$NF_3$ 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 SiC 단결정 식각에 관한 연구

A Study on the reactive ion etching of SiC single crystals using inductively coupled plasma of $NF_3$-based gas mixtures

  • 최현준 (전남대학교 금속공학과) ;
  • 박주훈 (전남대학교 금속공학과) ;
  • 이병택 (전남대학교 금속공학과)
  • 발행 : 2001.11.01