Properties of ITO films deposited by r.f. magnetron sputtering method under Ar+$H_2$ gas mixture
(알곤+수소 혼합가스 분위기에서 r.f. 마그네트론 스퍼터링 방식으로 제작된 ITO 박막의 특성)
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- Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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- 2005.11a
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- pp.170-170
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- 2005