$NF_3$ 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 SiC 단결정 식각에 관한 연구
(A Study on the reactive ion etching of SiC single crystals using inductively coupled plasma of $NF_3$ -based gas mixtures)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2001년도 추계 학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.156-156
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- 2001