• Title/Summary/Keyword: 알칸티올분자

Search Result 3, Processing Time 0.019 seconds

Laser Photo Patterning Using Organic Self-Assembled Monolayers (유기 자기조립 단분자막을 이용한 레이저 포토패터닝 기술)

  • 최무진;장원석;신보성;김재구;황경현
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
    • /
    • 2003.07a
    • /
    • pp.288-289
    • /
    • 2003
  • 금속 박막 위의 알칸티올분자의 흡착에 의한 자기조립단분자막(SAMs)은 접착 방지, 마찰 저하 등의 기능을 가진 코팅층으로서의 응용과 분자 또는 생분자의 미세 구조물 형성을 위한 방법으로 널리 연구되어지고 있다. 이러한 연구 중에서 자기조림단분자막(SAMs)의 매우 얇은 두께(수 nm)의 특성을 활용하여 AFM tip Scratching Lithography 또는 알칸티올 포토패터닝(alkanethiol Photopatterning) 방법을 사용함으로써 microscale의 패턴을 형성하는 연구 결과가 많은 이들의 관심을 받아왔다. (중략)

  • PDF

유기 자기조립 단분자막과 나노프로브 레이저 패터닝을 이용한 금속박막 미세 형상 가공 기술

  • 최무진;장원석;김재구;조성학;황경현
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
    • /
    • 2004.05a
    • /
    • pp.159-159
    • /
    • 2004
  • 금속 박막 위의 알칸티올분자의 흡착에 의한 자기조립단분자막(Self-Assembled Monolayers)은 접착 방지, 마찰 저하 등의 기능을 가진 코팅층으로서의 응용과 분자 또는 생분자의 미세 구조물 형성을 위한 방법으로 널리 연구되어지고 있다. 이러한 연구 중에서 특히 자기조립단분자막의 매우 얇은 두께와 금속 박막의 선택적 식각을 위한 안정적인 리지스트(Photo Resist)로서의 특징을 활용한 극미세 패터닝에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.(중략)

  • PDF

A Study on the Characteristics of the Functional Groups of the Alkanethiol Molecules in UV Laser Photochemical Patterning and Wet Etching Process (UV Laser를 이용한 광화학적 패터닝과 습식에칭에 따른 알칸티올 분자 작용기의 특성 연구)

  • Huh, Kab-Soo;Chang, Won-Seok
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
    • /
    • v.24 no.5
    • /
    • pp.104-109
    • /
    • 2007
  • Photochemical patterning of self-assembled mono layers (SAMs) has been performed by diode pumped solid state (DPSS) 3rd harmonic Nd:$YVO_4$ laser with wavelength of 355 nm. SAMs patternings of parallel lines have subsequently been used either to generate compositional chemical patterns or fabricate microstructures by a wet etching. This paper describes a selective etching process with patterned SAMs of alkanetiolate molecules on the surface of gold. SAMs formed by the adsorption of alkanethiols onto gold substrate employs as very thin photoresists. In this paper, the influence of the interaction between the functional group of SAMs and the etching solution is studied with optimal laser irradiation conditions. The results show that hydrophobic functional groups of SAMs are more effective for selective chemical etching than the hydrophilic ones.