• pp.1225-1231
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• 2003

In this paper, we present the analysis of electromagnetic scattering from arbitrarily shaped three-dimensional conducting objects coated with dielectric materials. The integral equation treated here is the combined field integral equation(CFIE). The objectives of this paper is to illustrate that only the CFIE formulation is a valid methodology in removing the interior resonance problem, which occurs at a frequency corresponding to an internal resonance of the structure. Numerical results of radar cross section for coated conducting structures are presented and compared with other available solutions.

• Clean Technology
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• v.13 no.2
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• pp.115-121
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• 2007

In this study, we analyzed experimently the NO and $SO_2$ removal by the dielectric barrier discharge-photocatalysts hybrid process. The glass spheres were used as a dielectric material for dielectric barrier discharge and the $TiO_2$ photocatalysts were coated onto those spheres by the dip-coating method. The $TiO_2$ particles were coated in the sponge-shape, which has the larger surface area. As the voltage applied to the plasma reactor, the pulse frequency of applied voltage, or the residence time increases, the NO and $SO_2$ removal efficiencies increase. The increase in the supplied concentrations of NO and $SO_2$ leads to the higher energy for NO and $SO_2$ removal and the NO and $SO_2$ removal efficiencies decrease. These experimental results can be used as a basis to design the dielectric barrier discharge-photocatalysts hybrid process to remove NO and $SO_2$.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea TC
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• v.41 no.12
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• pp.131-137
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• 2004

In this paper, we proposed the method of the characteristic impedance and effective dielectric constant calculations of a parallel-two-wire transmission line coated with multi-layer dielectric material using conformal mapping method. First of all, we calculated the capacitance of the transmission line when coated by N layer dielectric material which has different thickness and dielectric constant and calculated the characteristic impedance and effective dielectric constant using calculated capacitances. When compared with the Maxwell 2D (made by Ansoft Corporation) simulation result calculated result was very similar to the simulation result within the four percent error range.

• Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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• v.13 no.3 s.40
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• pp.33-38
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• 2006

Aerosol slurry composed of dielectric materials, distilled water, and deflocculants was sprayed on the substrates, through a high-pressure spray gun as an aerosol. The coated layers were cofired together with $Al_{2}O_{3}$ substrates and green sheets on which the inner connectors were printed. Although the coating rate of coated layers strongly depended on slurry viscosity, spray shape, and the pressure of the spray gun, the coated density was not changed. Buried conductors were maintained as printed by high pressure spray coating method, because the pressing process was not used. At the optimum condition of air controller step 3-4 and slurry viscosity c.p 2000-4000, dense and uniform layers could be achieved. Comparing with conventional lamination process using green sheets, spray coating method enabled thin dielectric layers of $20{\sim}50{\mu}m$.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2010.06a
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• pp.311-311
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• 2010

Aerosol deposition method(ADM)은 상온에서 에어로졸화 된 고상의 원료분말을 노즐을 통해 분사시켜 소결과정을 거치지 않고도 상온에서 고밀도 후막을 제조할 수 있는 공정이다. 이러한 Aerosol deposition method의 장점은 상온에서 고밀도 후막을 제조할 수 있고, 다양한 재료의 코팅이 가능하며, 코팅층의 조성 및 화학 양론비의 제어가 용이하다. 본 연구에서는 많은 장점을 가지고 있는 Aerosol deposition method를 이용하여 높은 유전상수, 압전계수, 초전계수를 갖는 $BaTiO_3$ 분말을 원료로 하여 압전소자, 커패시터, 고전압용 유전체 등에 응용이 가능한 유전체 형성에 관한 연구를 진행하였다. 또한 $BaTiO_3$ 같은 강유전체 세라믹을 이용하여 여러 가지 소자를 제조하는 경우 소자의 미세조직에 따라 물성이 영향을 받는 것으로 확인되어져 있다. 이에 본 연구에서는 세라믹 분말보다 상대적으로 탄성이 큰 polymer 분말 중 높은 유전율을 갖고 압전특성이 있는 Polyvinyl difluoride(PVDF)를 선정하여 $BaTiO_3$ 분말에 첨가하여 동시분사법을 사용해 복합체 후막을 성장시켰고, 또한 금속 분말을 첨가하여 동시분사법을 사용해 복합체 후막을 성장시켰다. 성장된 복합체 후막은 유전율과 유전손실 그리고 leakage current, breakdown voltage, 미세구조 분석 등 다양한 분석이 이루어 졌으며, embedded capacitor 유전체 층으로 응용 가능성을 가늠하였고, 상온에서 제조된 유전체 층의 응용을 위한 최적의 공정조건을 제시하고자 한다.

• Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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• 2015.05a
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• pp.477-479
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• 2015

PUF technology is to prevent a copy of information from digital device and it can be seen whether cloning through its difference for process of implementation corresponding to wire and gate delay, etc. In this paper, multiple dielectric slabs on digital device is investigated to implement physical crypto device based on coating PUF type and its reflection characteristics is analyzed.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.209-209
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• 2011

플라즈마 공정에 있어 챔버 및 웨이퍼의 표면 상태변화는 공정 결과에 큰 영향을 끼치게 된다. 챔버 표면에 대한 연구는 많이 진행되어 있지만 대부분의 연구가 챔버 표면에서 일어나는 화학적 반응에 초점을 맞추고 있다. 본 연구에서는 플라즈마 상태 변화에 따른 챔버 표면물질의 전기적 특성 변화를 관찰하였다. 프로브 표면에 Al2O3로 코팅을 하고 플라즈마에 삽입 후 AC 하모닉법을 이용하여 실시간으로 표면의 축전용량을 측정하였다. 그 결과 표면의 축전용량은 플라즈마에 인가한 전력과 표면이 플라즈마에 노출된 시간에 따라 변하는 것이 관찰되었다. 플라즈마에 인가된 전력이 증가되면 처음에는 급격이 축전용량이 증가하였고, 그 후 시간이 지날수록 천천히 수렴되었다. 유전물질의 축전용량은 그 물질의 온도와 연관이 있다. 실험 결과로 미루어 보았을 때, 플라즈마에서의 표면의 축전용량의 변화는 플라즈마로부터 표면으로의 열전달에 의한 표면의 온도 변화에 의한 것으로 이해할 수 있다. 특히, 쉬스에서 가속되는 이온의 포격에 의해 표면 격자가 크게 진동하면서서 일반적인 온도 변화에 의한 축전용량의 변화보다 더 큰 변화가 일어난 것으로 추정된다. 공정에 사용되는 많은 챔버의 표면이나 전극의 표면은 유전체로 코팅되어 있다. 이 유전체의 특성이 온도에 의해 변하게 되면 챔버의 전기적인 특성이 변하게 되어 임피던스 매칭 조건에 변화를 가져온다. 그 결과 플라즈마의 특성도 바뀌게 되어 공정 결과에 영향을 미치게 된다. 그러므로 챔버 표면의 유전특성을 관찰하고 제어하는 것이 플라즈마의 특성을 유지시키는데 중요하다고 할 수 있다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.08a
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• pp.69-69
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• 2010

현대 건축물에서 건물에너지의 손실은 대부분은 창호를 통하여 유출되어지고 있으며 에너지 절감을 위해서는 창호의 단열성을 향상시켜야한다. 저방사(Low Emissivity) 코팅유리는 건축물의 냉난방비용을 절약할 수 있는 대표적인 건축재료로써 외부에서 유입되는 태양광의 가시광선 영역은 높은 투과율을 가지면서 적외선 영역과 겨울철 실내 난방열을 반사하는 특징을 지니는 박막코팅기술이다. 이 코팅유리는 일반적으로 유전체/금속/유전체 다층박막 구조로 되어있으며, 유전체층은 내구성 증진과 금속층의 반사를 낮추어 투과율이 향상된다. 금속층은 적외선영역의 복사에너지를 반사하는 역할을 하며 전도성이 우수한 Ag 또는 Au, Pt 등을 이용하고 있다. Ag의 경우 산화물기판 위에 증착하였을 경우 island 성장을 하고 이들의 합체는 전기적, 광학적 특성에 큰 영향을 미치게 된다. 본 연구에서는 DC-sputtering법으로 제조된 Ag/glass, Ag/Ta/glass 박막을 제조하고 Ta seeding이 Ag의 전기적, 광학적 성질에 미치는 영향을 관찰하였다. 박막의 표면 미세구조는 FE-SEM(Field Emission Scanning Electron Microscope)과 AFM(Atomic Force Microscope)으로, 표면저항은 4 point probe로 분석하였다. 광투과율은 UV-Vis spectroscopy와 FT-IR로 측정하였으며 측정파장범위는 각각 200~1100nm와 1400~2400nm 이다.