We investigated the influence of organic solvents on the droplet properties of 6,13-bis (triisopropylsilylethynyl) pentacene (TIPS-pentacene), which was used for semiconductor of organic thin film transistors (OTFTs) and deposited by ink jet printing. From the result of the investigation, the conditions of a suitable solvent is that boiling point should be above $200^{\circ}C$ to reduce coffee stain and the surface tension above 32 dyn/cm to decrease the droplet size. Consequently, we selected tetralin which have a high boiling point ($207^{\circ}C$) and high surface tension (34.3 dyn/cm) as the solvent for TIPS-pentacene, and applied it to OTFTs. In fabrication process the conventional bank process employing photolithography and etching process was replaced by ink jet printed bank process, resulting in simplifying the process. Especially, polyvinylphenol was used for the bank, and the high hydrophobicity could improve the confinement of TIPS molecules inside the bank, enhancing the performance over the conventional hydrophilic polyvinylalcohol bank. The mobility was $0.18\;cm^2/Vs$, current on/off ratio $2.09{\times}10^5$, subthreshold slope 0.42 V/dec, and off state current $0.049\;pA/{\mu}m$.
In this study, we investigated the simultaneous detection properties of organic vapor, pressure difference, and magnetic field using a single rugate-structured free-standing porous silicon (RFPS) thin film. Both the wavelength and the intensity of the rugate peaks were changed in the reflectivity spectrum measured at the thin film surface while the organic vapor was exposed to the RFPS thin film. However, when the pressure difference and the magnetic field were exposed to the film, only the rugate peak intensity was changed. Therefore, it is possible to distinguish whether or not the organic vapor is detected by simultaneously changing the rugate peak wavelength and intensity. In addition, a method of distinguishing between the pressure difference and the magnetic field detection signal has been derived by rapidly modulating the direction of the magnetic field. This study shows that it is possible to simultaneously detect and distinguish various objects using a single RFPS thin film, and it is found that porous silicon can be utilized as a sensor sufficiently.
특정한 유기 물질에 전류를 인가했을 때 발광을 하는 특성을 이용한 Organic Light Emitting Diode (OLED)는 뛰어난 색재현성, 적은 전력소모, 간단한 제조공정, 넓은 시야각 등으로 인해 PDP, LCD, LED에 이은 차세대 디스플레이 소자로 많은 관심을 받고 있다. 하지만 OLED는 각기 다른 굴절률을 가지는 다층구조로 되어있어 실질적으로 소자 밖으로 나오는 빛은 원래 생성된 빛의 20% 정도 밖에 되지 않는다. 이러한 광 손실을 줄이기 위해 Photonic Crystal (PC)이나 마이크로 렌즈 어레이(MLA) 부착 등과 같이 특정한 크기를 갖는 주기적인 나노 구조물을 이용한 광추출 효율 상승 방법은 특정 파장의 빛에서만 효과가 있는 한계가 있었으며 고가의 공정과정을 거쳐야 했으므로 OLED 소자의 가격 향상에 일조하였다. 이의 해결을 위해 본 연구는 유리기판 위에 랜덤한 분포를 가지는 나노 구조물 제작 공정법을 제안한다. 먼저 유리기판 위에 스퍼터로 금속 박막을 입혀 이를 Rapid thermal annealing (RTA) 공정을 이용하여 랜덤한 분포의 Island를 가지는 마스크를 제작하였다. 그 후 플라즈마 식각을 이용하여 유리기판에 나노 구조물을 형성하였고 기판 위에 남아있는 마스크는 Ultrasonic cleaning을 이용하여 제거하였다. 제작된나노구조물은 200~300 nm의 높이와 약 200 nm 폭을 가지고 있다. 제작된 유리기판의 OLED 소자로의 적용가능성을 알아보기 위한 광학특성 조사결과는 300~900 nm의 파장영역에서 맨유리와 거의 비슷한 수직 투과율을 보이면서 최대 50%정도의 Diffusion 비율을 나타내고 있고 임계각(41도) 이상의각도에서 인가된 빛의 투과율에 대해서도 향상된 결과를 보여주고 있다. 제안된 공정의 전체과정 기존의 PC, MLA 등의 공정에 비해 난이도가 쉽고 저가로 진행이 가능하며 추후 OLED 소자에 적용될 시 대량생산에 적합한 후보로 보고 있다.
We have investigated the hysteresis phenomenon of a hydrogenated amorphous silicon thin film transistor (a-Si:H TFT) and analyzed the effect of hysteresis phenomenon when a-Si:H TFT is a pixel element of active matrix organic light emitting diode (AMOLED). When a-Si:H TFT is addressed to different starting gate voltages, such as 10V and 5V, the measured transfer characteristics with 1uA at $V_{DS}$ = 10V shows that the gate voltage shift of 0.15V is occurred due to the different quantities of trapped charge. When the step gate-voltage in the transfer curve is decreased from 0.5V to 0.05V, the gate-voltage shift is decreased from 0.78V to 0.39V due to the change of charge do-trapping rate. The measured OLED current in the widely used 2-TFT pixel show that a gate-voltage of TFT in the previous frame can influence OLED current in the present frame by 35% due to the change of interface trap density induced by different starting gate voltages.
IMML(Inorganic metal multi-layer) was used as cathode in the OLED devices to reduce the reflectance or ITO and increase the contrast ratio. Device structure was $ITO/{\alpha}-NPD/Alq_3:DCJTB/Alq_3/IMML/Al$. $Alq_3$ and DCJTB (4 - (dicyanomethylene) - 2 - ( 1 - propyls) 6 - methy 4H - pyrans) as host material lot red emission and red emitting guest material. IMML made three different layer: thin aluminum layer, aluminum layer doped with silicon monoxide, thick aluminum layer. The red OLED device with IMML showed the average reflectance of $4.97\%$, and then normal OLED with or without polarizer showed the average reflectance of $4.55\%$, $46\%$ at visible range from 380 nm to 780 nm. The brightness of OLED with IMML at 13 V was 5557 $cd/m^2$, and that of normal OLED with polarizer was 4872 $cd/m^2$. IMML could be the substitution for polarizer with same reflection, low cost, easy process in flat panel display market.
Optimum conditions for the deposition of N-docosylquinolium-TCNQ ultrathin organic films using the Langmuir-Blodgett etchnique and the molecular orientation and alignment of the LB films were studied. The $\pi$-A isotherm of the N-docosylquinolium-TCNQ was measured at the air-water interface varying with the subphase temperature, subphase pH, compressing speed and amounts of solutions for spreading. The LB film was deposited under the surface pressure of 30mN.m and 45mN/m and other deposition conditions. The molecular orientation and alignment of the LB films were studied by the polarization absorption technique. The $\pi$-A isotherm showed that the stable N-docosylquinolium -TCNQ monolayer was formed on the water surface at the condition of 25$^{\circ}C$,pH 5.6, molecular density of 2.1${\times}$10S014T~2.6${\times}$10S014T/cmS02T. The LB film was deposited under the surface pressure of 45mN/m had better packing density, orientation and alignment than the film of 30mN/m.
In this work, impedance Spectroscopic analysis was applied to study the effect of plasma treatment on the surface of indium-tin oxide (ITO) anodes using $CF_4g$ as and to model the equivalent circuit for organic light emitting diodes (OLEDs) with the $CF_4$ plasma treatment of ITO surface at the anodes. This device with ITO/TPD/$Alq_3$/LiF/Al structure can be modeled as a simple combination of a resistor and a capacitor. The $CF_4$ plasma treatment on the surface of ITO shifts the vacuum level of the ITO as a result of which the barrier height for hole injection at the ITO/organic interface is reduced. The Impedance spectroscopy measurement of the devices with the $CF_4$ plasma treatment on the surface of ITO anodes shows change of values in parallel resistance ($R_p$) and parallel capacitance ($C_p$).
The processing technology of organic thin-film transistors (Ons) performances have improved fur the last decade. Gate insulator layer has generally used inorganic layer, such as silicon oxide which has properties of a low electrical conductivity and a high breakdown field. However, inorganic insulating layers, which are formed at high temperature, may affect other layers termed on a substrate through preceding processes. On the other hand, organic insulating layers, which are formed at low temperature, dose not affect pre-process. Known wet-processing methods for fabricating organic insulating layers include a spin coating, dipping and Langmuir-Blodgett film processes. In this paper, we propose the new dry-processing method of organic gate dielectric film in field-effect transistors. Vapor deposition polymerization (VDP) that is mainly used to the conducting polymers is introduced to form the gate dielectric. This method is appropriate to mass production in various end-user applications, for example, flat panel displays, because it has the advantages of shadow mask patterning and in-situ dry process with flexible low-cost large area displays. Also we fabricated four by four active pixels with all-organic thin-film transistors and phosphorescent organic light emitting devices.
Electrical, optical, and structural properties of indium zinc oxide (IZO) anode films grown by a RF magnetron sputtering were investigated as functions of RF power and working pressure in pure Ar ambient. To investigate electrical, optical and structural properties of IZO anode films, 4-point probe and UV/VIS spectrometry, and X-ray diffraction (XRD) were performed, respectively. A sheet resistance of $15.2{\Omega}/{\square}$, average transmittance above 80 % in visible range, expecially above 85 % in 550 nm, and root mean square roughness of 1.13 nm were obtained from optimized IZO anode films grown in oxygen free ambient. All samples show amorphous structure regardless of RF power and working pressure due to low substrate temperature. In addition, XPS depth profile obtained from IZO/PES exhibits that there is no obvious evidence of interfacial reaction between IZO and PES substrate. Furthermore, current-voltage-luminance of the flexible phosphorescent flexible OLEDs fabricated on IZO anode shows dependence on sheet resistance of the IZO anode. These results indicate that the IZO anode is a promising candidate to substitute conventional ITO anode for high-quality flexible displays.
We have investigated gas-detection characteristics of CuTBP (Copper-tetra-tert-butylphthalocyanine) chemiresistor devices exposed to air/200ppm N $O_{2}$ gases. The CuTBP films were made by Langmuir-Blodgett (LB) techniques. Sensitivity, response time, recovery time, and reproducibility of the devices were measured by current voltage characteristics. Interdigital electrode was used to improve the sensitivity. It was observed that a conductance G increases monotonically as the number of interdigital electrode finger pairs increases. As the number of interdigital electrode finger pairs increases, the sensitivity S( $G_{gas}$/ $G_{air}$) increases more than 50 times and stable. But the response time was delayed. The average recovery time of the CuTBP chemiresistor devices turned out to be about 100 second. We have also investigated applicability of the CuTBP chemiresistor device for a gas sensor.sor.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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