• 제목/요약/키워드: 원자로 재료

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미래형원전 핵심기기용 구조재료 연구

  • 장창희
    • 기계저널
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    • 제50권3호
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    • pp.37-41
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    • 2010
  • 미래형원전은 2030년 이후 본격적인 상업화를 목표로 우리나라를 포함한 세계 각국이 경쟁적으로 개발하고 있는 원자로이다. 이 글에서는 우리나라가 중점 추진하는 미래형원전인 소듐냉각고속로(SFR) 및 초고온가스로(VHTR)의 운전특성과 핵심기기에 사용될 후보재료를 소개하고 이와 관련하여 국내에서 수행 중인 연구 현황을 소개하였다.

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특집 : 극한환경재료기술 - 지르코늄 금속의 제조 및 개발 동향

  • 이동원
    • 기계와재료
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    • 제21권4호
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    • pp.66-73
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    • 2010
  • 지르코늄은 지구상에 9번째로 풍부한 금속소재이며, 어느 금속소재 보다는 우수한 내식성을 보유하고 있으며 기계적 특성 및 열전도도가 기존의 SUS 계 및 Ti 계 소재와 유사한 특징이 있기 때문에, 핸드폰, 보철재료, 합성섬유, 석유화학 공업용 부품에 널리 사용되고 있다. 지르코늄 부품제조를 위해서는 무엇보다도 초기 금속원자재의 생산기술 확보가 선행되어야 한다. 즉, 초기 금속원자재인 지르코늄 금속스폰지의 제조기술의 확보가 필요하다. 본 고에서는 지르코늄 금속의 용도, 산업동향, 지르코늄 스폰지 제조기술 및 최근 연구개발 동향에 대해 간략히 소개하였다.

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$GaAs_{0.5}Sb_{0.5}$ 에피층의 규칙상의 원자 배열 (Atomic Arrangement of Ordered Phase in $GaAs_{0.5}Sb_{0.5}$ Epilayer)

  • 임영언
    • 한국재료학회지
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    • 제3권6호
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    • pp.678-683
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    • 1993
  • MBE법으로 $580^{\circ}C$에서 성장한 $GaAs_{0.5}Sb_{0.5}$/(001)GaAs 에피층의 원자 배열을 TEM을 이용하여 분석하였다. 1/2(111) 형의 장범위 규칙상이 $GaAs_{0.5}Sb_{0.5}$/(001)GaAs 에피층에서 발견되었다. 이 규칙상의 원자 배열은 As의 농도가 높은 {111}As 면과 Sb의 농도가 높은 {l1l}Sb 면이 V족 소격자에 교대로 나열된 구조이며, 주기는 {111} 면간 거리의 2배이다. 이 구조는 R3m 의 공간군에 속하며, 단위포는 능면체정이다.

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급냉응고된 비정질 실리콘 분말의 원자구조에 관한 연구 (Characterization of Atomic Structure in Rapidly Solidified Amorphous Silicon)

  • 김연옥
    • 한국재료학회지
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    • 제4권6호
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    • pp.644-650
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    • 1994
  • Electrohydrodynamic Atomization 급냉응고장치를 이용하여 고순도 실리콘 미세분말을 제조하여 투과전자현미경으로 미세조직과 그 응고상을 조사한 결과 직경이 60nm 이하인 분말에서 비장질상이 발견되었다. 비정질 실리콘의 원자구조를 분석하기 위하여 비정질 분말에서 얻은 전자회절 데이타를 이용하여 radial distribution function을 계산하여 해석한 결과, 실리콘의 결정구조인 다이아몬드 입방격자에서 발견되는 기본적 정사면체 배열이 비정질 실리콘의 2번째 근접원자간 거기까지 유지됨을 알 수 있었으며 이로부터 비정질 실리\ulcorner이 단범위 규칙성을 갖는 tetrahedrally coordinated random network 원자배열로 이루어짐을 알았다.

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우주선용 고온 절연체의 표면 코팅 재료 개발 (Development of protection coating material on the surface of insulation tiles of space vehicle)

  • 김영채;문세기
    • 한국결정성장학회지
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    • 제5권4호
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    • pp.370-377
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    • 1995
  • 우주 항공 기술의 첨단인 Space Shuttle Orbiter(SSO)의 두 coating material 인 Reaction Cured Glass(RCG)와 Spinel(C742)을 제조하여, 표면 위에 부딪히는 원자들의 재결합 가능성 $\gamma$를 확산반응기에서 측정하였다. SSO의 재진입 온도인 약 1000K에서 C742의 산소 원자들의 재결합 가능성 $\gamma$$3 {\times} 10^{-2}$으로 RCG에서의 $4 {\times} 10^{-4}$ 보다는 더 큰 값을 갖는다. C742에서 $\gamma$값이 더 높다는 것은 RCG에서 보다 더 많은 활성점을 갖고 있다는 것을 의미한다. 낮은 온도에서 활성점에 있는 원자의 탈착을 유도함으로써 보다 활성이 낮은 표면 코팅 재료를 개발할 수 있다.

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분자동역학을 이용한 다공성 물질 건조공정 멀티스케일 시뮬레이션(2부: 미시 물성) (Multi-scale simulation of drying process for porous materials using molecular dynamics (part 2: material properties))

  • 백성민;금영탁
    • 한국결정성장학회지
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    • 제15권4호
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    • pp.162-167
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    • 2005
  • 건조공정 중인 다공성 물질의 물성은 재료의 비균질성 즉 전위, 입자, 입계, 균열, 기공과 같은 미시적인 결함인자들의 영향을 받는다. 따라서 다공성 물질의 건조공정을 전산 시뮬레이션하기 위해서는 원자 스케일 해석을 통한 미시적 물성을 알아야 한다. 본 연구에서는 분자동역학 시뮬레이션을 이용하여 원자 모델을 구성하고 원자 상호간 거동을 예측하여 재료의 미시적 물성을 계산하였다. 이렇게 구한 탄성계수, 열팽창계수, 체적 열용량은 실험 및 이론에 기초한 결과들과 비교하여 검증하였다.