Proceedings of the Korean Society of Soil and Groundwater Environment Conference
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2004.04a
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pp.413-416
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2004
매립장 침출수로 인해 오염된 매립장 주변 지하수 정화를 위한 실내실험을 실시하였다. 오염물로는 대표적 염화용제인 TCE와 PCE, 그리고 중금속인 As, Cd, Cr, Pb에 대하여 Air-sparging, 오존 산화법, 화학적 처리방법에 의한 정화효율 실험을 실시하였다. Air-sparging은 TCE, PCE에서 높은 제거효율을 가졌으며, 오존 산화법은 Cr, Pb에서 제거 효율이 좋았다. 반응제를 첨가한 공침방법의 경우, 모든 중금속에 대하여 소석회 첨가시 매우 높은 제거효율을 보였으며, As는 황산제일철에서, Cd, Cr, Pb는 탄산칼슘과 제올라이트 첨가시 높은 제거효율을 나타내었다. 실험결과로부터, 유기오염물과 중금속이 혼합되어 나타나는 매립장 주변 오염 지하수의 경우 휘발성 유기오염물의 제거를 위해서는 폭기방법이, 중금속의 경우에는 공침방법에 의해 수산화물, 탄산염으로 만들어 고형물로 처리하는 방법이 제거효과가 좋은 것으로 나타났다.
Gwon, Tae-Yeong;Prasad, Y. Nagendra;Venkatesh, R. Prasanna;Park, Jin-Gu
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2011.05a
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pp.32.2-32.2
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2011
반도체 생산공정에서 CMP (Chemical-mechanical planarization) 공정은 우수한 전기전도성 재료인 Cu의 사용과 다층구조의 소자를 형성하기 위해서 도입되었으며, 최근 소자의 집적도가 증가함에 따라 CMP 공정 비중은 점점 높아지고 있다. Cu CMP 공정에서 연마제인 슬러리는 금속 표면과의 물리적 화학적 반응을 동시에 사용하여 표면을 연마하게 되며, 연마특성을 향상시키기 위해 산화제, 부식방지제, 분산제 및 다양한 계면활성제가 첨가된다. 하지만 슬러리는 Cu 표면을 평탄화하는 동시에 오염입자, 유기오염물, 스크레치, 표면부식 등을 발생시키며 결과적으로 소자의 결함을 야기시킨다. 특히 부식방지제로 사용되는 BTA (Benzotriazole)은 Cu CMP 공정 중 Cu-BTA 형태로 표면에 흡착되어 오염원으로 작용하며 입자오염을 증가시시고 건조공정에서 물반점 등의 표면 결함을 발생시킨다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 Cu 표면에서 식각과 부식반응을 최소화하며, 오염입자 제거 및 유기오염물을 효과적으로 제거하기 위한 Post-CMP 세정 공정과 세정액 개발이 요구된다. 본 연구에서는 오염입자 및 유기물 제거와 동시에 표면 거칠기와 부식현상을 제어할 수 있는 post Cu CMP 세정액을 개발 평가하였다. 오염입자 및 유기오염물을 제거하기 위해서 염기성 용액인 TMAH 사용하였으며, Cu 이온을 용해할 수 있는 Chelating agent와 표면 부식을 억제하는 부식 방지제를 사용하여 세정액을 합성하였다. 접촉각 측정과 FESEM(field Emission Scanning Electron Microscope) 분석을 통하여 CMP 공정에서 발생하는 유기오염물과 오염입자의 흡착과 제거를 확인하였으며 Cu 웨이퍼 세정 전후의 표면 거칠기의 변화와 식각량을 AFM(Atomic Force Microscope)과 4-point probe를 사용하여 각각 평가하였다. 또한 세정액 내에서의 연마입자의 zeta-potential을 측정 및 조절하여 세정력을 향상시켰다. 개발된 세정액과 Cu 표면에서의 화학반응 및 부식방지력은 potentiostat를 이용한 전기화학 분석법을 통해서 chelating agent와 부식방지제의 농도를 최적화 시켰다. 개발된 세정액을 적용함으로써 Cu-BTA 형태의 유기오염물과 오염입자들이 효과적으로 제거됨을 확인하였다.
본 발명은 승화성 고체 미립자 제트를 이용한 분사로 표면의 오염물을 제거하는 공정이다. 이는 극저온에서 고화된 입자가 표면에 고속 충돌 후 오염물을 제거하고 자신은 승화되어 잔사를 남기지 않는 청정 세척 공정을 말하는데 반도체 장비, 정밀 제품, 인쇄회로 기판 등의 다양한 표면의 각종 오염막 제거에 널리 사용될 수 있다. 본 장치의 특징은 세정 매체인 $CO_2$와 Carrier gas인 $N_2$를 사용하였고 현재 특허에 출원되어 있는 단순한 액체$CO_2$를 이용한 세정범위를 넘어 다양한 세정매체 즉, 복합인자($CO_2$ + ice, Ar + ice)를 이용하여 세정효율의 다변화를 이루었고 자체 개발한 냉동기를 이용하여 고화율이 액체 $CO_2$보다 상대적으로 낮은 기체 $CO_2$의 고화율을 증대 시킴으로써, 세정매체의 소모시간이 현격히 감소되어 원가절감 효과를 증대 시켰다. 세정대상물을 효과적으로 제거하기 위해 주 세정 매체인 $CO_2$의 수농도를 조절할 수 있는 Multi-Nozzle의 개발과 이로 인하여 세정력의 강도를 조절하도록 하였다. 세정 후 발생되는 오염입자를 효과적으로 제거하도록 국부 Exhaust를 Nozzle전단에 달아 재 오염의 방지효과를 극대화 시켰다.
Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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2000.11a
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pp.409-410
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2000
생물여과 (biofiltration)로 알려진 기술은 오염물을 gas stream이나 liquid stream을 사용하여 생물학적으로 처리할 수 있다. 주요 방법으로 생물세정 방법과 생물여과의 두 방법을 사용하고 있다. 오염물질 제거효율에 영향을 미치는 인자로는 오염물질의 종류와 특징, 오염물질의 유입농도, 충진물의 종류와 형상, 오염물질이 충진물에 머무름 시간 등이 있다. 일반적으로 생물 여과에 있어서 반응기의 충진물로 compost, peat, wood chips와 토양을 이용하거나 또는 활성이 없는 합성 매체를 이용하기도 한다(Leson and Winer, 1991). (중략)
Proceedings of the Membrane Society of Korea Conference
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1994.10a
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pp.12-13
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1994
막분리 공정을 이용하여 수용액상에 존재하는 유기 오염물질을 제거하기 위해서는 역삼투나 투과중발법의 도입이 필요하다. 그러나 두가지 공정 모두 대단위의 처리를 위해서는 막대한 시설$\cdot$가동비를 필요로 한다. 특히 물속에 녹아 있는 방향족 유기물들은 심각한 환경오염의 주범이 되고 있음에도 불구하고 효율적이고 경제적인 처리가 거의 이루어지지 않고 있다. Micllar enhanced ultrafiltration (MEUF) 공정은 오염물이 녹아있는 수용액에 계면활성제를 투입하여 오염물이 포함된 micelle을 형성시킨 후 이를 한외여과함으로써 계면활성제와 유기물을 동시에 제거하는 공정이다[1]. 이 공정을 이용함으로써 한외여과막의 종류, 유기 오염물의 특성에 다른 제거 효율의 변화나 최적 조업 조건 등에 대한 체계적인 연구[3,4]가 미흡한 실정이다.
반도체 소자가 고집적화 됨에 따라 단위공정의 수가 증가하게 되었고 동시에 실리콘 기판의 오염에 대한 문제가 증가하였다. 실리콘 기판의 주 오염물로는 유기물, 파티클, 금속분순물 등이 있으며 특히, Cu와 Fe과 같은 금속불순물은 이온주입 공정, reactive ion etching, photoresist ashing과 같은 실 공정 중에 1011-1013atoms/㎤정도로 오염이 되고 있다. 그러나 금속불순물 중 Cu와 같은 전기음성도가 실리콘 보다 큰 오염물질은 일반적인 습석세정방법으로는 제거하기 힘들다. 따라서 본 연구에서는 Cu와 Fe과 같은 금속불순물을 제거할 목적을 건식과 습식 세정방법을 혼합한 UV/ozone과 HF세정을 제안하여 실시하였다. CuCI2와 FeCI2 표준용액으로 실리콘 기판을 인위적 오염한 후 split 1(HF-only), split 2 (UV/ozone+HF), split 3 (UV/ozone + HF 2번 반복), split 4(UV/ozone-HF 3번 반복)를 실시하였고 TXRF(Total Reflection X-Ray Fluorescence)와 AFM(Atomic Force Microscope)으로 금속불순물 제거량과 표면거칠기를 각각 측정하였다. 또한 contact angle 측정으로 세정에 따른 표면상태도 측정하였다. TXRF 측정결과 split 4가 가장 적은 양의 금속불순물 잔류량을 보였으며 AFM 분석을 통한 표면거칠기도 가장 작은 RMS 값을 나타내었다. Contact angle 측정 결과 UV/ozone 처리는 친수성 표면을 형성하였고 HF처리는 소수성 표면을 형성하였다.
The face of the Seated Stone Buddha Korean Treasure No.84 of Sinboksa Templesite in Gangneung was contaminated with a glossy resin, spoiling its beauty. The contaminants covered the face, the forehead of the urna, to the bottom of the jaw. FT-IR analysis on a sample of the contaminants identified the substance as cyanoacrylate instant adhesive, which can normally be melted with acetone and removed with a swab. However, given that the surface of the statue was severely weathered from prolonged open-air exposure, alternative removal procedures were considered, to minimize the possibility of physical damage. After research, two removal procedures were utilized: one procedure involving poultices, which had been used to remove graffiti from the Samjeondobi Stele, and one procedure involving steam sterilization, which has been used to remove resin from pottery and porcelain. When both the poultices and steam sterilization were applied together, the resin was removed within twenty-four hours, without physical work using a swab.
Contamination of soils and groundwater by leakage of petroleum compounds from underground storage tanks (USTs) has become great environmental issues. Conventional methods such as soil vapor extraction (SVE) used for the remediation of unsaturated soils contaminated with volatile organic compounds might not be applied for the removal of semi-volatile organic compounds such as diesel fuels and PCBs, which have low volatility and high hydrophobicity. The objective of this study is to develop a hot air injection method to remove semi-volatile compounds. Additionally, operation parameters such as temperature, air flow rate, and water content are evaluated. Experimental results show that diesel ranged organics (DROs) are removed in the order of volatility of organic compounds. As expected, removal efficiency of organics is highly dependent on the temperature. It is considered that more than $90\%$ of organic contaminants whose carbon numbers range between 17 and 22 can be removed efficiently by the hot air injection-extraction method (modified SVE) over the $100^{\circ}C$. It is also found that increased air flow rate resulted in high removal rate of contaminants. However, air flow rate over 40 cc/min is not effective for the operation aspects, due to mass transfer limitation on the volatilization rate of the contaminants. The effect of the water content on the decane removal is minimal, but some components show large dependence on the removal efficiency with increasing water content.
In this research, phenol was selected as a representative hydrophilic organic compound and phenanthrene as a representative hydrophobic organic contaminant in petroleum. Fine-grained soil which was manufactured artificially in laboratory was contaminated and EK remediation tests were executed. Also, in order to increase removal efficiency, the surfactant that had been used with improvement technique at the pump-and-treat was used by enhanced method. In the test, the phenol which has high solubility is easily removed, but phenanthrene which has low solubility is almost not. Also, it seems to be the delay phenomenon that the phenanthrene is accumulated near the cathode department vicinity at the enhanced technique which applied the surfactant, but the removal efficiency increases as the surfactant concentration increases. By the test which increases with time, the enhanced method with increasing time is more efficient than the method with increasing surfactant.
Analytic research on the surface pollutant of the three storied-pagoda at the west of Gameunsaji site as well as studies of previous wet cleaning cases was undertaken in order to decide cleaning method for removing inorganic pollutants. The status of pollutant was examined by naked eye observation, SEM-EDS, XRD. Then it was compared and categorized through qualitive and quantitative analysis. The result showed that the surface pollutants consisted of iron compounds or sulfur compounds and it was crystallized in the form of circle, oval, needle, etc. Result, Low-pressure rotating vortex process cleaning, with which particular matters are sprayed in swirl, is considered to be the best method to remove the pollutants.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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